專(zhuān)利名稱(chēng)：真空燒結(jié)爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種用于生產(chǎn)燒結(jié)釹鐵硼磁體的真空燒結(jié)爐。
背景技術(shù)：
燒結(jié)是生產(chǎn)燒結(jié)釹鐵硼磁體的必經(jīng)步驟，這個(gè)步驟通常在真空燒結(jié)爐中進(jìn)行。在以往的真空燒結(jié)爐中，例如CN2044710和CN2781304，加熱室的形狀為水平放置的長(zhǎng)方體或圓筒形，作為加熱元件的鑰絲或鑰片呈環(huán)狀地分布在加熱室四周的內(nèi)壁上。在燒結(jié)過(guò)程中，鑰絲或鑰片發(fā)出的熱以熱輻射的方式到達(dá)待燒結(jié)的釹鐵硼磁體，從而對(duì)它們進(jìn)行加熱。然而，這種燒結(jié)爐的加熱室，由于其加熱元件位于加熱室的四周，所發(fā)出的熱以熱輻射的方式到達(dá)待燒結(jié)的釹鐵硼磁體，因而需要較長(zhǎng)時(shí)間才能使待燒結(jié)的釹鐵硼磁體的中心溫度與外部溫度一致，例如，一般需要6小時(shí)。具體來(lái)說(shuō)，因?yàn)椴捎脽彷椛涞姆绞?，因而加熱室?nèi)的溫度分布為越遠(yuǎn)離加熱室的四周(即，越遠(yuǎn)離加熱元件)，則溫度越低。即，加熱室四周的溫度高，而中心的溫度低。這導(dǎo)致為了使位于加熱室中的待燒結(jié)的釹鐵硼磁體的中心溫度與外部溫度一致，需要較長(zhǎng)的時(shí)間，因而生產(chǎn)效率不高。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，本實(shí)用新型的ー個(gè)目的在于提供ー種真空燒結(jié)爐，使得只需較短的時(shí)間即可使待燒結(jié)的釹鐵硼磁體的中心溫度與外部溫度一致，從而提高生產(chǎn)效率。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供ー種真空燒結(jié)爐，包括爐體(I)和加熱元件
(2)，所述加熱元件(2)限定用于加熱的空間，其中，在所述空間內(nèi)，還設(shè)置有第二加熱元件
(3)，所述第二加熱元件(3)將所述空間分為多個(gè)子空間，待燒結(jié)物放置在所述子空間內(nèi)。本實(shí)用新型提供的真空燒結(jié)爐，所述第二加熱元件(3)呈板狀。本實(shí)用新型提供的真空燒結(jié)爐，所述第二加熱元件(3)由絲蜿蜒成片狀。本實(shí)用新型提供的真空燒結(jié)爐，所述第二加熱元件(3)的數(shù)量為多個(gè)。本實(shí)用新型提供的真空燒結(jié)爐，所述第二加熱元件(3)相互平行地布置。本實(shí)用新型提供的真空燒結(jié)爐，所述第二加熱元件(3)交叉地布置。本實(shí)用新型提供的真空燒結(jié)爐，由于在爐體內(nèi)設(shè)置第二加熱元件將爐體內(nèi)的空間分為多個(gè)子空間，使得不僅能從爐體四周，還能從爐體中心以熱輻射的方式對(duì)釹鐵硼磁體加熱，從而只需較短的時(shí)間即可使釹鐵硼磁體的中心溫度與外部溫度一致，從而提高生產(chǎn)效率。

圖1是根據(jù)本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施方式的真空燒結(jié)爐的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是示出加熱鑰帶的形狀的示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型。圖1是根據(jù)本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施方式的真空燒結(jié)爐的結(jié)構(gòu)示意圖。圖1是本實(shí)用新型的真空燒結(jié)爐的剖面示意圖。從圖1可以看出，真空燒結(jié)爐包括爐體1，加熱鑰絲圈2，加熱鑰帶3。爐體I由加熱鑰絲圈2加熱，構(gòu)成加熱室。在爐體I中，放置待燒結(jié)的釹鐵硼磁體4。作為加熱元件的ー個(gè)例子，加熱鑰絲圈2位于爐體I的四周，以熱輻射的方式對(duì)釹鐵硼磁體4進(jìn)行加熱。此外，在爐體I中，除了位于四周的加熱鑰絲圈2之外，在爐體I的大致中間位置還具有加熱鑰帶3 (第二加熱元件)。加熱鑰帶3將爐體I內(nèi)的空間分為左、右兩個(gè)子空間。由于設(shè)置了加熱鑰帶3，因而改變了當(dāng)僅具有加熱鑰絲圈2時(shí)爐體I內(nèi)的溫度分布。具體來(lái)說(shuō)，當(dāng)僅具有加熱鑰絲圈2時(shí)，加熱鑰絲圈2附近的溫度最高，越靠近爐體I的中心，溫度越低。相反，當(dāng)設(shè)置了加熱鑰帶3時(shí)，加熱鑰帶3附近的溫度也變高。并且，由于加熱鑰帶3將爐體I內(nèi)的大空間分為兩個(gè)子空間，因而每個(gè)子空間內(nèi)的溫度比大空間時(shí)的溫度高。由于以上兩方面的原因，與不具有加熱鑰帶3時(shí)相比，爐體I內(nèi)的溫度分布被改變，因而縮短了使釹鐵硼磁體4的中心溫度與外部溫度一致所需的時(shí)間。加熱鑰帶3可由鑰絲制成，蜿蜒成大致矩形片狀，如圖2所示。此外，加熱鑰絲圈2和加熱鑰帶3也可以由其它材料以其它方式制成，例如，鑰片、硅鑰棒、硅碳棒、石墨管等。在上述實(shí)施方式中，加熱鑰帶3的數(shù)目為ー個(gè)，但是，本實(shí)用新型不限于此，加熱鑰帶3的數(shù)目可以是多個(gè)。例如，平行設(shè)置兩個(gè)加熱鑰帶3，將爐體I內(nèi)的空間分為三個(gè)子空間；或者相互垂直地設(shè)置兩個(gè)加熱鑰帶3，將爐體I內(nèi)的空間分為四個(gè)子空間；或者平行設(shè)置三個(gè)加熱鑰帶3，將爐體I內(nèi)的空間分為四個(gè)子空間，等等。此外，還可以將ー個(gè)加熱鑰帶3形成為十字形，從而將爐體I內(nèi)的空間分為四個(gè)子空間。在上述實(shí)施方式中，加熱鑰絲圈2位于爐體I的整個(gè)內(nèi)壁，但是，本實(shí)用新型不限于此，加熱鑰絲圈2可以僅位于爐體I的部分內(nèi)壁。表I示出當(dāng)具有和不具有加熱鑰帶3吋，使釹鐵硼磁體4的中心溫度達(dá)到各溫度時(shí)所需的時(shí)間，以及總時(shí)間。在燒結(jié)釹鐵硼磁體4時(shí)，根據(jù)エ藝要求，需要使釹鐵硼磁體4的中心溫度依次達(dá)到400度、600度、850度和1070度，并且在各溫度下需要保持一段時(shí)間。表I示出了釹鐵硼磁體4的中心溫度達(dá)到上述各溫度所需的時(shí)間。表I_]
權(quán)利要求1.ー種真空燒結(jié)爐，包括爐體(I)和加熱元件(2)，所述加熱元件(2)限定用于加熱的空間，其特征在于: 在所述空間內(nèi)，還設(shè)置有第二加熱元件(3)，所述第二加熱元件(3)將所述空間分為多個(gè)子空間，待燒結(jié)物放置在所述子空間內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空燒結(jié)爐，其特征在于，所述第二加熱元件(3)呈板狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空燒結(jié)爐，其特征在于，所述第二加熱元件(3)由絲蜿蜒成片狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空燒結(jié)爐，其特征在于，所述第二加熱元件(3)的數(shù)量為多個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空燒結(jié)爐，其特征在于，所述第二加熱元件(3)相互平行地布置。
6.根據(jù) 權(quán)利要求4所述的真空燒結(jié)爐，其特征在于，所述第二加熱元件(3)交叉地布置。
專(zhuān)利摘要一種真空燒結(jié)爐，用于燒結(jié)釹鐵硼磁體，包括爐體(1)和加熱元件(2)，所述加熱元件(2)限定用于加熱的空間，其中，在所述空間內(nèi)，還設(shè)置有第二加熱元件(3)，所述第二加熱元件(3)將所述空間分為多個(gè)子空間，待燒結(jié)物放置在所述子空間內(nèi)。本實(shí)用新型的真空燒結(jié)爐，只需較短的時(shí)間即可使釹鐵硼磁體的中心溫度與外部溫度一致，從而提高生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)F27B5/14GK202915693SQ201220553780
公開(kāi)日2013年5月1日 申請(qǐng)日期2012年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月26日
發(fā)明者白曉剛, 潘廣麾 申請(qǐng)人:天津三環(huán)樂(lè)喜新材料有限公司, 北京中科三環(huán)高技術(shù)股份有限公司