用于具有敞開的通道的uv水處理設(shè)施的混合設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于具有敞開的通道的水處理設(shè)施的混合設(shè)備，所述混合設(shè)備具有基體(2)，所述基體板形地或帶形地構(gòu)成以用于固定在通道壁部上，使得設(shè)有在工作時(shí)朝向通道壁部的下側(cè)(6)和在工作時(shí)背離通道壁部的上側(cè)(5)，其中設(shè)有多個(gè)凸起(3)，所述凸起始于基體(2)，所述凸起指向遠(yuǎn)離下側(cè)(6)的方向并且延伸出由上側(cè)(5)形成的平面，并且設(shè)有多個(gè)凹部(4)，并且其中分別在兩個(gè)相鄰的凸起(3)之間設(shè)置有凹部(4)。
【專利說(shuō)明】用于具有敞開的通道的UV水處理設(shè)施的混合設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種具有權(quán)利要求1的前序部分的特征的混合設(shè)備和一種具有權(quán)利 要求8的前序部分的特征的UV水處理設(shè)施。

【背景技術(shù)】
[0002] 長(zhǎng)久已知的是：UV輻射起殺菌作用并且太陽(yáng)光中自然出現(xiàn)的UV輻射在強(qiáng)度和持 續(xù)時(shí)間充足的情況下已經(jīng)具有消毒作用。為了對(duì)水和廢水進(jìn)行消毒，在小型和大型設(shè)施中 使用UV輻射。在此，能夠在UV輻射器設(shè)置在關(guān)閉的通道中的設(shè)施和UV輻射器設(shè)置在上部 敞開的通道、所謂的槽中的設(shè)施之間進(jìn)行區(qū)分。具有敞開的槽的第二結(jié)構(gòu)類型當(dāng)前用在廢 水技術(shù)中。在此，將凈化的廢水通過(guò)敞開的通道引導(dǎo)至UV設(shè)施并且在那里加載UV輻射，以 便在一定程度上減少細(xì)菌數(shù)量，使得能夠?qū)艋膹U水例如導(dǎo)入到水域中。在此，消毒能力 能夠高至使得允許導(dǎo)入到浴場(chǎng)水中。
[0003] 廢水處理設(shè)施通常構(gòu)建成，使得水僅基于重力從入口穿過(guò)不同的處理級(jí)流動(dòng)至出 口，而不需要泵。因此，在廢水技術(shù)中的UV處理設(shè)施中也期望將流動(dòng)阻力保持得盡可能小， 以便在所計(jì)劃的流量率下實(shí)現(xiàn)同樣小的壓力損失。這種壓力損失在設(shè)施工作時(shí)將表現(xiàn)為入 口中的水位和出口中的水位之間的高度差。期望將這種高度差保持得盡可能小。
[0004] 另一方面，應(yīng)當(dāng)確保設(shè)施的消毒能力，其中設(shè)施的效率表現(xiàn)為消毒能力和所使用 的電功率之間的關(guān)系。出于經(jīng)濟(jì)性的原因，應(yīng)當(dāng)優(yōu)化該效率。出于該原因在通道中使用為基 本上細(xì)長(zhǎng)的氣體放電燈的UV福射器，更確切地說(shuō)，優(yōu)選橫向于流動(dòng)方向成排使用。多排依 次設(shè)置進(jìn)而相互錯(cuò)開，使得一排的輻射器居中設(shè)在設(shè)置在上游的排的輻射器之間。在第一 輻射器之間流過(guò)的水隨后在中央撞到隨后的輻射器上，所述輻射器居中地處于空隙之后。 在該布置中，在側(cè)向限界的通道壁和不同排的輻射器之間得到不同的間距。在具有輻射器 和通道壁之間的較大間距的區(qū)域中與在其余的區(qū)域中相比輻射量較小。該效果應(yīng)當(dāng)?shù)玫窖a(bǔ) 償，借此每個(gè)在實(shí)際中出現(xiàn)的流動(dòng)路徑獲得足夠的且盡可能相同的UV量。
[0005] 對(duì)此，從現(xiàn)有技術(shù)中已知不同的解決方案。已知的解決方案基本上基于：將具有不 同橫截面的連續(xù)的梁形的元件設(shè)置在通道的壁部上，所述元件減小相鄰的UV輻射器和通 道壁部之間的間距，即縮窄在那里形成的間隙。出版物…例如示出具有帶有各四個(gè)UV輻射 器的四排的通道，所述四排沿流動(dòng)方向依次設(shè)置并且橫向于其縱軸線迎流。輻射器因此垂 直地懸掛在敞開的槽中。在具有分別距壁部最大間距的輻射器旁邊設(shè)置有橫截面為三角形 的肋，所述肋在此縮窄在壁部和輻射器之間得到的間隙的可穿流的自由橫截面。出版物WO 2008055344A1示出同樣借助橫截面為三角形的肋工作的不同的解決方案，其中肋一方面縮 窄自由橫截面并且另一方面使流動(dòng)偏轉(zhuǎn)。
[0006] 出版物EP 0893411 Bl示出下述解決方案，在所述解決方案中，側(cè)向地在通道的壁 部上設(shè)置有L形的型材，更確切地說(shuō)也在此在UV輻射器的排依次錯(cuò)開設(shè)置的情況下分別在 邊緣側(cè)的UV輻射器具有距通道壁部最大間距的位置處設(shè)置。在此，L形的型材連續(xù)地在相 鄰的輻射器的總長(zhǎng)度之上安置在壁部上。所述型材基本上完全地偏轉(zhuǎn)該區(qū)域中的水流。其 目標(biāo)在此為：使水在邊緣區(qū)域中的流動(dòng)完全地轉(zhuǎn)向到與壁部間隔設(shè)置的輻射器上。
[0007] 因此，所描述的技術(shù)解決方案應(yīng)當(dāng)影響流過(guò)通道的水或廢水的流動(dòng)路徑，使得所 述流動(dòng)路徑在輻射器具有距相鄰的通道壁部較大間距的位置也到達(dá)較高輻射強(qiáng)度的區(qū)域 中。在此，實(shí)際上得出兩個(gè)問題。一方面，通過(guò)借助以均勻的橫截面在相鄰的輻射器的總長(zhǎng) 度之上沿著通道壁部延伸的裝置使流動(dòng)路徑完全偏轉(zhuǎn)，顯著地縮窄通道的自由橫截面，使 得在通道設(shè)施的上游側(cè)和下游側(cè)之間的壓力損失減小。另一方面，在所述裝置的區(qū)域中加 速流動(dòng)，使得流動(dòng)路徑雖然偏轉(zhuǎn)到更高強(qiáng)度的區(qū)域中，然而在那里具有更小的停留時(shí)間。以 該方式?jīng)]有優(yōu)化地實(shí)現(xiàn)所期望的增大輸送給流動(dòng)路徑的UV量的目標(biāo)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 因此，本發(fā)明的目的是，提出一種用于影響UV水處理設(shè)施中的流動(dòng)的設(shè)備，所述 設(shè)備在設(shè)施具有彼此錯(cuò)開設(shè)置的UV輻射器排的情況下優(yōu)化對(duì)邊緣側(cè)的流動(dòng)路徑的輻照。 此外，本發(fā)明的目的是提供一種UV水處理設(shè)施，其中實(shí)現(xiàn)以尤其好的效率進(jìn)行UV消毒并且 其中同時(shí)上游側(cè)和下游側(cè)之間的壓力損失是盡可能小的。
[0009] 所述目的由具有權(quán)利要求1的特征的設(shè)備和具有權(quán)利要求8的特征的設(shè)施來(lái)實(shí) 現(xiàn)。因?yàn)榛旌显O(shè)備具有在工作時(shí)伸入到通道的自由橫截面中的多個(gè)凸起，并且因?yàn)樵谕蛊?之間分別沿流動(dòng)方向觀察設(shè)有表示可穿流的自由橫截面的凹部，并且因?yàn)橥蛊鸷桶疾恐g 的沿流動(dòng)方向的有效面積的面積比〈=1，所以沖擊流接觸圍繞凸起的所有側(cè)并且尤其也 流過(guò)凹部，使得實(shí)現(xiàn)有效的渦流進(jìn)而實(shí)現(xiàn)顆粒在凹部之后重新分布，而沒有不利地提高流 動(dòng)速度并且同時(shí)通過(guò)混合設(shè)備僅引起流動(dòng)阻力少量提高，所述流動(dòng)阻力在工作時(shí)可忽略并 且尤其不引起在設(shè)施的上游側(cè)和下游側(cè)之間的明顯的壓力損失。
[0010] 因?yàn)樵诟鶕?jù)本發(fā)明的UV水處理設(shè)施中沿流動(dòng)方向觀察，在相對(duì)于通道壁部錯(cuò)開 一定間距的UV輻射器之前或者直接在其旁邊設(shè)有具有凸起和凹部的混合設(shè)備，其中混合 設(shè)備基本上平行于UV輻射器的縱軸線延伸，所以直接在相鄰的輻射器旁邊產(chǎn)生流動(dòng)路徑 的混合，所述混合用于分配包含在所述流動(dòng)路徑中的致病的細(xì)菌。由此，將在流動(dòng)路徑中靠 近通道壁部運(yùn)送的細(xì)菌更靠近UV輻射器引導(dǎo)。在此，重要的是，流動(dòng)速度總體上基本不提 高并且僅產(chǎn)生小的壓力損失。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)減小的流動(dòng)速度引起用于處于那里的致病的 細(xì)菌的更高的UV量，因?yàn)閷?duì)消毒而言決定性的UV量基本上是強(qiáng)度和停留時(shí)間的乘積。停 留時(shí)間隨流動(dòng)速度減小而增大。
[0011] 特別地，所述目的由一種用于具有敞開的通道的水處理設(shè)施的混合設(shè)備實(shí)現(xiàn)，所 述混合設(shè)備具有基體，所述基體板形地或帶形地構(gòu)成為用于固定在通道壁部上，使得設(shè)有 在工作時(shí)朝向通道壁部的下側(cè)和在工作時(shí)背離通道壁部的上側(cè)，所述目的通過(guò)下述方式實(shí) 現(xiàn)：設(shè)有多個(gè)凸起，所述凸起始于基體，所述凸起指向遠(yuǎn)離下側(cè)的方向并且延伸出由上側(cè)形 成的平面，并且設(shè)有多個(gè)凹部，其中分別在兩個(gè)相鄰的凸起之間設(shè)置有凹部。
[0012] 優(yōu)選地，凸起與基體一件式地構(gòu)成，例如由不銹鋼板構(gòu)成。
[0013] 此外，有利的是，凸起和凹部在一條直線上并排地設(shè)置。該實(shí)施方案能夠尤其簡(jiǎn)單 地制造，例如通過(guò)沖制或彎曲。
[0014] 此外，對(duì)于小的流動(dòng)阻力有利的是，在要處理的水的沿流動(dòng)方向的投影中，凸起的 面積的總和小于或等于凹部的面積的總和。特別地，所有凸起能夠相同大并且各凸起的面 積能夠小于或等于相鄰的凹部的面積。
[0015] 當(dāng)凸起的厚度等于基體的厚度時(shí)，得到簡(jiǎn)單的構(gòu)件。
[0016] 如果凸起分別通過(guò)側(cè)棱邊和前棱邊限界，其中側(cè)棱邊的長(zhǎng)度在2mm和45mm之間、 優(yōu)選在20mm和30mm之間、并且尤其為25mm，得到尤其好的功能，即在流動(dòng)阻力小的情況下 良好地混勻。前棱邊的長(zhǎng)度在2mm和IOOmm之間、優(yōu)選在25mm和50mm之間、并且尤其為 40mm 〇
[0017] 所述目的也由一種UV水處理設(shè)施實(shí)現(xiàn)，所述UV水處理設(shè)施具有上部敞開的通道 和多個(gè)設(shè)置在通道中的細(xì)長(zhǎng)的且管形的UV輻射器，其中通道具有兩個(gè)側(cè)壁和底壁，并且其 中UV輻射器平行于側(cè)壁并且不平行于底壁定向，即或者垂直地或者相對(duì)于流動(dòng)方向傾斜 地設(shè)置在通道中，這進(jìn)一步是在將至少一個(gè)具有多個(gè)凸起的混合設(shè)備設(shè)置在平行于輻射器 的側(cè)壁上，使得這些凸起在工作時(shí)伸入到通道的自由橫截面中的情況下。
[0018] 優(yōu)選地，分別沿流動(dòng)方向觀察分別在兩個(gè)凸起之間設(shè)有凹部，所述凹部表示可穿 流的自由橫截面。
[0019] 當(dāng)凸起的沿流動(dòng)方向的有效面積與凹部的相應(yīng)的面積的面積比小于或等于1時(shí)， 在壓力損失小的情況下得到在邊緣側(cè)在通道中流動(dòng)的水的尤其好的混合。
[0020] 優(yōu)選地，沿流動(dòng)方向觀察，至少一個(gè)混合設(shè)備在上游設(shè)置在相鄰的UV輻射器之前 或者直接設(shè)置在其旁邊。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021] 下面根據(jù)附圖描述本發(fā)明的實(shí)施例。附圖示出：
[0022] 圖1示出具有矩形凸起的混合設(shè)備的立體圖；
[0023] 圖2示出具有敞開的槽和裝入其中的根據(jù)圖1的混合設(shè)備的UV水處理設(shè)施；以及
[0024] 圖3示出圖2中的水處理設(shè)備的具有模擬的流動(dòng)路徑的水平截面。

【具體實(shí)施方式】
[0025] 圖1示出根據(jù)本發(fā)明的混合設(shè)備的立體圖?；旌显O(shè)備1具有細(xì)長(zhǎng)的、板形的基體 2和始于該基體的凸起3。凸起3通過(guò)位于其之間的凹部4彼此間隔開。
[0026] 詳細(xì)地，基體3構(gòu)成為金屬帶。所述金屬帶具有上側(cè)5和在圖1中不可見的下側(cè) 6?；w2由總共六個(gè)長(zhǎng)孔7穿過(guò)，所述長(zhǎng)孔用于將混合設(shè)備1固定在水處理設(shè)備的通道的 壁部上。凸起3-件式地連接于基體2并且相對(duì)于上側(cè)5的平面向上彎曲。凸起3具有側(cè) 棱邊8和前棱邊9。側(cè)棱邊8彼此平行地伸展，而前棱邊9大致與側(cè)棱邊8成直角地伸展并 且將所述側(cè)棱邊彼此連接。存在基本上矩形的凸起3。
[0027] 凹部4設(shè)置在凸起3之間。所述凹部由凸起3的側(cè)棱邊8限界。下棱邊10朝向 基體2對(duì)凹部4限界。整體上，在細(xì)長(zhǎng)的基體2的長(zhǎng)度之上得到凸起3和凹部4的規(guī)則的 序列，其中凸起3雉堞狀地伸出基體2的上側(cè)5。
[0028] 實(shí)際上，混合設(shè)備由金屬帶制成，所述金屬帶的寬度對(duì)應(yīng)于基體2的寬度加上側(cè) 棱邊8的長(zhǎng)度。因此，在所述金屬帶中切出凹部4,以便在凹部之間形成凸起3。因此，如此 產(chǎn)生的凸起3以在圖1中可見的方式大致成直角地向上從上側(cè)5的平面中彎曲。
[0029] 在凹部4的區(qū)域中，基體2完全是平坦的，使得在兩個(gè)相鄰的凸起3之間沒有材料 向上伸出基體2的上側(cè)5。在側(cè)棱邊8與前棱邊9和下棱邊10成直角地取向的實(shí)施方式 中，通過(guò)前棱邊9與下棱邊10的長(zhǎng)度比來(lái)進(jìn)行確定。如果前棱邊9和下棱邊10的長(zhǎng)度相 同，那么凸起3和凹部4之間的面積比是1:1。因?yàn)楦鶕?jù)圖1的混合設(shè)備在工作時(shí)以下側(cè)6 安置到通道的壁部上并且沿流動(dòng)箭頭11的方向迎流，所以該比值也確定流動(dòng)阻力。對(duì)于盡 可能小的流動(dòng)阻力有利的是，凸起3的面積小于或等于凹部4的面積，因此在矩形的凸起3 和凹部4的情況下，前棱邊9的長(zhǎng)度小于或等于下棱邊10的長(zhǎng)度。
[0030] 側(cè)棱邊8的長(zhǎng)度確定凸起9伸入到水流中并且攪動(dòng)所述水流的程度。現(xiàn)在優(yōu)選的 是，側(cè)棱邊8不超過(guò)45mm的長(zhǎng)度，優(yōu)選地具有20至25mm的長(zhǎng)度。
[0031] 還可以考慮混合設(shè)備的其他的結(jié)構(gòu)形式，所述結(jié)構(gòu)形式與圖1的矩形的、接合狀 (zementfdrmig )的造型不同。因此,凸起在沒有示出的實(shí)施方式中也能夠是梯形的或 三角形的。那么，凸起之間的凹部得到與之互補(bǔ)的形狀。又重要的是，凸起和凹部之間的面 積比與幾何造型無(wú)關(guān)地小于或等于1。
[0032] 在圖2中示出UV水處理設(shè)施的立體圖。
[0033] 設(shè)施具有帶有側(cè)壁16和底壁17的向上敞開的通道15。在工作中由廢水流過(guò)的通 道15中設(shè)有輻射器裝置18,所述輻射器裝置包括多個(gè)UV輻射器19。輻射器19的結(jié)構(gòu)類 型是已知的。其為所謂的UV水銀低壓輻射器。在圖2中，從后向前沿流動(dòng)箭頭11的方向 流過(guò)設(shè)施。
[0034] 為了高的輻射強(qiáng)度，在設(shè)施中設(shè)有多個(gè)輻射器19。詳細(xì)地，圖2中的設(shè)施總共包括 24個(gè)福射器19。福射器以各六個(gè)福射器成一排橫向于流動(dòng)方向11定向。各具有六個(gè)福射 器的總共四排在流動(dòng)方向11上依次設(shè)置。因此，在圖2中可見四排中沿流動(dòng)方向的最后一 排。僅可見該最后一排的總共六個(gè)輻射器19中的五個(gè)，因?yàn)樵趫D2中左側(cè)最靠外的輻射器 通過(guò)立體圖由側(cè)壁16遮擋。
[0035] 在圖2中右側(cè)的輻射器19具有距相鄰的側(cè)壁16的相對(duì)大的間距。在所述間距中 設(shè)置有如之前參考圖1描述的混合設(shè)備1。
[0036] 混合設(shè)備1平行于輻射器19的縱軸線固定在側(cè)壁16的內(nèi)側(cè)上，更確切地說(shuō)借助 下側(cè)6貼靠在側(cè)壁16。上側(cè)5指向輻射器19。同樣地，凸起3垂直地遠(yuǎn)離側(cè)壁16指向輻 射器的方向。因此，凸起3伸入到通道15的內(nèi)部空間中。
[0037] 圖2中的UV輻射器示出UV輻射器19的結(jié)構(gòu)形式，其中各個(gè)輻射器相對(duì)于流動(dòng)方 向傾斜一定角度?；旌显O(shè)備1剛好以所述角度固定在側(cè)壁16上。UV水處理設(shè)備的更準(zhǔn)確 的構(gòu)造下面參考圖3詳細(xì)描述，所述圖3示出沿著圖2中的線III-III的水平縱截面。
[0038] 圖3示出沿著圖2中的線III-III的水平縱截面的俯視圖。具有側(cè)壁16的通道 15在此作為流動(dòng)路徑的限界示出，水在所述流動(dòng)路徑中沿流動(dòng)方向11流過(guò)水處理設(shè)備。沿 流動(dòng)方向11設(shè)置有具有各六個(gè)UV輻射器的4個(gè)排。上游的排包括六個(gè)輻射器21，第二排 包括六個(gè)輻射器22,沿流動(dòng)方向的第三排包括六個(gè)輻射器23并且最后一排包括已經(jīng)在圖2 中描述的福射器19。
[0039] 輻射器21不均勻地在通道15的寬度之上分布。更確切地說(shuō)，該排的六個(gè)輻射器 21具有彼此間均勻的間距，然而相對(duì)于流動(dòng)方向11向左、在圖3中即向上偏移，使得沿流動(dòng) 方向觀察左側(cè)的、在圖3中在上方的輻射器21與沿流動(dòng)方向右側(cè)的、在圖3中在下方示出 的輻射器21'相比更靠近側(cè)壁16安裝。在沿流動(dòng)方向右側(cè)的輻射器21'和側(cè)壁16之間因 此得到空隙，在所述空隙中設(shè)置有混合設(shè)備1。
[0040] 具有輻射器22的第二排類似地構(gòu)建。輻射器22相互間具有均勻的間距。然而， 輻射器沿流動(dòng)方向觀察向右偏移，使得在圖3中在下方示出的右側(cè)的輻射器22與沿流動(dòng)方 向左側(cè)的、在圖3中設(shè)置在上方的輻射器22'相比更靠近通道15的側(cè)壁16設(shè)置。
[0041] 相應(yīng)地，在圖3中上方的輻射器22'和通道15的側(cè)壁16之間得到空隙，在所述空 隙中又設(shè)置有混合設(shè)備1。
[0042] 福射器21 -方和福射器22另一方的排的所描述的偏移得出兩個(gè)排彼此間的定 向，其中分別將輻射器22居中地設(shè)置在兩個(gè)置于上游的輻射器21之間得出的空隙之后。 以該方式，實(shí)現(xiàn)尤其可靠的消毒裝置。在輻射器21之間穿過(guò)的顆粒幾乎居中地撞到輻射器 22上。如果所述顆粒在輻射器21之間穿過(guò)時(shí)接收相對(duì)小的UV量，那么所述顆粒在經(jīng)過(guò)隨 后的輻射器22時(shí)必然獲得更高的輻射量?；旌显O(shè)備1通過(guò)攪動(dòng)改進(jìn)在輻射器和側(cè)壁16之 間的空隙中的消毒，因?yàn)樵诖嗽诒诓扛浇荒軌驑?gòu)成流動(dòng)路徑，其中顆粒僅經(jīng)受小的UV強(qiáng) 度。此外，混合設(shè)備不引起水流沿流動(dòng)方向11的流動(dòng)路徑的顯著的偏轉(zhuǎn)，使得在該區(qū)域中 不出現(xiàn)流動(dòng)的干擾性的加速，所述加速可能引起減小UV的量。
[0043] 福射器23和19的設(shè)置相應(yīng)于福射器21和22的設(shè)置。福射器23相對(duì)于流動(dòng)方 向向左偏移，輻射器19向右偏移。在分別得到的空隙中將兩個(gè)混合設(shè)備1安裝在側(cè)壁16 上，為每個(gè)輻射器排安裝各一個(gè)混合設(shè)備。
【權(quán)利要求】
1. 一種用于具有敞開的通道的水處理設(shè)施的混合設(shè)備，所述混合設(shè)備具有基體（2)， 所述基體板形地或帶形地構(gòu)成以用于固定在通道壁部上，使得設(shè)有在工作時(shí)朝向所述通道 壁部的下側(cè)（6)和在工作時(shí)背離所述通道壁部的上側(cè)（5)，其特征在于，設(shè)有多個(gè)凸起（3)， 所述凸起始于所述基體（2)，所述凸起指向遠(yuǎn)離所述下側(cè)（6)的方向并且所述凸起延伸出 由所述上側(cè)（5)形成的平面，并且設(shè)有多個(gè)凹部（4)，其中在兩個(gè)相鄰的凸起（3)之間分別 設(shè)置有凹部（4)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的混合設(shè)備，其特征在于，所述凸起（3)是與所述基體（2) -件 式構(gòu)成的。
3. 根據(jù)上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的混合設(shè)備，其特征在于，所述凸起（3)和所述 凹部（4)是在一條直線上并排設(shè)置的。
4. 根據(jù)上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的混合設(shè)備，其特征在于，所述凸起（3)的面積 的總和小于或等于所述凹部（4)的面積的總和。
5. 根據(jù)上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的混合設(shè)備，其特征在于，所述凸起（3)同樣大， 并且各凸起（3)的面積小于或等于相鄰的凹部（4)的面積。
6. 根據(jù)上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的混合設(shè)備，其特征在于，所述凸起（3)的厚度 等于所述基體（2)的厚度。
7. 根據(jù)上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的混合設(shè)備，其特征在于，所述凸起（3)分別通 過(guò)側(cè)棱邊（3)和前棱邊（9)限界，其中所述側(cè)棱邊（8)的長(zhǎng)度在2mm和45mm之間，并且所 述前棱邊（9)的長(zhǎng)度在2mm和IOOmm之間。
8. -種UV水處理設(shè)施，所述UV水處理設(shè)施具有上部敞開的通道（15)和多個(gè)設(shè)置在 所述通道（15)中的細(xì)長(zhǎng)的且管形的UV輻射器（19,20,21，22)，其中所述通道具有兩個(gè)側(cè) 壁（16)和底壁（17)，并且其中所述UV輻射器平行于所述側(cè)壁（16)并且不平行于所述底 壁（17)定向，其特征在于，具有多個(gè)凸起（3)的至少一個(gè)混合設(shè)備（1)設(shè)置在平行于輻射 器（19, 20, 21，22)的側(cè)壁上，使得所述凸起⑶在工作時(shí)伸入到所述通道的自由橫截面中。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的UV水處理設(shè)施，其特征在于，分別沿流動(dòng)方向（11)觀察，在 各兩個(gè)凸起（3)之間設(shè)有凹部（4)，所述凹部表示能穿流的自由橫截面。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的UV水處理設(shè)施，其特征在于，所述凸起（3)和所述凹部（4) 之間的沿流動(dòng)方向（11)的有效面積的面積比小于或等于1。
11. 根據(jù)上述權(quán)利要求8至10中的任一項(xiàng)所述的UV水處理設(shè)施，其特征在于，沿流動(dòng) 方向（11)觀察，至少一個(gè)所述混合設(shè)備（1)在上游設(shè)置在相鄰的所述UV輻射器（19,20， 21，22)之前或者直接設(shè)置在相鄰的所述UV輻射器旁邊。
【文檔編號(hào)】C02F1/32GK104321135SQ201380023626
【公開日】2015年1月28日 申請(qǐng)日期:2013年3月6日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月4日
【發(fā)明者】小勒羅伊·杰克·莫寧斯塔, 斯文·克梅雷爾 申請(qǐng)人:賽萊默水解決方案赫福德有限公司