本發(fā)明涉及等離子清洗領(lǐng)域，具體為一種等離子清洗機及清洗方法。

背景技術(shù)：

1、等離子清洗機是利用電極將氣體電離成帶電離子，然后通過帶電離子對產(chǎn)品進(jìn)行清洗?，F(xiàn)有的等離子清洗裝置包括氣路總成以及反應(yīng)倉總成，反應(yīng)倉總成包括真空腔體以及設(shè)置在真空腔體內(nèi)的電極板和放料結(jié)構(gòu)。對于真空腔，現(xiàn)有的設(shè)計均是通過設(shè)置一個箱體以及一個與箱體開合的蓋板，通過蓋板的開閉實現(xiàn)真空腔體的密封與開啟，這種方式導(dǎo)致上料和下料只能從一個開口，嚴(yán)重降低了生產(chǎn)效率。

2、鑒于此，有必要提供一種等離子清洗機及清洗方法。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明提供的一種等離子清洗機及清洗方法，有效的解決了等離子清洗裝置清洗效率低下的問題。

2、本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是

3、等離子清洗機，包括氣路總成、機架、設(shè)置在機架內(nèi)的反應(yīng)倉總成，所述氣路總成穿過機架與反應(yīng)倉總成導(dǎo)通，所述反應(yīng)倉總成包括真空腔體以及設(shè)置在真空腔體內(nèi)的電極組件，所述真空腔體包括設(shè)置有入口和出口的矩形筒體、用于對入口進(jìn)行密封的前蓋板組件以及用于對出口進(jìn)行密封的后蓋板組件。

4、進(jìn)一步的是：所述電極組件包括沿左右對稱設(shè)置在真空腔體內(nèi)的一號安裝板和二號安裝板、若干兩端分別與一號安裝板和二號安裝板連接的電極板，且若干電極板沿高度方向?qū)?yīng)水平設(shè)置，每個所述電極板上設(shè)置有若干豎向孔。

5、進(jìn)一步的是：所述真空腔體內(nèi)還設(shè)置有進(jìn)料限位組件，所述進(jìn)料限位組件包括與一號安裝板對應(yīng)的一號進(jìn)料限位組件以及與二號安裝板對應(yīng)的二號進(jìn)料限位組件，所述一號進(jìn)料限位組件和二號進(jìn)料限位組件對稱。

6、進(jìn)一步的是：所述一號進(jìn)料限位組件包括沿豎向設(shè)置在真空腔體內(nèi)的豎板以及設(shè)置在豎板上的若干行程開關(guān)，所述一號安裝板上設(shè)置有若干沿水平方向延伸且沿豎向排列的一號滑槽，所述豎板設(shè)置有與一號滑槽一一對應(yīng)的二號滑槽，每個所述二號滑槽前后方向均設(shè)置有一個對應(yīng)的行程開關(guān)。

7、進(jìn)一步的是：所述前蓋板組件和后蓋板組件結(jié)構(gòu)相同，所述前蓋板組件包括沿豎向設(shè)置在機架內(nèi)的電缸、設(shè)置在電缸輸出端的蓋板，所述箱體上設(shè)置有環(huán)形密封圈，所述入口位于環(huán)形密封圈的環(huán)心內(nèi)，所述蓋板通過對環(huán)形密封圈擠壓實現(xiàn)對入口的密封。

8、進(jìn)一步的是：所述前蓋板組件還包括兩個豎向設(shè)置在機架內(nèi)分別用于對蓋板兩端進(jìn)行導(dǎo)向的導(dǎo)向板，所述導(dǎo)向板相對一側(cè)豎向設(shè)置有槽口相對的二號條形槽，所述蓋板左右兩側(cè)分別伸入兩個條形槽內(nèi)且二號條形槽的寬度大于蓋板的寬度。

9、進(jìn)一步的是：所述前蓋板組件還包括至少一個分別設(shè)置在蓋板兩側(cè)的隨動輪，所述隨動輪的端面與蓋板的側(cè)面相對，所述隨動輪的輥面與二號條形槽滾動連接，所述導(dǎo)向板設(shè)置有與二號條形槽水平導(dǎo)通的水平槽，所述水平槽位于二號條形槽向矩形筒體一側(cè)，所述蓋板進(jìn)行密封時隨動輪進(jìn)入水平槽。

10、進(jìn)一步的是：所述前蓋板組件包括若干設(shè)置在機架上的限位件，所述限位件包括與機架螺栓連接的安裝塊以及固定設(shè)置在安裝塊上的限位柱，所述限位柱上端設(shè)置有向上收縮的錐形導(dǎo)向部，所述限位柱與矩形筒體對應(yīng)，所述蓋板對入口密封時錐形導(dǎo)向部向矩形筒體一側(cè)對蓋板進(jìn)行擠壓。

11、進(jìn)一步的是：所述安裝塊設(shè)置有沿前后方向延伸的條形孔，所述機架上設(shè)置有用于與條形孔對應(yīng)的螺紋孔。

12、等離子清洗方法，采用等離子清洗機，打開前蓋板組件和后蓋板組件，然后將待清洗的產(chǎn)品隨料盤從入口放置在真空腔體內(nèi)，隨后前蓋板組件和后蓋板組件分別對入口和出口進(jìn)行密封形成真空腔，隨后通過氣路總成向真空腔內(nèi)提供氣體介質(zhì)，利用電極組件對氣體介質(zhì)進(jìn)行電離形成等離子體，利用等離子體對產(chǎn)品進(jìn)行等離子清洗。清洗完畢后打開前蓋板組件和后蓋板組件，從出口將產(chǎn)品隨料盤取出，同時從入口進(jìn)行放料。

13、發(fā)明的有益效果：通過將真空腔體設(shè)置入口和開口，通過前蓋板組件和后蓋板組件的打開實現(xiàn)自動化的放料和出料，通過前蓋板和后蓋板組件的閉合實現(xiàn)真空清洗，使得有效提高生產(chǎn)效率。

技術(shù)特征：

1.等離子清洗機，包括氣路總成(1)、機架(2)、設(shè)置在機架(2)內(nèi)的反應(yīng)倉總成(3)，所述氣路總成(1)穿過機架(2)與反應(yīng)倉總成(3)導(dǎo)通，其特征在于：所述反應(yīng)倉總成(3)包括真空腔體(31)以及設(shè)置在真空腔體(31)內(nèi)的電極組件(32)，所述真空腔體(31)包括設(shè)置有入口和出口的矩形筒體(311)、用于對入口進(jìn)行密封的前蓋板組件(312)以及用于對出口進(jìn)行密封的后蓋板組件(313)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子清洗機，其特征在于：所述電極組件(32)包括沿左右對稱設(shè)置在真空腔體(31)內(nèi)的一號安裝板(321)和二號安裝板(322)、若干兩端分別與一號安裝板(321)和二號安裝板(322)連接的電極板(323)，且若干電極板(323)沿高度方向?qū)?yīng)水平設(shè)置，每個所述電極板(323)上設(shè)置有若干豎向孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子清洗機，其特征在于：所述真空腔體(31)內(nèi)還設(shè)置有進(jìn)料限位組件(314)，所述進(jìn)料限位組件(314)包括與一號安裝板(321)對應(yīng)的一號進(jìn)料限位組件(141)以及與二號安裝板(322)對應(yīng)的二號進(jìn)料限位組件(142)，所述一號進(jìn)料限位組件(141)和二號進(jìn)料限位組件(142)對稱。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子清洗機，其特征在于：所述一號進(jìn)料限位組件(141)包括沿豎向設(shè)置在真空腔體(31)內(nèi)的豎板(412)以及設(shè)置在豎板(412)上的若干行程開關(guān)(411)，所述一號安裝板(321)上設(shè)置有若干沿水平方向延伸且沿豎向排列的一號滑槽(210)，所述豎板(412)設(shè)置有與一號滑槽(210)一一對應(yīng)的二號滑槽(120)，每個所述二號滑槽(120)前后方向均設(shè)置有一個對應(yīng)的行程開關(guān)(411)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子清洗機，其特征在于：所述前蓋板組件(312)和后蓋板組件(313)結(jié)構(gòu)相同，所述前蓋板組件(312)包括沿豎向設(shè)置在機架(2)內(nèi)的電缸(3121)、設(shè)置在電缸(3121)輸出端的蓋板(3122)，所述箱體上設(shè)置有環(huán)形密封圈(301)，所述入口位于環(huán)形密封圈(301)的環(huán)心內(nèi)，所述蓋板(3122)通過對環(huán)形密封圈(301)擠壓實現(xiàn)對入口的密封。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子清洗機，其特征在于：所述前蓋板組件(312)還包括兩個豎向設(shè)置在機架(2)內(nèi)分別用于對蓋板(3122)兩端進(jìn)行導(dǎo)向的導(dǎo)向板(3123)，所述導(dǎo)向板(3123)相對一側(cè)豎向設(shè)置有槽口相對的二號條形槽(302)，所述蓋板(3122)左右兩側(cè)分別伸入兩個條形槽(302)內(nèi)且二號條形槽(302)的寬度大于蓋板(3122)的寬度。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子清洗機，其特征在于：所述前蓋板組件(312)還包括至少一個分別設(shè)置在蓋板(3122)兩側(cè)的隨動輪(3124)，所述隨動輪(3124)的端面與蓋板(3122)的側(cè)面相對，所述隨動輪(3124)的輥面與二號條形槽(302)滾動連接，所述導(dǎo)向板(3123)設(shè)置有與二號條形槽(302)水平導(dǎo)通的水平槽(303)，所述水平槽(303)位于二號條形槽(302)向矩形筒體(311)一側(cè)，所述蓋板(3122)進(jìn)行密封時隨動輪(3124)進(jìn)入水平槽(303)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子清洗機，其特征在于：所述前蓋板組件(312)包括若干設(shè)置在機架(2)上的限位件(3125)，所述限位件(3125)包括與機架(2)螺栓連接的安裝塊(2151)以及固定設(shè)置在安裝塊(2151)上的限位柱(2152)，所述限位柱(2152)上端設(shè)置有向上收縮的錐形導(dǎo)向部(501)，所述限位柱(2152)與矩形筒體(311)對應(yīng)，所述蓋板(3122)對入口密封時錐形導(dǎo)向部(501)向矩形筒體(311)一側(cè)對蓋板(3122)進(jìn)行擠壓。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的等離子清洗機，其特征在于：所述安裝塊(2151)設(shè)置有沿前后方向延伸的條形孔(502)，所述機架(2)上設(shè)置有用于與條形孔(502)對應(yīng)的螺紋孔。

10.等離子清洗方法，采用權(quán)利要求1至權(quán)利要求9任意一項所述的等離子清洗機，其特征在于：打開前蓋板組件(312)和后蓋板組件(313)，然后將待清洗的產(chǎn)品隨料盤從入口放置在真空腔體(31)內(nèi)，隨后前蓋板組件(312)和后蓋板組件(313)分別對入口和出口進(jìn)行密封形成真空腔，隨后通過氣路總成(1)向真空腔內(nèi)提供氣體介質(zhì)，利用電極組件(32)對氣體介質(zhì)進(jìn)行電離形成等離子體，利用等離子體對產(chǎn)品進(jìn)行等離子清洗，清洗完畢后打開前蓋板組件(312)和后蓋板組件(313)，從出口將產(chǎn)品隨料盤取出，同時從入口進(jìn)行放料。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了等離子清洗機及清洗方法，包括氣路總成、機架、反應(yīng)倉總成，反應(yīng)倉總成包括真空腔體以及電極組件，真空腔體包括設(shè)置有入口和出口的矩形筒體、前蓋板組件以及后蓋板組件。等離子清洗方法，采用等離子清洗機，打開前蓋板組件和后蓋板組件，然后將待清洗的產(chǎn)品隨料盤從入口放置在真空腔體內(nèi)，隨后前蓋板組件和后蓋板組件分別對入口和出口進(jìn)行密封形成真空腔，隨后通過氣路總成向真空腔內(nèi)提供氣體介質(zhì)，利用電極組件對氣體介質(zhì)進(jìn)行電離形成等離子體，利用等離子體對產(chǎn)品進(jìn)行等離子清洗。清洗完畢后打開前蓋板組件和后蓋板組件，從出口對將產(chǎn)品隨料盤取出，同時從入口進(jìn)行放料。優(yōu)點：有效提高生產(chǎn)效率。

技術(shù)研發(fā)人員：陳俊
受保護的技術(shù)使用者：科鄰智能裝備（蘇州）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/9/9