金剛石硅片專用堿洗液及金剛石硅片清洗工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及金剛石硅片生產技術領域。
【背景技術】
[0002]金剛石硅片是目前太陽能電池片領域的又一創(chuàng)新，有著獨特的技術優(yōu)勢。一方面，金剛石硅片的切割方式由原來的砂漿切割調整為了純水加少量切割液進行切片，因此在切割過程中降低了對環(huán)境的污染；另一方面，金剛石硅片的成本也大大降低。
[0003]但是，金剛石硅片切割后殘留在硅片表面上的硅粉不同于原來的砂漿切割，其下棒后硅片的粘黏非常嚴重，即使使用脫膠機也難以沖開，且在后續(xù)的清洗中還容易產生黑斑片，制絨后硅片還會產生大量具有白斑或花斑的異常硅片，所有這些都大大降低了硅片的轉換效率，帶來大量廢品，增加了金剛石硅片的整體生產成本，給金剛石硅片技術的推廣應用帶來了不必要的麻煩。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明要解決的技術問題是針對上述現(xiàn)有技術的不足，提供一種金剛石硅片專用堿洗液及金剛石硅片清洗工藝，能夠對硅片表面的氧化層進行深度的清潔，清洗效果良好，能夠有效提高清洗后金剛石硅片的轉換率，保證了金剛石硅片的質量，能夠降低次品率，為后續(xù)工序提供可靠的質量保障，降低了金剛石硅片的整體生產成本。
[0005]為解決上述技術問題，本發(fā)明所采取的技術方案是:一種金剛石硅片專用堿洗液，其為雙氧水和氫氧化鉀的混合溶液。
[0006]作為優(yōu)選，混合溶液中雙氧水的體積分數(shù)為4%?8%，氫氧化鉀的質量分數(shù)為0.4% ?0.8%ο
[0007]進一步地，混合溶液中雙氧水的體積分數(shù)為6%，氫氧化鉀的質量分數(shù)為0.6%。
[0008]—種金剛石硅片清洗工藝，其包括超聲清洗、藥液清洗和超聲漂洗，還包括堿洗，堿洗在超聲漂洗之前進行，堿洗所用的洗液為如上所述的金剛石硅片專用堿洗液。超聲清洗和超聲漂洗采用經(jīng)過特殊處理的純水，超聲清洗在常溫下進行。
[0009]作為優(yōu)選，超聲清洗、藥液清洗、超聲漂洗和堿洗的具體次序為:第一次超聲清洗、第二次超聲清洗、第一次藥液清洗、第三次超聲清洗、第二次藥液清洗、堿洗、第一次超聲漂洗、第二次超聲漂洗、第三次超聲漂洗和第四次超聲漂洗，一般清洗20000片左右硅片更換一次堿洗所用的金剛石硅片專用堿洗液。
[0010]作為優(yōu)選，藥液清洗所用的洗液為市售的硅片專用清洗劑的水溶液，該水溶液中硅片專用清洗劑的體積分數(shù)為3%?5%，該水溶液的溫度為45°C?55°C，一般洗完10000片左右更換一次藥液清洗所用的洗液。
[0011]進一步地，藥液清洗所用洗液的溫度為50°C，洗液中硅片專用清洗劑的體積分數(shù)為4% ο
[0012]作為優(yōu)選，堿洗和超聲漂洗的溫度均為35°C?45°C。
[0013]進一步地，堿洗和超聲漂洗的溫度均為40°C。
[0014]作為優(yōu)選，第一次超聲清洗、第二次超聲清洗、第一次藥液清洗、第三次超聲清洗、第二次藥液清洗、堿洗、第一次超聲漂洗、第二次超聲漂洗、第三次超聲漂洗和第四次超聲漂洗的時間均為500?600秒。
[0015]采用上述技術方案所產生的有益效果在于:本發(fā)明的創(chuàng)新之處在于金剛石硅片專用堿洗液的發(fā)明，為了解決金剛石硅片清洗不干凈的問題，發(fā)明人先后試用了多家現(xiàn)成清洗劑產品，還嘗試過酒精清洗等方式，但都不盡理想，最終通過增加堿洗的方式控制住了金剛石硅片清洗易出黑斑及制絨花斑的問題，本金剛石硅片專用堿洗液配方簡單、低廉易得，但所取得的效果卻是本領域的技術人員所意想不到的，因而本發(fā)明是金剛石硅片清洗領域的一個重要的技術創(chuàng)新。
[0016]總之，本發(fā)明能夠對硅片表面氧化層進行深度的清潔，從而極大地解決了硅片制絨異常的問題，使硅片轉換率得到了提高，保證了金剛石硅片的質量，為后續(xù)工序提供了可靠的質量保障，降低了金剛石硅片的整體生產成本，極具推廣應用價值。
【具體實施方式】
[0017]下面結合【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細的說明。
[0018]—種金剛石硅片專用堿洗液，其為雙氧水和氫氧化鉀的混合溶液，其中雙氧水的體積分數(shù)為6%，氫氧化鉀的質量分數(shù)為0.6%。
[0019]—種金剛石硅片清洗工藝，其包括第一次超聲清洗、第二次超聲清洗、第一次藥液清洗、第三次超聲清洗、第二次藥液清洗、堿洗、第一次超聲漂洗、第二次超聲漂洗、第三次超聲漂洗和第四次超聲漂洗，超聲清洗及超聲漂洗所用洗液為經(jīng)過離子化的純水，藥液清洗所用洗液為由硅片專用清洗劑配置的水溶液，其中硅片專用清洗劑的體積分數(shù)為4%，堿洗所用洗液為金剛石硅片專用堿洗液，該金剛石硅片專用堿洗液為雙氧水和氫氧化鉀的混合溶液，混合溶液中雙氧水的體積分數(shù)為6%，氫氧化鉀的質量分數(shù)為0.6%，超聲清洗的溫度為常溫，超聲漂洗和堿洗的溫度均為40°C，藥液清洗的溫度為50°C，第一次超聲清洗、第二次超聲清洗、第一次藥液清洗、第三次超聲清洗、第二次藥液清洗、堿洗、第一次超聲漂洗、第二次超聲漂洗、第三次超聲漂洗和第四次超聲漂洗的時間均為600秒。
[0020]以上【具體實施方式】只是本發(fā)明的較優(yōu)實施方式，事實上，金剛石硅片專用堿洗液中雙氧水的體積分數(shù)也可為4%或8%，氫氧化鉀的質量分數(shù)也可為0.4%或0.8% ;金剛石硅片清洗工藝中，藥液清洗所用洗液中硅片專用清洗劑的體積分數(shù)也可為3%或5%，超聲漂洗和堿洗的溫度也可為35°C或45°C，藥液清洗的溫度也可為45°C或55°C，第一次超聲清洗、第二次超聲清洗、第一次藥液清洗、第三次超聲清洗、第二次藥液清洗、堿洗、第一次超聲漂洗、第二次超聲漂洗、第三次超聲漂洗和第四次超聲漂洗的時間也可為500秒、520秒、550秒或570秒。
[0021]本發(fā)明能夠對硅片表面氧化層進行深度的清潔，從而極大地解決了硅片制絨異常的問題，使硅片轉換率得到了提高，具有良好的推廣應用前景。
【主權項】
1.一種金剛石硅片專用堿洗液，其特征在于:為雙氧水和氫氧化鉀的混合溶液。2.根據(jù)權利要求1所述的金剛石硅片專用堿洗液，其特征在于所述混合溶液中雙氧水的體積分數(shù)為4%?8%，氫氧化鉀的質量分數(shù)為0.4%?0.8%。3.根據(jù)權利要求2所述的金剛石硅片專用堿洗液，其特征在于所述混合溶液中雙氧水的體積分數(shù)為6%，氫氧化鉀的質量分數(shù)為0.6%。4.一種金剛石硅片清洗工藝，其包括超聲清洗、藥液清洗和超聲漂洗，其特征在于:還包括堿洗，堿洗在超聲漂洗之前進行，堿洗所用的洗液為如權利要求1?3中的任一項所述的金剛石硅片專用堿洗液。5.根據(jù)權利要求4所述的金剛石硅片清洗工藝，其特征在于所述超聲清洗、藥液清洗、超聲漂洗和堿洗的具體次序為:第一次超聲清洗、第二次超聲清洗、第一次藥液清洗、第三次超聲清洗、第二次藥液清洗、堿洗、第一次超聲漂洗、第二次超聲漂洗、第三次超聲漂洗和第四次超聲漂洗。6.根據(jù)權利要求4所述的金剛石硅片清洗工藝，其特征在于所述藥液清洗所用的洗液為硅片專用清洗劑的水溶液，該水溶液中硅片專用清洗劑的體積分數(shù)為3%?5%，該水溶液的溫度為45 °C?55 °C。7.根據(jù)權利要求6所述的金剛石硅片清洗工藝，其特征在于所述水溶液的溫度為500C，水溶液中硅片專用清洗劑的體積分數(shù)為4%。8.根據(jù)權利要求4所述的金剛石硅片清洗工藝，其特征在于所述堿洗和超聲漂洗的溫度均為35°C?45°C。9.根據(jù)權利要求8所述的金剛石硅片清洗工藝，其特征在于所述堿洗和超聲漂洗的溫度均為40°C。10.根據(jù)權利要求5所述的金剛石硅片清洗工藝，其特征在于所述第一次超聲清洗、第二次超聲清洗、第一次藥液清洗、第三次超聲清洗、第二次藥液清洗、堿洗、第一次超聲漂洗、第二次超聲漂洗、第三次超聲漂洗和第四次超聲漂洗的時間均為500?600秒。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種金剛石硅片專用堿洗液及金剛石硅片清洗工藝，屬于金剛石硅片生產技術領域，金剛石硅片專用堿洗液為雙氧水和氫氧化鉀的混合溶液，金剛石硅片清洗工藝包括超聲清洗、藥液清洗、超聲漂洗和堿洗，堿洗在超聲漂洗之前進行。本發(fā)明能夠對硅片表面氧化層進行深度的清潔，清洗效果良好，能夠有效提高清洗后金剛石硅片的轉換率，極具推廣價值。
【IPC分類】B08B3/08, B08B3/12
【公開號】CN105032834
【申請?zhí)枴緾N201510417888
【發(fā)明人】王會敏, 何京輝, 李立偉, 張立濤, 張穩(wěn)
【申請人】邢臺晶龍電子材料有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年7月16日