輻射源與光刻設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，該輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器包括容納燃料毛細(xì)管以及壓電致動(dòng)器(500)。該方法包括分析包含該容納燃料毛細(xì)管以及該壓電致動(dòng)器的系統(tǒng)的諧振頻譜，尤其以尋找聲學(xué)系統(tǒng)的諧振頻率的改變，該改變可指示需要調(diào)查的該系統(tǒng)的屬性的改變。
【專利說(shuō)明】福射源與光刻設(shè)備
[0001] 相關(guān)申請(qǐng)的奪叉引用
[0002] 本申請(qǐng)要求于2012年3月7日提交且全文以引用方式并入本文中的美國(guó)臨時(shí)申 請(qǐng)案61/607, 745的權(quán)益。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003] 本發(fā)明涉及一種輻射源以及一種光刻設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0004] 光刻設(shè)備是將期望的圖案施加至襯底上的機(jī)器，通常施加至襯底的目標(biāo)部分上。 光刻設(shè)備例如可用于集成電路（1C)的制造中。在該情形下，圖案形成裝置，其或者被稱作 掩膜或掩膜板，可用于產(chǎn)生待形成于1C的個(gè)別層上的電路圖案?？蓪⒃搱D案轉(zhuǎn)移至襯底 (例如，硅晶片）上的目標(biāo)部分（例如，包含一個(gè)或多個(gè)管芯的部分）。通常經(jīng)由成像向提 供在襯底上的輻射敏感材料（抗蝕劑）層上進(jìn)行圖案的轉(zhuǎn)移。一般而言，單一襯底將含有 依次圖案化的鄰近目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。
[0005] 光刻被廣泛地認(rèn)為是在1C以及其他器件和/或結(jié)構(gòu)的制造中的關(guān)鍵步驟之一。然 而，隨著使用光刻所制造的特征尺寸變得越來(lái)越小，光刻正在變?yōu)橛糜谀軌蛑圃煨⌒?C或 其他器件和/或結(jié)構(gòu)的更具有決定性的因素。
[0006] 圖案印刷的極限的理論估計(jì)可以經(jīng)由針對(duì)解析度的瑞立（Rayleigh)準(zhǔn)則給出， 如方程式（1)所示：
[0007]

【權(quán)利要求】
1. 一種監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，所述輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器包 括容納燃料毛細(xì)管以及附接至所述毛細(xì)管的壓電致動(dòng)器，所述方法包括分析包含所述容納 燃料毛細(xì)管以及所述壓電致動(dòng)器的系統(tǒng)的諧振頻譜。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，進(jìn)一步包括檢 測(cè)所述諧振頻譜的改變。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，進(jìn)一步包括分 析所述諧振頻譜以檢測(cè)由所述產(chǎn)生器的振動(dòng)造成的所述頻譜的改變。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，進(jìn)一步包括分 析所述諧振頻譜以檢測(cè)由所述毛細(xì)管的出口噴嘴的至少部分阻擋造成的所述頻譜的改變。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，進(jìn)一步包括分 析所述諧振頻譜以檢測(cè)由所述毛細(xì)管的損害造成的所述頻譜的改變。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，進(jìn)一步包括分 析所述諧振頻譜以檢測(cè)由所述壓電致動(dòng)器至所述毛細(xì)管的所述附接的強(qiáng)度的改變?cè)斐傻?所述頻譜的改變。
7. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，進(jìn) 一步包括在所述壓電致動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)電路中對(duì)信號(hào)進(jìn)行采樣。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，其中在所述電 路的驅(qū)動(dòng)側(cè)對(duì)所述信號(hào)進(jìn)行采樣。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，其中在所述電 路的共同側(cè)對(duì)所述信號(hào)進(jìn)行采樣。
10. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法，其中間歇地 分析所述諧振頻譜。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的監(jiān)視輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器的操作的方法， 其中連續(xù)地分析所述諧振頻譜。
12. -種輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器，包括：被配置為容納燃料的毛細(xì)管、被緊固至所述 毛細(xì)管的壓電致動(dòng)器、被配置為驅(qū)動(dòng)所述致動(dòng)器的電路、以及分析器，所述分析器被配置為 分析包括容納燃料毛細(xì)管以及所述壓電致動(dòng)器的系統(tǒng)的諧振頻譜。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器，其中所述分析器包括被配置為 在所述驅(qū)動(dòng)電路中對(duì)信號(hào)進(jìn)行采樣的采樣器。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器，其中所述采樣器包括頻率響應(yīng) 分析器。
15. 根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器，其中所述采樣器位于所述 驅(qū)動(dòng)電路的驅(qū)動(dòng)側(cè)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器，其中所述采樣器位于所述 驅(qū)動(dòng)電路的共同側(cè)。
17. -種光刻投影設(shè)備，包括： 根據(jù)權(quán)利要求12至16中任一項(xiàng)所述的輻射源燃料微滴流產(chǎn)生器； 輻射產(chǎn)生器，被配置為從燃料微滴流產(chǎn)生輻射； 照明系統(tǒng)，被配置為調(diào)整輻射光束； 支撐件，被構(gòu)造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在所述輻射光束的橫截 面中向所述輻射光束給予圖案以形成圖案化的輻射光束； 襯底臺(tái)，被構(gòu)造成保持襯底；以及 投影系統(tǒng)，被配置為將所述圖案化的輻射光束投影至所述襯底的目標(biāo)部分上。
18. -種器件制造方法，包括： 使用燃料微滴產(chǎn)生器產(chǎn)生燃料微滴流，所述燃料微滴產(chǎn)生器具有被配置為容納燃料的 毛細(xì)管、附接至所述毛細(xì)管的壓電致動(dòng)器、被配置為驅(qū)動(dòng)所述致動(dòng)器的電路、以及被配置為 分析包括容納燃料毛細(xì)管以及所述壓電致動(dòng)器的系統(tǒng)的諧振頻譜的分析器； 從所述燃料微滴流產(chǎn)生輻射；以及 將圖案化的輻射光束通過(guò)投影系統(tǒng)中的開(kāi)口投影至襯底上。
【文檔編號(hào)】B01L3/02GK104160337SQ201380012738
【公開(kāi)日】2014年11月19日 申請(qǐng)日期:2013年2月7日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月7日
【發(fā)明者】A·肯彭, J·迪杰克斯曼, W·梅特斯洛姆 申請(qǐng)人:Asml荷蘭有限公司