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      用于脫硝的scr催化劑還原布置系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號(hào):10396129閱讀:324來源:國(guó)知局
      用于脫硝的scr催化劑還原布置系統(tǒng)的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及一種布置系統(tǒng),尤其涉及一種用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]目前傳統(tǒng)的催化劑還原裝置,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,而且使用效果較差。
      [0003]中國(guó)專利CN201020653537.5,公開一種鏈條式鍋爐專用方形脫硫除塵器,在具有煙氣進(jìn)口的第一沖擊脫硫除塵室的側(cè)部并列設(shè)置第二沖擊脫硫除塵室,并設(shè)置與所述第二沖擊脫硫除塵室并列的汽水分離室,所述第二沖擊脫硫除塵室的頂部封閉底部?jī)蓚?cè)分別與第一脫硫除塵室及汽水分離室相通,所述汽水分離室的上部自下而上間隔設(shè)有三層的擋液板,汽水分離室的最上部為煙氣出口;朝下噴射的霧化噴頭設(shè)于所述第一沖擊脫硫除塵室的上部。此結(jié)構(gòu)脫硫效果差。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本實(shí)用新型主要是解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足,提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,而且脫硝效率高的用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng)。
      [0005]本實(shí)用新型的上述技術(shù)問題主要是通過下述技術(shù)方案得以解決的:
      [0006]—種用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng),包括框架組件和催化劑安裝組件,所述的催化劑安裝組件設(shè)在框架組件中;
      [0007]所述的框架組件包括框架,所述的框架的頂部設(shè)有頂架,所述的頂架中設(shè)有催化劑吊軌,所述的催化劑吊軌的底部設(shè)有與催化劑吊軌相滑動(dòng)的臨時(shí)吊桿,所述的臨時(shí)吊桿的底部設(shè)有臨時(shí)導(dǎo)軌;
      [0008]所述的催化劑安裝組件包括耐火磚體,所述的耐火磚體設(shè)在框架中,所述的耐火磚體中設(shè)有催化劑安裝門,所述的耐火磚體中設(shè)有催化劑,所述的耐火磚體的外壁設(shè)有聲波吹灰器和人孔。
      [0009]作為優(yōu)選,所述的頂架與框架間通過限位支架相定位,所述的頂架與框架間通過支座相固定;
      [0010]所述的框架的外壁設(shè)有導(dǎo)流板,所述的導(dǎo)流板通過導(dǎo)流內(nèi)支撐相定位;
      [0011]所述的框架的底部設(shè)有支撐橫梁,所述的支撐橫梁底部的兩端分別設(shè)有橫梁。
      [0012]因此,本實(shí)用新型的用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng),結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,投資成本低,運(yùn)行成本低,使用效果好。
      【附圖說明】
      [0013]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖;
      [0014]圖2是本實(shí)用新型的剖視構(gòu)示意圖;
      [00?5]圖3是本實(shí)用新型的俯視結(jié)構(gòu)不意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0016]下面通過實(shí)施例,并結(jié)合附圖,對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說明。
      [0017]實(shí)施例1:如圖1、圖2和圖3所示,一種用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng),包括框架組件和催化劑安裝組件,所述的催化劑安裝組件設(shè)在框架組件中;
      [0018]所述的框架組件包括框架I,所述的框架I的頂部設(shè)有頂架2,所述的頂架2中設(shè)有催化劑吊軌3,所述的催化劑吊軌3的底部設(shè)有與催化劑吊軌3相滑動(dòng)的臨時(shí)吊桿4,所述的臨時(shí)吊桿4的底部設(shè)有臨時(shí)導(dǎo)軌5;
      [0019]所述的催化劑安裝組件包括耐火磚體6,所述的耐火磚體6設(shè)在框架I中,所述的耐火磚體6中設(shè)有催化劑安裝門7,所述的耐火磚體6中設(shè)有催化劑8,所述的耐火磚體6的外壁設(shè)有聲波吹灰器9和人孔10。
      [0020]所述的頂架2與框架I間通過限位支架11相定位,所述的頂架2與框架I間通過支座12相固定;
      [0021]所述的框架I的外壁設(shè)有導(dǎo)流板13,所述的導(dǎo)流板13通過導(dǎo)流內(nèi)支撐14相定位;
      [0022]所述的框架I的底部設(shè)有支撐橫梁15,所述的支撐橫梁15底部的兩端分別設(shè)有橫梁16。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng),其特征在于:包括框架組件和催化劑安裝組件,所述的催化劑安裝組件設(shè)在框架組件中; 所述的框架組件包括框架(I),所述的框架(I)的頂部設(shè)有頂架(2),所述的頂架(2)中設(shè)有催化劑吊軌(3),所述的催化劑吊軌(3)的底部設(shè)有與催化劑吊軌(3)相滑動(dòng)的臨時(shí)吊桿(4 ),所述的臨時(shí)吊桿(4 )的底部設(shè)有臨時(shí)導(dǎo)軌(5 ); 所述的催化劑安裝組件包括耐火磚體(6),所述的耐火磚體(6)設(shè)在框架(I)中,所述的耐火磚體(6 )中設(shè)有催化劑安裝門(7 ),所述的耐火磚體(6 )中設(shè)有催化劑(8 ),所述的耐火磚體(6)的外壁設(shè)有聲波吹灰器(9)和人孔(10)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng),其特征在于:所述的頂架(2)與框架(I)間通過限位支架(11)相定位,所述的頂架(2)與框架(I)間通過支座(12)相固定; 所述的框架(I)的外壁設(shè)有導(dǎo)流板(13),所述的導(dǎo)流板(13)通過導(dǎo)流內(nèi)支撐(14)相定位; 所述的框架(I)的底部設(shè)有支撐橫梁(15),所述的支撐橫梁(15)底部的兩端分別設(shè)有橫梁(16)。
      【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種布置系統(tǒng),尤其涉及一種用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng)。包括框架組件和催化劑安裝組件,所述的催化劑安裝組件設(shè)在框架組件中。用于脫硝的SCR催化劑還原布置系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,投資成本低,運(yùn)行成本低,使用效果好。
      【IPC分類】B01D53/56, B01D53/88
      【公開號(hào)】CN205308137
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201620010510
      【發(fā)明人】李先明, 李何棟, 朱菊林, 張欽波
      【申請(qǐng)人】浙江宏宇環(huán)保工程設(shè)備有限公司
      【公開日】2016年6月15日
      【申請(qǐng)日】2016年1月7日
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