浮閥塔盤的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種浮閥塔盤，其技術(shù)要點(diǎn)是包括盤體，盤體上開設(shè)有多個(gè)閥孔，每個(gè)閥孔中均設(shè)置有浮閥，所述浮閥包括分離片、導(dǎo)向片和限位環(huán)，所述導(dǎo)向片設(shè)置有多個(gè)，且均勻設(shè)置于分離片的下表面上，且形成導(dǎo)向環(huán)圈穿設(shè)于閥孔中，所述限位環(huán)螺紋配合于導(dǎo)向環(huán)圈的下端，所述導(dǎo)向環(huán)圈上還套設(shè)有彈簧，所述彈簧的兩端分別抵觸于盤體的下表面和限位環(huán)的上表面上。本實(shí)用新型提供了一種提高氣相的分離效率的浮閥塔盤。
【專利說明】
浮閥塔盤
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種浮閥塔盤?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]浮閥塔板上開有一定形狀的閥孔，孔中安有可上下浮動(dòng)的浮閥，浮閥有圓形、矩形、盤形等，從而形成不同型式的浮閥塔板。在板式塔中，氣相通過閥孔向上流動(dòng)，同時(shí)由于閥孔中安裝有浮閥，所以氣相在浮閥的作用下，會(huì)向各個(gè)方向擴(kuò)散，從而使得氣相在板式塔中分布的更加均勻，進(jìn)而使得氣相與液相進(jìn)行更加均勻的接觸。在現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)浮閥塔板處于工作狀態(tài)時(shí)，浮閥在氣相的沖擊下，會(huì)一直處于最高位置上，即不會(huì)上下浮動(dòng)，所以浮閥的彈性操作空間較小，因此導(dǎo)致浮閥對(duì)液相的分離效果較低?！緦?shí)用新型內(nèi)容】
[0003]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種提高氣相的分離效率的浮閥塔盤。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了如下技術(shù)方案:
[0005]—種浮閥塔盤，包括盤體，盤體上開設(shè)有多個(gè)閥孔，每個(gè)閥孔中均設(shè)置有浮閥，所述浮閥包括分離片、導(dǎo)向片和限位環(huán)，所述導(dǎo)向片設(shè)置有多個(gè)，且均勻設(shè)置于分離片的下表面上，且形成導(dǎo)向環(huán)圈穿設(shè)于閥孔中，所述限位環(huán)螺紋配合于導(dǎo)向環(huán)圈的下端，所述導(dǎo)向環(huán)圈上還套設(shè)有彈簧，所述彈簧的兩端分別抵觸于盤體的下表面和限位環(huán)的上表面上。
[0006]通過上述技術(shù)方案，當(dāng)氣相沖擊浮閥時(shí)，由于限位環(huán)和盤體之間設(shè)置有彈簧，所以浮閥整體會(huì)在盤體上發(fā)生彈性震動(dòng)，使得浮閥在盤體上起到上下浮動(dòng)的作用，從而分離片在上下浮動(dòng)的過程中，便對(duì)上升的氣相起到了更好的分離作用，從而使得氣相在板式塔中分布的更為均勻，即更好的與液相接觸。
[0007]優(yōu)選的，所述盤體的下表面上開設(shè)有環(huán)槽，所述環(huán)槽對(duì)應(yīng)彈簧設(shè)置。
[0008]通過上述技術(shù)方案，該設(shè)置使得壓縮狀態(tài)下的彈簧能夠進(jìn)入到環(huán)槽中，從而為浮閥提供更大的彈性空間。
[0009]優(yōu)選的，所述分離盤的邊緣位置向下彎曲設(shè)置，且形成導(dǎo)向部。[〇〇1〇]通過上述技術(shù)方案，當(dāng)氣相在流動(dòng)的過程中，沿程遇到的阻礙越多，就會(huì)分離擴(kuò)散的越均勻，所以將分離盤的邊緣向下彎曲后，可進(jìn)一步的增加本實(shí)用新型對(duì)氣相的分離效率。
[0011]優(yōu)選的，所述分離盤上設(shè)置有多個(gè)通孔。
[0012]通過上述技術(shù)方案，通孔可供氣相通過。【附圖說明】
[0013]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的浮閥塔盤的示意圖；
[0014]圖2為圖1中A部放大圖；
[0015]圖3本實(shí)用新型實(shí)施例提供的套設(shè)有彈簧的浮閥的示意圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0016]通過圖1至圖3對(duì)本實(shí)用新型浮閥塔盤作進(jìn)一步的說明。
[0017] —種浮閥塔盤，包括盤體1，盤體1上開設(shè)有多個(gè)閥孔3,每個(gè)閥孔3中均設(shè)置有浮閥 2,所述浮閥2包括分離片21、導(dǎo)向片22和限位環(huán)23,分離片21為圓形，所述導(dǎo)向片22設(shè)置有四個(gè)，且沿圓周均勻焊接或是插接于分離片21的下表面上，且形成導(dǎo)向環(huán)圈221穿設(shè)于閥孔 3中，限位環(huán)23的環(huán)孔中設(shè)置有內(nèi)螺紋，由四片導(dǎo)向片22組成的導(dǎo)向環(huán)圈221的下端位置上設(shè)置有外螺紋，所以限位環(huán)23螺紋配合于導(dǎo)向環(huán)圈221的下端，所述導(dǎo)向環(huán)圈221上還套設(shè)有彈簧4,所述彈簧4的兩端分別抵觸于盤體1的下表面和限位環(huán)23的上表面上。
[0018]進(jìn)一步的，所述盤體1的下表面上開設(shè)有環(huán)槽5，所述環(huán)槽5對(duì)應(yīng)彈簧4設(shè)置，即當(dāng)限位環(huán)23的上表面與盤體1的下表面接觸時(shí)，彈簧4被壓縮于環(huán)槽5中。
[0019]進(jìn)一步的，所述分離盤的邊緣位置向下彎曲設(shè)置，且形成導(dǎo)向部211。
[0020]進(jìn)一步的，所述分離盤上設(shè)置有多個(gè)通孔6。
[0021]以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不僅局限于上述實(shí)施例，凡屬于本實(shí)用新型思路下的技術(shù)方案均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理前提下的若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種浮閥塔盤，包括盤體(1)，盤體(1)上開設(shè)有多個(gè)閥孔(3)，每個(gè)閥孔(3)中均設(shè)置 有浮閥(2)，其特征是:所述浮閥(2)包括分離片(21)、導(dǎo)向片(22)和限位環(huán)(23)，所述導(dǎo)向 片(22)設(shè)置有多個(gè)，且均勻設(shè)置于分離片(21)的下表面上，且形成導(dǎo)向環(huán)圈(221)穿設(shè)于閥 孔(3)中，所述限位環(huán)(23)螺紋配合于導(dǎo)向環(huán)圈(221)的下端，所述導(dǎo)向環(huán)圈(221)上還套設(shè) 有彈簧(4)，所述彈簧(4)的兩端分別抵觸于盤體(1)的下表面和限位環(huán)(23)的上表面上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浮閥塔盤，其特征是:所述盤體(1)的下表面上開設(shè)有環(huán)槽 (5)，所述環(huán)槽(5)對(duì)應(yīng)彈簧(4)設(shè)置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浮閥塔盤，其特征是:所述分離盤的邊緣位置向下彎曲設(shè)置， 且形成導(dǎo)向部(211)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浮閥塔盤，其特征是:所述分離盤上設(shè)置有多個(gè)通孔(6)。
【文檔編號(hào)】B01D3/18GK205627154SQ201620372626
【公開日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年4月27日
【發(fā)明人】任偉民, 莫曉峰, 朱冀, 王荷花
【申請(qǐng)人】杭州納生塔內(nèi)件有限公司