專利名稱:一種除鐵設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種除鐵設(shè)備，屬于鋁錠制品加工行業(yè)。一種除鐵設(shè)備，包括進(jìn)料裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置與出料裝置，所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置為圓筒結(jié)構(gòu)，該轉(zhuǎn)動(dòng)裝置包括磁鐵層與表面層，所述磁鐵層位于表面層的下方，所述表面層上設(shè)置有若干列沿圓筒的軸線方向分布擋塊，所述擋塊的寬度與所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的寬度相等。本實(shí)用新型所述除鐵設(shè)備，不需要人工定期對(duì)除鐵設(shè)備上吸附的鐵屑進(jìn)行清理，能夠節(jié)約人力成本。而且除鐵效果穩(wěn)定，不存在一段除鐵效果好一段時(shí)間除鐵效果差的技術(shù)問題。
【專利說明】一種除鐵設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種除鐵設(shè)備，屬于鋁錠制品加工行業(yè)。

【背景技術(shù)】
[0002]在采用原料進(jìn)行鋁錠加工制造中，需要對(duì)原料進(jìn)行除鐵處理。傳統(tǒng)的除鐵設(shè)備，是將原料通過一個(gè)管道，在管道的出料口安裝有采用強(qiáng)磁鐵編制成的網(wǎng)狀除鐵器，原料在通過該管道口時(shí)，除鐵器吸附掉原料中的鐵雜質(zhì)。但是，現(xiàn)有技術(shù)中的除鐵設(shè)備在使用一段時(shí)間后，除鐵效果會(huì)發(fā)生明顯的下降，需要定期對(duì)除鐵器上吸附的鐵屑進(jìn)行清理后重新安裝，才能保證除鐵效果。這導(dǎo)致了現(xiàn)有技術(shù)的除鐵設(shè)備的除鐵效果不穩(wěn)定，并且浪費(fèi)人力物力。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]鑒于此，本實(shí)用新型的目的是提供一種除鐵效果穩(wěn)定，除鐵效率高的除鐵設(shè)備。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案為:一種除鐵設(shè)備，包括進(jìn)料裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置與出料裝置，所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置為圓筒結(jié)構(gòu)，該轉(zhuǎn)動(dòng)裝置包括磁鐵層與表面層，所述磁鐵層位于表面層的下方，所述表面層上設(shè)置有若干列沿圓筒的軸線方向分布擋塊，所述擋塊的寬度與所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的寬度相等。
[0005]進(jìn)一步的，所述若干列擋塊對(duì)稱分布于轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的表面層。
[0006]進(jìn)一步的，所述擋塊沿轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的轉(zhuǎn)動(dòng)方向，與所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的表面層的夾角為30。至 60°。
[0007]進(jìn)一步的，所述磁鐵層為半圓結(jié)構(gòu)。
[0008]有益效果:本實(shí)用新型所述除鐵設(shè)備，不需要人工定期對(duì)除鐵設(shè)備上吸附的鐵屑進(jìn)行清理，能夠節(jié)約人力成本。而且除鐵效果穩(wěn)定，不存在一段除鐵效果好一段時(shí)間除鐵效果差的技術(shù)問題。

【附圖說明】

[0009]圖1是本實(shí)用新型除鐵設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2是本實(shí)用新型轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的第一實(shí)施方式結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖3是本實(shí)用新型轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的使用狀態(tài)示意圖。
[0012]圖4是本實(shí)用新型轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的第二實(shí)施方式結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0014]請(qǐng)參考圖1，圖1是本實(shí)用新型除鐵設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型所述除鐵設(shè)備包括進(jìn)料裝置1、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2與出料裝置3。
[0015]所述進(jìn)料裝置I設(shè)置于轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的上方，原料通過進(jìn)料裝置I的輸送，落到轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2之上。
[0016]出料裝置3設(shè)置于轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的下方，原料通過在轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2除鐵后，通過出料裝置3出料。
[0017]所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2為圓筒結(jié)構(gòu)，外部電機(jī)4通過轉(zhuǎn)動(dòng)軸5與轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2相連，從而轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2在外部電機(jī)4的帶動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0018]請(qǐng)參考圖2，圖2是本實(shí)用新型轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的結(jié)構(gòu)示意圖。所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2還包括磁鐵層11與表面層12，所述磁鐵層11位于表面層12的下方，所述表面層12為光滑面，摩擦系數(shù)較小。
[0019]所述表面層12上設(shè)置有若干列沿圓筒的軸線方向分布擋塊13，所述擋塊13的寬度與所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的寬度相等。作為優(yōu)選，所述若干列擋塊13對(duì)稱分布于轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的表面層12。
[0020]為了方便擋塊13清除附著在表面層12上的磁鐵塊，所述擋塊13沿轉(zhuǎn)動(dòng)裝置12的轉(zhuǎn)動(dòng)方向，與所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置12的表面層12的夾角為30°至60°。
[0021]本實(shí)用新型所述除鐵裝置在使用時(shí)，原料通過進(jìn)料裝置I傳輸?shù)睫D(zhuǎn)動(dòng)裝置2之上，在轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的磁鐵層11的作用下，鐵塊等雜質(zhì)吸附在轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的表面層12之上。經(jīng)過除鐵后的原料通過出料裝置3出料。
[0022]請(qǐng)繼續(xù)參考圖3，當(dāng)雜質(zhì)31吸附在轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的表面層12時(shí)，隨著表面層12的轉(zhuǎn)動(dòng)向下位移，當(dāng)雜質(zhì)31達(dá)到或接近轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的正下方的時(shí)候，由于轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的轉(zhuǎn)動(dòng)離心力的作用下。雜質(zhì)31與轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的表面層12的摩擦力顯著降低，這時(shí)，雜質(zhì)31將不會(huì)隨著轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的表面層12繼續(xù)向上移動(dòng),而是與表面層12發(fā)生相對(duì)位移,一直處于轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的正下方的位置。當(dāng)擋塊13再次運(yùn)動(dòng)到雜質(zhì)31的位置的時(shí)候，將會(huì)與雜質(zhì)31發(fā)生碰撞，在擋塊13所帶來的作用力的作用下，雜質(zhì)31脫離轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的表面層12，落入設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2下方的收集裝置中。從而自動(dòng)清除表面層12上吸附的雜質(zhì)，而不需要人工清理。保證本實(shí)用新型所述除鐵裝置除鐵效果的穩(wěn)定性。
[0023]請(qǐng)繼續(xù)參考圖4，圖4是本實(shí)用新型轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的第二實(shí)施方式結(jié)構(gòu)示意圖。當(dāng)然，在其它實(shí)施方式中，所述磁鐵層11為半圓結(jié)構(gòu)，位于表面層12的下方。即表面層12下方只有一半覆蓋有磁體層U。這樣當(dāng)雜質(zhì)隨著覆蓋有磁鐵層11的表面層12的轉(zhuǎn)動(dòng)位移至最低點(diǎn)時(shí)，因?yàn)楸砻鎸?2另一半下方?jīng)]有覆蓋磁鐵層11，因此雜質(zhì)不會(huì)隨著表面層12繼續(xù)向上移動(dòng)，而一直處于表面層12最低點(diǎn)的位置，當(dāng)擋塊13再次運(yùn)動(dòng)到雜質(zhì)31的位置的時(shí)候，將會(huì)與雜質(zhì)31發(fā)生碰撞，在擋塊13所帶來的作用力的作用下，雜質(zhì)31脫離轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的表面層12，落入設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2下方的收集裝置中。磁鐵層11位置為半圓結(jié)構(gòu)的優(yōu)點(diǎn)是更方便清理附著在表面層12上的雜質(zhì)。
[0024]本實(shí)用新型所述除鐵設(shè)備，不需要人工定期對(duì)除鐵設(shè)備上吸附的鐵屑進(jìn)行清理，能夠節(jié)約人力成本。而且除鐵效果穩(wěn)定，不存在一段除鐵效果好一段時(shí)間除鐵效果差的技術(shù)問題。
[0025]以上僅為本實(shí)用新型的實(shí)施方式，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種除鐵設(shè)備，包括進(jìn)料裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置與出料裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置為圓筒結(jié)構(gòu)，該轉(zhuǎn)動(dòng)裝置包括磁鐵層與表面層，所述磁鐵層位于表面層的下方，所述表面層上設(shè)置有若干列沿圓筒的軸線方向分布擋塊，所述擋塊的寬度與所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的寬度相等。2.如權(quán)利要求1所述的除鐵設(shè)備，其特征在于，所述若干列擋塊對(duì)稱分布于轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的表面層。3.如權(quán)利要求1所述的除鐵設(shè)備，其特征在于，所述擋塊沿轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的轉(zhuǎn)動(dòng)方向，與所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的表面層的夾角為30°至60°。4.如權(quán)利要求1所述的除鐵設(shè)備，其特征在于，所述磁鐵層為半圓結(jié)構(gòu)。
【文檔編號(hào)】B03C1-02GK204276142SQ201420665649
【發(fā)明者】王增潮 [申請(qǐng)人]重慶順博鋁合金股份有限公司