內(nèi)燃機的排氣凈化裝置制造方法
【專利摘要】一種內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,其中,被配置在內(nèi)燃機排氣通道內(nèi)的顆粒過濾器具備:被交替配置的廢氣流入通道以及廢氣流出通道、和將該廢氣流入通道以及廢氣流出通道相互隔開的多孔性的隔壁。在隔壁上劃分有基材表面被平均細孔直徑小于隔壁基材的平均細孔直徑的涂層所覆蓋的涂層區(qū)域、和在涂層區(qū)域的下游側(cè)處基材表面未被所述涂層所覆蓋的非涂層區(qū)域,且在非涂層區(qū)域內(nèi)廢氣中所含有的灰塵能夠通過隔壁。對在非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算,在被辨別為非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量多于第一容許上限量時,實施用于從顆粒過濾器中對粒狀物質(zhì)進行去除的顆粒物去除控制。
【專利說明】內(nèi)燃機的排氣凈化裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種內(nèi)燃機的排氣凈化裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]公知一種將用于捕集廢氣中的粒狀物質(zhì)的顆粒過濾器配置于排氣通道內(nèi)的壓燃式內(nèi)燃機。其結(jié)果為,可抑制被排出至大氣中的粒狀物質(zhì)的量。
[0003]然而,當(dāng)顆粒過濾器上的粒狀物質(zhì)的量變多時,顆粒過濾器的壓力損失也隨之變多。其結(jié)果為,有可能造成內(nèi)燃機輸出降低。
[0004]因此,公知一種如下的內(nèi)燃機,其實施使顆粒過濾器維持在氧化氣氛中且使顆粒過濾器的溫度上升的顆粒物(PM)去除控制,由此而使粒狀物質(zhì)燃燒并從顆粒過濾器中去除(參照專利文獻I)。在該內(nèi)燃機中,對顆粒過濾器24的上游以及下游的壓力差進行檢測,并在壓力差成為預(yù)定的上限值以上時實施PM去除處理。
[0005]在先技術(shù)文獻
[0006]專利文獻
[0007]專利文獻1:日本特開2000-018019號公報
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008]發(fā)明所要解決的課題
[0009]另外,在廢氣中包含被稱為灰塵的不燃性成分,且該灰塵與粒狀物質(zhì)一起被捕集到顆粒過濾器中。然而,即使實施PM去除控制,灰塵也不會燃燒或者蒸發(fā),而會殘留在顆粒過濾器上。因此,隨著內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間變長,顆粒過濾器上的灰塵量將隨之增多,且顆粒過濾器的壓力損失也隨之變大。其結(jié)果為,即使反復(fù)實施PM去除控制,也有可能造成內(nèi)燃機輸出降低。
[0010]在上述的專利文獻I中有關(guān)上述問題點并未進行考慮,當(dāng)然也并未公開有關(guān)上述問題點的解決對策。
[0011 ] 用于解決課題的方法
[0012]根據(jù)本發(fā)明,提供了一種內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,其具備:顆粒過濾器,其為被配置在內(nèi)燃機排氣通道內(nèi)的、用于對廢氣中所含有的粒狀物質(zhì)進行捕集的顆粒過濾器,且具備被交替配置的廢氣流入通道以及廢氣流出通道、和將這些廢氣流入通道以及廢氣流出通道相互隔開的多孔性隔壁,并且在隔壁上劃分有基材表面被平均細孔直徑小于隔壁基材的平均細孔直徑的涂層所覆蓋的涂層區(qū)域、和在涂層區(qū)域的下游側(cè)處基材表面未被所述涂層所覆蓋的非涂層區(qū)域,且隔壁的細孔直徑被設(shè)定為,在非涂層區(qū)域內(nèi)廢氣中所含有的灰塵能夠通過隔壁;第一計算單元,其對在非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算;第一辨別單元,其對在非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量是否多于第一容許上限量進行辨別;第一 PM去除單元,在被辨別為非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量多于第一容許上限量時,其實施用于從顆粒過濾器中對粒狀物質(zhì)進行去除的顆粒物去除控制。
[0013]優(yōu)選為,所述第一計算單元根據(jù)流入至顆粒過濾器中的粒狀物質(zhì)的量、涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率、以及非涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率,來對非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算。
[0014]優(yōu)選為,還具備:第二計算單元,其對在涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算;第二辨別單元,其對在涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量是否多于第二容許上限量進行辨別;第二 PM去除單元,在被辨別為涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量多于第二容許上限量時,其實施PM去除控制。更優(yōu)選為,所述第二計算單元根據(jù)流入至顆粒過濾器中的粒狀物質(zhì)的量、以及涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率,來對在涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算。
[0015]優(yōu)選為,所述涂層由具有氧化功能的金屬粒子形成。
[0016]優(yōu)選為,所述隔壁基材的平均細孔徑被設(shè)定為25 μ m以上且100 μ m以下。
[0017]優(yōu)選為,形成所述涂層的粒子的平均直徑被設(shè)定為Iym以上且ΙΟμπι以下。
[0018]發(fā)明效果
[0019]能夠在可靠地對粒狀物質(zhì)進行捕集的同時,抑制因灰塵而使顆粒過濾器的壓力損失增大的情況。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0020]圖1為由本發(fā)明實施的實施例的內(nèi)燃機的整體圖。
[0021]圖2Α為顆粒過濾器的主視圖。
[0022]圖2Β為顆粒過濾器的側(cè)面剖視圖。
[0023]圖3為隔壁的部分放大剖視圖。
[0024]圖4為涂層的部分放大剖視圖。
[0025]圖5Α為對顆粒過濾器的捕集機制進行說明的概要圖。
[0026]圖5Β為對顆粒過濾器的捕集機制進行說明的概要圖。
[0027]圖5C為對顆粒過濾器的捕集機制進行說明的概要圖。
[0028]圖為對顆粒過濾器的捕集機制進行說明的概要圖。
[0029]圖5E為對顆粒過濾器的捕集機制進行說明的概要圖。
[0030]圖6為對由本發(fā)明實施的實施例進行說明的時序圖。
[0031]圖7為表示粒狀物質(zhì)流入量qPMi的映射圖。
[0032]圖8為表示涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ的映射圖。
[0033]圖9為表示涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集量的減少量qPMCZd的映射圖。
[0034]圖10為表示非涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率EPMNCZ的映射圖。
[0035]圖11為表示非涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集量的減少量qPMNCZd的映射圖。
[0036]圖12為表示顆粒過濾器的灰塵捕集率EA與非涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ之間的關(guān)系的線圖。
[0037]圖13為表示涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ與涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ之間的關(guān)系的線圖。
[0038]圖14為表示執(zhí)行排氣凈化控制的程序的流程圖。
[0039]圖15為表示執(zhí)行粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ、QPMNCZ的計算的程序的流程圖。
[0040]圖16為表示執(zhí)行PM去除控制的程序的流程圖。
【具體實施方式】
[0041]參照圖1, I表不壓燃式內(nèi)燃機的主體,2表不各個氣缸的燃燒室,3表不用于向各個燃燒室2內(nèi)分別噴射燃料的電子控制式燃料噴射閥,4表示進氣歧管,5表示排氣歧管。進氣歧管4通過進氣導(dǎo)管6而與排氣渦輪增壓器7的壓縮機7c的出口連結(jié),且壓縮機7c的入口通過空氣流量計8與空氣濾清器9連結(jié)。在進氣導(dǎo)管6內(nèi)配置有電氣控制式節(jié)氣門10,而且在進氣導(dǎo)管6周圍設(shè)置有用于對在進氣導(dǎo)管6內(nèi)流動的吸入空氣進行冷卻的冷卻裝置11。另一方面,排氣歧管5與排氣渦輪增壓器7的排氣汽輪機7t的入口連結(jié),且排氣汽輪機7t的出口與排氣后處理裝置20連結(jié)。
[0042]排氣歧管5與進氣歧管4經(jīng)由廢氣再循環(huán)(以下,稱為EGR)通道12而被相互連結(jié),且在EGR通道12內(nèi)配置有電氣控制式EGR控制閥13。此外,在EGR通道12周圍設(shè)置有用于對在EGR通道12內(nèi)流動的EGR氣體進行冷卻的冷卻裝置14。另一方面,各個燃料噴射閥3經(jīng)由燃料供給管15與共軌16連結(jié)。從電子控制式的噴出量可變的燃料泵17向該共軌16內(nèi)供給有燃料,且向共軌16內(nèi)所供給的燃料經(jīng)由各個燃料供給管15而被供給至燃料噴射閥3。在圖1所示的實施例中,該燃料由輕油構(gòu)成。在其他的實施例中,內(nèi)燃機由火花點火式內(nèi)燃機構(gòu)成。在這種情況下,燃料由汽油構(gòu)成。
[0043]排氣后處理裝置20具備與排氣汽輪機7t的出口連結(jié)的排氣管21、與排氣管21連結(jié)的催化轉(zhuǎn)化器22、和與催化轉(zhuǎn)化器22連結(jié)的排氣管23。在催化轉(zhuǎn)化器22內(nèi)配置有壁流型顆粒過濾器24。
[0044]在催化轉(zhuǎn)化器22上設(shè)置有用于對顆粒過濾器24的溫度進行檢測的溫度傳感器25。在其他的實施例中,用于對流入到顆粒過濾器24中的廢氣的溫度進行檢測的溫度傳感器被設(shè)置在排氣管21上。而且在其他的實施例中,用于對從顆粒過濾器24中流出的廢氣的溫度進行檢測的溫度傳感器被設(shè)置在排氣管23上。這些廢氣的溫度表示了顆粒過濾器24的溫度。
[0045]在催化轉(zhuǎn)化器22上還設(shè)置有用于對顆粒過濾器24的壓力損失進行檢測的壓力損失傳感器26。在圖1所示的實施例中,壓力損失傳感器26由用于對顆粒過濾器24的上游以及下游的壓力差進行檢測的壓力差傳感器構(gòu)成。在其他的實施例中,壓力損失傳感器26由被安裝在排氣管21上并對內(nèi)燃機背壓進行檢測的傳感器構(gòu)成。
[0046]另一方面,在排氣歧管5上安裝有燃料添加閥27。向該燃料添加閥27添加有來自共軌16的燃料,且從燃料添加閥27向排氣歧管5內(nèi)添加燃料。在其他的實施例中,燃料添加閥27被配置在排氣管21上。
[0047]電子控制單元30由數(shù)字式計算機構(gòu)成,且具備經(jīng)由雙向母線31而被相互連接的ROM(只讀存儲器)32、RAM(隨機存取存儲器)33、CPU (中央處理器)34、輸入端口 35以及輸出端口 36??諝饬髁坑?、溫度傳感器25、以及壓力差傳感器26的輸出信號經(jīng)由各自所對應(yīng)的AD轉(zhuǎn)換器37而被輸入到輸入端口 35。此外,在加速踏板39上連接有以與加速踏板39的踩踏量L成比例的方式而產(chǎn)生輸出電壓的負載傳感器40,且負載傳感器40的輸出電壓經(jīng)由對應(yīng)的AD轉(zhuǎn)換器37而被輸入到輸入端口 35。而且,在輸入端口 35上連接有例如在曲軸每旋轉(zhuǎn)15°時產(chǎn)生輸出脈沖的曲軸轉(zhuǎn)角傳感器41。在CPU34中內(nèi)燃機轉(zhuǎn)數(shù)Ne基于來自曲軸轉(zhuǎn)角傳感器41的輸出脈沖而被計算出。另一方面,輸出端口 36經(jīng)由對應(yīng)的驅(qū)動電路38而與燃料噴射閥3、節(jié)氣門10驅(qū)動裝置、EGR控制閥13、燃料泵17、以及燃料添加閥27連接。
[0048]圖2A以及圖2B圖示了壁流型顆粒過濾器24的結(jié)構(gòu)。另外,圖2A為表示顆粒過濾器24的主視圖,圖2B為表示顆粒過濾器24的側(cè)面剖視圖。如圖2A以及圖2B所示,顆粒過濾器24呈蜂窩狀結(jié)構(gòu),并且所述顆粒過濾器24具備呈相互平行而延伸的多個排氣流通道71 1、71ο和將這些排氣流通道7I1、71相互隔開的隔壁72。在圖2Α所示的實施例中,排氣流通道711、71o通過上游端被開放而下游端被栓73d閉塞的廢氣流入通道71i和上游端被栓73u閉塞而下游端被開放的廢氣流出通道71ο構(gòu)成。另外,在圖2A中,附加影線的部分表示栓73u。因此,廢氣流入通道71i以及廢氣流出通道71ο經(jīng)由薄壁的隔壁72而被交替地配置。換言之,廢氣流入通道71i以及廢氣流出通道71ο以各個廢氣流入通道71i被四個廢氣流出通道71ο包圍且各個廢氣流出通道71ο被四個廢氣流入通道71i包圍的方式而配置。在其他的實施例中,排氣流通道通過上游端以及下游端被開放的廢氣流入通道和上游端被栓閉塞而下游端被開放的廢氣流出通道構(gòu)成。
[0049]如圖2B所示,在隔壁72上劃分有涂層區(qū)域CZ和位于涂層區(qū)域CZ的下游側(cè)的非涂層區(qū)域NCZ。如圖3所示,在涂層區(qū)域CZ中,隔壁72的基材72s的表面被涂層75所覆蓋。相對于此,在非涂層區(qū)域NCZ中,隔壁基材72s的表面未被上述的涂層75所覆蓋。
[0050]在圖3所示的實施例中,涂層75被設(shè)置在與廢氣流入通道71i對置的隔壁基材72s的一個表面上。在其他的實施例中,涂層75被設(shè)置在與廢氣流出通道71ο對置的隔壁基材72s的一個表面上。而且在其他的實施例中,涂層75被設(shè)置在與廢氣流入通道71i以及廢氣流出通道71ο對置的隔壁基材72s的兩個表面上。
[0051]此外,在圖3所示的實施例中,涂層區(qū)域CZ中的隔壁基材72s薄于非涂層區(qū)域NCZ中的隔壁基材72s,且涂層區(qū)域CZ中的隔壁72的厚度與非涂層區(qū)域NCZ中的隔壁72的厚度互相大致相等。因此,涂層區(qū)域CZ中的廢氣流入通道71i的流道面積與非涂層區(qū)域NCZ中的廢氣流入通道71i的流道面積相互大致相等。在其他的實施例中,涂層區(qū)域CZ中的隔壁基材72s的厚度與非涂層區(qū)域NCZ中的隔壁基材72s的厚度大致相等,且涂層區(qū)域CZ中的廢氣流入通道71i的流道面積與非涂層區(qū)域NCZ中的廢氣流入通道71i的流道面積相t匕,以對應(yīng)于涂層75的量而變小。
[0052]而且,在圖2B所示的實施例中,涂層區(qū)域CZ的上游邊緣與隔壁72的上游端大致一致。在其他的實施例中,涂層區(qū)域CZ的上游邊緣位于與隔壁72的上游端相比而靠下游偵U。此外,在圖2B所示的實施例中,非涂層區(qū)域NCZ的下游邊緣與隔壁72的下游端大致一致。在其他的實施例中,非涂層區(qū)域NCZ的下游邊緣位于與隔壁72的下游端相比靠上游偵U。例如,涂層區(qū)域CZ的長度方向長度被設(shè)定為顆粒過濾器24的長度方向長度的50%至90%。
[0053]隔壁基材72s為多孔質(zhì)材料,例如由堇青石、碳化硅、氮化硅、二氧化鋯、二氧化鈦、氧化鋁、二氧化硅、莫來石、硅酸鋁鋰、磷酸鋯那樣的陶瓷形成。
[0054]另一方面,如圖4所示,涂層75由多個粒子76形成,且在粒子76彼此之間具有多個間隙或細孔77。因此,涂層75具有多孔性。因此,如圖2B箭頭所示,廢氣首先流入廢氣流入通道71i內(nèi),接下來通過周圍的隔壁72內(nèi)而向相鄰的廢氣流出通道71ο內(nèi)流出。
[0055]在圖4所示的實施例中,粒子76由具有氧化能力的金屬構(gòu)成。作為具有氧化能力的金屬,能夠使用如鉬Pt、銠Rh、鈀Pd這樣的鉬族金屬。在其他的實施例中,粒子76由與隔壁基材72s相同的陶瓷構(gòu)成。而且在其他的實施例中,粒子76由陶瓷以及金屬中的一方或雙方構(gòu)成。
[0056]隔壁基材72s的平均細孔直徑被設(shè)定為25 μ m以上且100 μ m以下。由本申請發(fā)明人確認到如下情況,即,當(dāng)隔壁基材72s的平均細孔直徑在25 μ m以上時,廢氣中所含有的大部分灰塵能夠通過隔壁72。因此,換言之,隔壁72的細孔直徑以非涂層區(qū)域NCZ中廢氣中所含有的灰塵能夠通過隔壁72的方式而設(shè)定。另外,當(dāng)考慮到粒狀物質(zhì)的平均粒子直徑小于灰塵的平均粒子直徑時,也可存在如下見解,即,隔壁72的細孔直徑以非涂層區(qū)域NCZ中粒狀物質(zhì)以及灰塵能夠通過隔壁72的方式而被設(shè)定。
[0057]涂層75的平均細孔直徑被設(shè)定為小于隔壁基材72s的平均細孔直徑。具體而言,涂層75的平均細孔直徑以涂層75能夠捕集廢氣中所含有的粒狀物質(zhì)的方式而被設(shè)定。而且,粒子76 ( 二次粒子)的平均直徑被設(shè)定為I μπι以上且ΙΟμπι以下。當(dāng)粒子76的平均直徑小于I μ m時,通過涂層75的粒狀物質(zhì)的量多于容許量。此外,當(dāng)粒子76的平均直徑大于10 μ m時,顆粒過濾器24或涂層75的壓力損失大于容許值。
[0058]另外,由本發(fā)明實施的實施例中,隔壁基材的細孔的平均直徑是指,通過汞壓入法而得到的細孔直徑分布的中位徑(50%徑),粒子的平均直徑是指,通過激光衍射、散射法而得到的體積基準(zhǔn)的粒度分布的中位徑(50%徑)。
[0059]另外,在廢氣中主要含有由固體碳形成的粒狀物質(zhì)。該粒狀物質(zhì)被捕集到顆粒過濾器24上。
[0060]此外,在廢氣中還含有灰塵,該灰塵也與粒狀物質(zhì)一起被捕集到顆粒過濾器24上。本申請
【發(fā)明者】確認到,該灰塵主要由硫酸鈣CaSO4、磷酸鋅鈣Ca19Zn2 (PO4) 14之類的鈣鹽形成。鈣Ca、鋅Zn、磷P等來自內(nèi)燃機潤滑油,硫S來自燃料。即,當(dāng)以硫酸鈣CaSO4為示例進行說明時,內(nèi)燃機潤滑油流入到燃燒室2內(nèi)進行燃燒,并通過潤滑油中的鈣Ca與燃料中的硫S相結(jié)合從而生成硫酸鈣CaS04。
[0061]本申請
【發(fā)明者】們確認到,在將平均細孔直徑為1ym至25μπι左右且不具備涂層75的現(xiàn)有的顆粒過濾器、換言之將灰塵幾乎無法通過的顆粒過濾器配置于內(nèi)燃機排氣通道內(nèi)的情況下,存在粒狀物質(zhì)堆積在與隔壁72的下游側(cè)部分相比而靠隔壁72的上游側(cè)部分的傾向,且存在灰塵堆積在與隔壁72的上游側(cè)部分相比而靠隔壁72的下游側(cè)部分的傾向。
[0062]在此,在由本發(fā)明實施的實施例中,在隔壁72的上游側(cè)設(shè)置涂層區(qū)域CZ,且在隔壁72的下游側(cè)設(shè)置非涂層區(qū)域NCZ。其結(jié)果為,粒狀物質(zhì)在上游側(cè)的涂層區(qū)域CZ中而被捕集到涂層75上,灰塵在下游側(cè)的非涂層區(qū)域NCZ中通過隔壁72。因此,能夠抑制粒狀物質(zhì)通過顆粒過濾器24的情況,并且能夠抑制灰塵堆積在顆粒過濾器24上的情況。換言之,能夠可靠地捕集到粒狀物質(zhì),并且能夠抑制顆粒過濾器24的壓力損失因灰塵而增大的情況。
[0063]燃燒在燃燒室2中氧過剩的條件下被實施。因此,只要不從燃料噴射閥3以及燃料添加閥27 二次供給燃料,則顆粒過濾器24將處于氧化氣氛中。此外,涂層75由具有氧化能力的金屬構(gòu)成。其結(jié)果為,涂層75上所捕集到的粒狀物質(zhì)依次被氧化。然而,當(dāng)每單位時間內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量多于每單位時間內(nèi)被氧化的粒狀物質(zhì)的量時,顆粒過濾器24上所捕集到的粒狀物質(zhì)的量將隨著內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間的流逝而增大。
[0064]圖5A至圖5E圖示了在顆粒過濾器24上所捕集到的粒狀物質(zhì)的量隨著內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間的流逝而增大的情況下的、顆粒過濾器24的捕集機制。
[0065]如圖5A所示,在內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間較短時即內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)的初期,粒狀物質(zhì)80主要在涂層區(qū)域CZ中被捕集到涂層75的細孔內(nèi)。在這種情況下,粒狀物質(zhì)幾乎未到達非涂層區(qū)域NCZ。另外,內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間為零的狀態(tài)相當(dāng)于顆粒過濾器24未使用的狀態(tài)。隨著內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間流逝,涂層75的細孔內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量將增大。
[0066]如圖5B所示,在內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間進一步流逝時,粒狀物質(zhì)80主要被捕集到涂層75的表面上且細孔內(nèi)。隨著內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間進一步流逝,涂層75的表面上所捕集到的粒狀物質(zhì)的量將增大。
[0067]如圖5C所示,在內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間進一步流逝時,粒狀物質(zhì)80到達非涂層區(qū)域NCZ且通過隔壁72。此時,涂層區(qū)域CZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量幾乎未增大。
[0068]在內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間進一步流逝時,到達非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)的一部分與隔壁72的細孔內(nèi)壁面碰撞而被捕集到隔壁72的細孔內(nèi)。S卩,如圖所示,粒狀物質(zhì)80主要在非涂層區(qū)域NCZ中被捕集到隔壁72的細孔內(nèi)。隨著內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間進一步流逝,非涂層區(qū)域NCZ中的隔壁72的細孔內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量將增大。
[0069]如圖5E所示,在內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間進一步流逝時,粒狀物質(zhì)80主要被捕集到非涂層區(qū)域NCZ中的隔壁72的表面上。隨著內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)時間進一步流逝,被捕集非涂層區(qū)域NCZ中的隔壁72的表面上的粒狀物質(zhì)的量將增大。
[0070]而且,本申請發(fā)明人還確認出到如下情況,S卩,在吸入空氣量較多時,并非涂層區(qū)域CZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量會變多,而是到達非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)的量會變多。因此,在吸入空氣量較多時,即使涂層區(qū)域CZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量較少,但非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量也將增多。
[0071]然而,當(dāng)在非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量過多時,會使灰塵通過非涂層區(qū)域NCZ的情況變得較為困難。當(dāng)灰塵無法通過非涂層區(qū)域NCZ時,有可能使大量的灰塵堆積在非涂層區(qū)域NCZ。
[0072]在此,在由本發(fā)明實施的實施例中,對在非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量QPMNCZ進行計算。接下來,對非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ是否多于第一容許上限量QPMNCZU進行辨別。在被辨別為非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ多于第一容許上限量QPMNCZU時,實施用于從顆粒過濾器24中對粒狀物質(zhì)進行去除的PM去除控制。其結(jié)果為,可使在非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量減少,從而可使灰塵易于通過非涂層區(qū)域NCZ。
[0073]在依據(jù)本發(fā)明而實施的實施例中,還計算出在涂層區(qū)域CZ所捕集到的粒狀物質(zhì)的量QPMCZ。接下來,對在涂層區(qū)域CZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ是否多于第二容許上限量QPMCZU實施辨別。在被辨別為涂層區(qū)域CZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)捕集量QPMZC多于第二容許上限量QPMCZU時,實施用于從顆粒過濾器24中對粒狀物質(zhì)進行去除的PM去除控制。其結(jié)果為,可使在涂層區(qū)域CZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量減少,并且可使通過涂層區(qū)域CZ而到達非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)的量降低。
[0074]S卩,如圖6所示,當(dāng)在時間tl處涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ與第二容許上限量QPMCZU相比而變多時,即使涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ與第一容許上限量QPMNCZU相比并未變多,也開始實施PM去除控制。其結(jié)果為,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ以及非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ分別減少。接下來,當(dāng)在時間t2處涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ大致為零時,停止實施PM去除控制。
[0075]當(dāng)停止實施PM去除控制時,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ以及非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ分別增大。接下來,在時間t3處非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ與第一容許上限量QPMNCZU相比而變大時,即使涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ與第二容許上限量QPMCZU相比未變大,也開始實施PM去除控制。其結(jié)果為,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ以及非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ分別減少。接下來,在時間t4處非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ大致為零時,SP使涂層區(qū)域CZN的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ并非大致為零,也停止實施PM去除控制。
[0076]S卩,在圖6所示的實施例中,在通過涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ越過第二容許上限量QPMCZU而開始實施PM去除控制時,在涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ大致為零時停止實施PM去除控制。此外,在通過非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ越過第一容許上限量QPMNCZU而開始實施PM去除控制時,在非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ大致為零時停止實施PM去除控制。
[0077]在其他的實施例中,當(dāng)涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ以及非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ的雙方均大致為零時,停止實施PM去除控制。而且在其他的實施例中,當(dāng)涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ以及非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ中的任意一方大致為零時,停止實施PM去除控制。
[0078]涂層區(qū)域CZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量QPMCZ使用下式(I)而被反復(fù)更新。
[0079]QPMCZ = QPMCZ+qPMi.EPMCZ-qPMCZd(I)
[0080]在式(I)中,qPMi表示在每單位時間內(nèi)流入顆粒過濾器24或涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)的量,EPMCZ表示涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率,qPMCZd表示在每單位時間內(nèi)從涂層區(qū)域CZ被去除的粒狀物質(zhì)的量。因此,qPMi.EPMCZ表示粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ的每單位時間內(nèi)的增大量,qPMCZd表示粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ的每單位時間內(nèi)的減少量。
[0081]在依據(jù)本發(fā)明而實施的實施例中,粒狀物質(zhì)流入量qPMi根據(jù)內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)狀態(tài)而被計算出。即,粒狀物質(zhì)流入量作為表示內(nèi)燃機負載的燃料噴射量QF以及內(nèi)燃機轉(zhuǎn)數(shù)Ne的函數(shù)而以圖7所示的映射圖的形式被預(yù)先存儲于R0M32內(nèi),并且粒狀物質(zhì)流入量qPMi利用該映射圖而被計算出。在其他的實施例中,粒狀物質(zhì)流入量qPMi通過被安裝在顆粒過濾器24上游的排氣通道上的粒狀物質(zhì)傳感器而被檢測出。
[0082]涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ為,在涂層區(qū)域CZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量相對于流入到涂層區(qū)域CZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)的量之比(O ( EPMCZ ( I)。在依據(jù)本發(fā)明實施的實施例而中,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ作為涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ的函數(shù)而以圖8所示的映射圖的形式被預(yù)先存儲于R0M32內(nèi),并且涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ利用該映射圖而被計算出。在圖8中,除了粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ非常少的情況以外,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ隨著粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ增多而減少。
[0083]涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ的每單位時間內(nèi)的減少量qPMCZd根據(jù)內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)狀態(tài)而被計算出。即,減少量qPMCZd作為吸入空氣量Ga以及顆粒過濾器24的溫度TF的函數(shù)而以圖9所示的映射圖的形式被預(yù)先存儲于R0M32內(nèi),并且減少量qPMCZd利用該映射圖而被計算出。
[0084]另一方面,在非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量QPMNCZ利用下式⑵而被反復(fù)更新。
[0085]QPMNCZ = QPMNCZ+qPMi.(1-EPMCZ).EPMNCZ-qPMNCZd(2)
[0086]在式(2)中,EPMNCZ表示非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集率,qPMNCZd表示在每單位時間內(nèi)從非涂層區(qū)域NCZ被去除的粒狀物質(zhì)的量。因此,qPMi.(1-EPMCZ)表示通過涂層區(qū)域CZ而流入到非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)的量,qPMi.(1-EPMCZ).EPMNCZ為表示粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ的每單位時間內(nèi)的增大量,qPMNCZd表示粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ的每單位時間內(nèi)的減少量。
[0087]粒狀物質(zhì)捕集率EPMNCZ為,在非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量相對于流入到非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)的量之比(O ( EPMNCZ ( I)。在依據(jù)本發(fā)明而實施的實施例中,非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMNCZ作為非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ的函數(shù)而以圖10所示的映射圖的形式被預(yù)先存儲于R0M32內(nèi),并且利用該映射圖而被計算出。在圖10中,非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)捕集率EPMNCZ隨著非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ增多而增大。
[0088]涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ的每單位時間內(nèi)的減少量qPMCZd根據(jù)內(nèi)燃機運轉(zhuǎn)狀態(tài)而被計算出。即,減少量qPMCZd作為吸入空氣量Ga以及顆粒過濾器24的溫度TF的函數(shù)而以圖11所示的映射圖的形式被預(yù)先存儲到R0M32內(nèi),并且減少量qPMCZd利用該映射而被計算出。
[0089]因此,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ根據(jù)流入到顆粒過濾器24的粒狀物質(zhì)的量qPMi和涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ而被計算出。此外,非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ根據(jù)流入到顆粒過濾器24的粒狀物質(zhì)的量qPM1、涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ、非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMNCZ而被計算出。
[0090]在由本發(fā)明實施的實施例中PM去除控制由升溫控制構(gòu)成,所述升溫控制為,在氧化氣氛的條件下使顆粒過濾器24的溫度上升并維持在PM去除溫度。PM去除溫度TPM例如為600°C。在升溫控制中顆粒過濾器24上所捕集到的粒狀物質(zhì)被氧化且被去除。為了使顆粒過濾器24的溫度上升,從而在由本發(fā)明實施的實施例中使從燃料添加閥27被添加的燃料在排氣通道或顆粒過濾器24中被燃燒。在其他的實施例中,從燃料噴射閥3被二次噴射的燃料在燃焼室2、排氣通道或顆粒過濾器24中被燃燒。
[0091]在其他的實施例中,PM去除控制由NOx增大控制構(gòu)成,所述NOx增大控制為,為了通過NOx而對粒狀物質(zhì)實施氧化去除,從而使流入到顆粒過濾器24的廢氣中的NOx量增大。為了使NOx量增大,例如使EGR氣體量被減少。而且在其他的實施例中,PM去除控制由臭氧供給控制構(gòu)成,所述臭氧供給控制為,通過臭氧對粒狀物質(zhì)實施氧化去除,而將臭氧從與顆粒過濾器24上游的排氣通道連接的臭氧供給器向顆粒過濾器24進行供給。
[0092]接下來,對第一容許上限量QPMNCZU以及第二容許上限量QPMCZU進行說明。
[0093]圖12圖示了顆粒過濾器24的灰塵捕集率EA與非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ之間的關(guān)系?;覊m捕集率EA為,顆粒過濾器24所捕集到的灰塵的量相對于流入到顆粒過濾器24的灰塵的量之比。如圖12所示,隨著粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ變多,灰塵捕集率EA將變高。上述的第一容許上限量QPMNCZU以灰塵捕集率EA成為容許上限値EAU的方式而被設(shè)定。其結(jié)果為,當(dāng)灰塵捕集率EA增大至容許上限値EAU時實施PM去除控制,由此,使灰塵捕集率EA降低。因此,可阻止灰塵捕集率EA越過容許上限値EAU而增大的情況。
[0094]圖13圖示了涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ與涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ之間的關(guān)系。如圖13所示,除了粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ非常少時以外,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ隨著粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ變多而減少。上述的第二容許上限量QPMCZU以粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ成為容許下限値EPMCZL的方式而被設(shè)定。其結(jié)果為,在粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ降低至容許下限値EPMCZL時實施PM去除控制,由此而使粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ增大。因此,可阻止粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ越過容許下限値EPMCZL而降低的情況。
[0095]另外,圖8以及圖13所示的涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ與涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ之間的關(guān)系根據(jù)吸入空氣量Ga或者顆粒過濾器24的溫度TF而相應(yīng)地進行變動。因此,在其他的實施例中,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ可根據(jù)吸入空氣量Ga以及顆粒過濾器24的溫度TF的至少一方來進行補正。而且在其他的實施例中,第二容許上限量QPMCZU可根據(jù)吸入空氣量Ga以及顆粒過濾器24的溫度TF的至少一方而進行補正。
[0096]圖14圖示了執(zhí)行依據(jù)本發(fā)明而實施的實施例的排氣凈化控制的程序。當(dāng)參照圖14時,在步驟101中,對通過圖15所示的程序而被計算出的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ、QPMNCZ進行讀取。接下來,在步驟102中對涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ是否多于第二容許上限量QPMCZU實施辨別。在QPMCZ > QPMCZU時接著進入步驟103,并執(zhí)行PM去除控制。接下來,結(jié)束處理循環(huán)。相對于此,在QPMCZ ^ QPMCZU時接著進入步驟104,并對非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ是否多于第一容許上限量QPMNCZU實施辨別。在QPMNCZ> QPMNCZU時接著進入步驟103,并執(zhí)行PM去除控制。相對于此,在QPMNCZ ( QPMNCZU時,結(jié)束處理循環(huán)。在這種情況下,不執(zhí)行PM去除控制。
[0097]圖15圖示了執(zhí)行依據(jù)本發(fā)明而實施的實施例的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ、QPMNCZ的計算控制的程序。參照圖15,在步驟111中利用圖7而對每單位時間內(nèi)流入到顆粒過濾器24中的粒狀物質(zhì)的量qPMi進行計算。接下來,在步驟112中,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMCZ基于當(dāng)前的涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ并利用圖8而被計算出。接下來,在步驟113中,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ的每單位時間內(nèi)的減少量qPMCZd利用圖9而被計算出。接下來,在步驟114中,涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ利用式(I)而被計算出。接下來,在步驟115中,非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集率EPMNCZ基于當(dāng)前的非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ并利用圖10而被計算出。接下來,在步驟116中,非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ的每單位時間內(nèi)的減少量qPMNCZd利用圖11而被計算出。接下來,在步驟117中,非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ利用式(2)而被計算出。
[0098]圖16圖示了執(zhí)行由本發(fā)明實施的實施例的PM去除控制的程序。該程序在圖14的步驟103中被執(zhí)行。參照圖16,在步驟121中實施上述的升溫控制。接下來,在步驟122中對是否應(yīng)該停止升溫控制實施辨別。在依據(jù)本發(fā)明而實施的實施例中,通過涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ越過第二容許上限量QPMCZU而開始實施PM去除控制時,在涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ大致成為零時被辨別為應(yīng)當(dāng)停止PM去除控制。此外,在通過非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ越過第一容許上限量QPMNCZU而開始實施PM去除控制時,在非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ大致成為零時被辨別為應(yīng)當(dāng)停止PM去除控制。在被辨別為應(yīng)當(dāng)停止升溫控制時,則返回至步驟121。相對于此,在被辨別為應(yīng)當(dāng)停止升溫控制時,結(jié)束處理循環(huán)。因此,停止實施升溫控制。
[0099]電子控制單元30 (圖1)被編程為,實施粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ、QPMNCZ的計算。此外,電子控制單元30被編程為,實施非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMNCZ是否多于第一容許上限量QPMNCZU的判斷。而且,電子控制單元30被編程為,實施涂層區(qū)域CZ的粒狀物質(zhì)捕集量QPMCZ是否多于第二容許上限量QPMCZU的判斷。而且,電子控制單元30被編程為,實施PM去除控制。
[0100]在至此所闡述的依據(jù)本發(fā)明而實施的實施例中,在非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)未設(shè)置有涂層。在其他的實施例中,在非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)設(shè)置有與涂層75不相同的其他的涂層。在這種情況下,在非涂層區(qū)域NCZ內(nèi)的隔壁72的平均細孔徑在設(shè)置有其他的涂層的狀態(tài)下而被設(shè)定為25 μπι以上100 μπι以下。其他的涂層由例如負載了具有氧化功能的金屬的催化劑涂層形成。其結(jié)果為,能夠較容易地對到達非涂層區(qū)域NCZ的粒狀物質(zhì)進行氧化去除。
[0101]符號說明
[0102]I 內(nèi)燃機主體;
[0103]21排氣管;
[0104]24顆粒過濾器;
[0105]71 i廢氣流入通道;
[0106]71ο廢氣流出通道;
[0107]72 隔壁;
[0108]75 涂層;
[0109]CZ 涂層區(qū)域;
[0110]NCZ非涂層區(qū)域。
【權(quán)利要求】
1.一種內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,具備: 顆粒過濾器,其為被配置在內(nèi)燃機排氣通道內(nèi)的、用于對廢氣中所含有的粒狀物質(zhì)進行捕集的顆粒過濾器,且具備被交替配置的廢氣流入通道以及廢氣流出通道、和將這些廢氣流入通道以及廢氣流出通道相互隔開的多孔性的隔壁,并且在隔壁上劃分有基材表面被平均細孔徑小于隔壁基材的平均細孔徑的涂層所覆蓋的涂層區(qū)域、和在涂層區(qū)域的下游側(cè)處基材表面未被所述涂層所覆蓋的非涂層區(qū)域,且隔壁的細孔徑被設(shè)定為,在非涂層區(qū)域內(nèi)廢氣中所含有的灰塵能夠通過隔壁; 第一計算單元,其對在非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算; 第一辨別單元,其對在非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量是否多于第一容許上限量進行辨別; 第一顆粒物去除單元,在被辨別為非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量多于第一容許上限量時,其實施用于從顆粒過濾器中對粒狀物質(zhì)進行去除的顆粒物去除控制。
2.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,其中, 所述第一計算單元根據(jù)流入至顆粒過濾器中的粒狀物質(zhì)的量、涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率、以及非涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率,來對非涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算。
3.如權(quán)利要求1或2所述的內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,其中, 還具備: 第二計算單元,其對在涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算; 第二辨別單元,其對在涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量是否多于第二容許上限量進行辨別; 第二顆粒物去除單元,在被辨別為涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量多于第二容許上限量時,其實施顆粒物去除控制。
4.如權(quán)利要求3所述的內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,其中, 所述第二計算單元根據(jù)流入至顆粒過濾器中的粒狀物質(zhì)的量、以及涂層區(qū)域的粒狀物質(zhì)捕集率,來對在涂層區(qū)域內(nèi)所捕集到的粒狀物質(zhì)的量進行計算。
5.如權(quán)利要求1至4中任意一項所述的內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,其中, 所述涂層由具有氧化功能的金屬粒子形成。
6.如權(quán)利要求1至5中任意一項所述的內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,其中, 所述隔壁基材的平均細孔徑被設(shè)定為25 μ m以上且100 μ m以下。
7.如權(quán)利要求1至6中任意一項所述的內(nèi)燃機的排氣凈化裝置,其中, 形成所述涂層的粒子的平均直徑被設(shè)定為I μ m以上且10 μ m以下。
【文檔編號】F01N3/023GK104411928SQ201280074483
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2012年11月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月13日
【發(fā)明者】西岡寬真, 伊藤和浩, 今井大地, 神武亮太 申請人:豐田自動車株式會社