專利名稱：：電解處理裝置和電解處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及電解處理裝置和電解處理方法。
背景技術(shù)：
：正如將鋁料片的一個面進(jìn)行電解粗糙化來制造平版印刷版用的支撐體料片的情況那樣，在將金屬帶狀體的一個面在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理的情況下，必須抑制因電流繞入至相反側(cè)的面而生成被膜的背面蔓延。作為抑制對帶狀體進(jìn)行電解處理時的背面蔓延的方法，例如有如下方法使電絕緣板靠近、配設(shè)在帶狀金屬板的進(jìn)行電解處理的區(qū)域中與電極相反側(cè)的表面來進(jìn)行電解處理(日本特開昭57-047894號公報)。作為上述電解處理方法中使用的電絕緣板，能使用電鍍用邊緣掩模(edgemask)等，所述電鍍用邊緣掩模設(shè)置在從電鍍槽內(nèi)通過的被鍍部件的側(cè)緣部周邊。作為這種電鍍用邊緣掩模，存在如下的邊緣掩模其具有支撐于鍍槽側(cè)的支撐部、被支撐部支撐且在被鍍部件的側(cè)緣部的長度方向上連續(xù)并可接觸的板狀的絕緣部件、以及將絕緣部件一直彈向被鍍部件的側(cè)緣部的彈力部件(日本實開昭61-073666號公報)。但是，若為了減少背面蔓延量而縮小電絕緣板與帶狀體的間距，則當(dāng)上述電絕緣板由塑料等較軟的材料形成時，帶狀體的側(cè)緣侵入電絕緣板，帶狀體中的側(cè)緣侵入電絕緣板的部分有可能發(fā)生受損或變形、斷裂等。此外，帶狀體與電絕緣板的表面密合有可能會導(dǎo)致在帶狀體產(chǎn)生較大阻力而出現(xiàn)帶狀體的輸送不良。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的發(fā)明，其目的在于提供即使為減少背面蔓延量而使電絕緣板與帶狀體的間距變窄也不會發(fā)生帶狀體的損傷以及輸送不良的電解處理裝置和電解處理方法。用于實現(xiàn)上述目的的第一方式為一種將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理的電解處理裝置，其具備電解槽，貯存上述電解液、在內(nèi)部輸送帶狀體；電極，沿上述帶狀體在上述電解槽中的輸送路徑而配設(shè)在上述輸送路徑的上方并被施加直流或交流；絕緣板，比重小于上述電解液、沿上述輸送路徑以浮游于上述輸送路徑下方的狀態(tài)而配設(shè)。在上述第1方式的電解處理裝置中，絕緣板的比重小于電解液，并且在沿上述輸送路徑浮游于上述輸送路徑下方的狀態(tài)下配設(shè)，因此若帶狀體上下移動，則絕緣板也會上下移動，因而可以獲得較高的防背面蔓延效果。此外，當(dāng)以某種理由從帶狀體向絕緣板施加強(qiáng)力時，絕緣板會向下方逃離，因此可以有效地抑制因從帶狀體向絕緣板施加強(qiáng)力所引起的絕緣板及帶狀體的表面損傷或帶狀體變形。用于實現(xiàn)上述目的的第2方式是在上述第1方式的電解處理裝置中，上述絕緣板的與電極相對側(cè)的面的中央部與上述面的兩側(cè)緣部相比向下方凹陷。在上述第2方式的電解處理裝置中，由于上述絕緣板的與電極相對側(cè)的面的中央部與上述面的兩側(cè)緣部相比向下方凹陷，因此與絕緣板為平板的情況相比，帶狀體與絕緣板的接觸面積減少。因此，能有效地抑制因帶狀體與絕緣板密合而引起的輸送不良。用于實現(xiàn)上述目的的第3方式是在上述第1方式的電解處理裝置中，上述絕緣板在中央部具有開口部。在上述第3方式的電解處理裝置中，由于在上述絕緣板的中央部形成了開口部，因此與絕緣板為平板的情況相比，帶狀體與絕緣板的接觸面積減少。因此，能有效地抑制因帶狀體與絕緣板密合而引起的輸送不良。用于實現(xiàn)上述目的的第4方式是上述第1方式的電解處理裝置中，在上述絕緣板的與上述電極相對側(cè)的面上按規(guī)定的間距形成有貫通孔、凹陷部、突出部或槽。在上述第4方式的電解處理裝置中，由于在上述絕緣板的與上述電極相對側(cè)的面上按規(guī)定的間距形成有貫通孔、凹陷部、突出部或槽。因此與絕緣板為平板的情況相比，帶狀體與絕緣板的接觸面積減少，因而能有效地抑制因帶狀體與絕緣板密合而引起的輸送不良。用于實現(xiàn)上述目的的第5方式是在上述第1方式的電解處理裝置中，上述絕緣板在上述帶狀體的輸送方向或與上述輸送方向正交的方向上被分成2塊以上。在上述第5方式的電解處理裝置中，由于上述絕緣板在上述帶狀體的輸送方向或與上述輸送方向正交的方向上被分成2塊以上，因此即使在電解槽內(nèi)帶狀體搖擺等，從而帶狀體局部上下移動時，絕緣板也會追隨帶狀體上下移動。因此，當(dāng)帶狀體的輸送不穩(wěn)定時，與絕緣板為一塊板的情況相比，能獲得更高的防背面蔓延效果。用于實現(xiàn)上述目的的第6方式是在上述第1第5的任一方式的電解處理裝置中，上述絕緣板是由比重小于上述電解液的絕緣性材料形成的無垢板。在上述第6方式的電解處理裝置中，由于上述絕緣板采用由比重小于上述電解液的絕緣性材料形成的無垢板，因此能容易且廉價地形成絕緣板。用于實現(xiàn)上述目的的第7方式基于上述第1第5的任一方式的電解處理裝置，其中，上述絕緣板是內(nèi)部中空的中空結(jié)構(gòu)體。在上述第7方式的電解處理裝置中，由于上述絕緣板采用內(nèi)部中空的中空結(jié)構(gòu)體，因此通過增減中空結(jié)構(gòu)體的外殼的壁厚，從而根據(jù)電解液的比重以及帶狀體的輸送速度來調(diào)節(jié)絕緣板整體的比重，能一直以適度的表面壓力使絕緣板與帶狀體接觸。用于實現(xiàn)上述目的的第8方式是在上述第1第5的任一方式的電解處理裝置中，上述絕緣板是內(nèi)部發(fā)泡的發(fā)泡體。在上述第8方式的電解處理裝置中，由于上述絕緣板采用內(nèi)部發(fā)泡的發(fā)泡體，因此通過增減發(fā)泡體的內(nèi)部的發(fā)泡度，從而根據(jù)電解液的比重以及帶狀體的輸送速度來調(diào)節(jié)絕緣板整體的比重，能一直以適度的表面壓力使絕緣板與帶狀體接觸。用于實現(xiàn)上述目的的第9方式是在上述第1第8的任一方式的電解處理裝置中，在上述絕緣板的與上述電極相對側(cè)的面中的相對于上述輸送方向為上游側(cè)的端部，形成有向上述電極接近的方向的傾斜。在上述第9方式的電解處理裝置中，由于在上述絕緣板的與上述電極相對側(cè)的面中的相對于上述輸送方向為上游側(cè)的端部，形成向上述電極接近的方向的傾斜。因此，易于在上述絕緣板與電極之間導(dǎo)入帶狀體。用于實現(xiàn)上述目的的第IO方式是在上述第1第9的任一方式的電解處理裝置中，具備調(diào)節(jié)上述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。在上述第IO方式的電解處理裝置中，由于具備調(diào)節(jié)上述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，因此利用上述浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)使絕緣板的浮游高度上下變化，能調(diào)節(jié)帶狀體與絕緣板的間距。用于實現(xiàn)上述目的的第11方式是一種電解處理方法，其使用貯存電解液并在內(nèi)部設(shè)有電極的電解槽，一邊將帶狀體在上述電極的下方沿規(guī)定的輸送路徑輸送，一邊對上述帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理；并且將比重小于上述電解液的絕緣板在沿上述輸送路徑浮游于上述輸送路徑下方的狀態(tài)下配設(shè)，并在上述配設(shè)的狀態(tài)下向上述電極施加直流或交流，對上述帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理。根據(jù)上述第11方式的電解處理方法，基于與技術(shù)方案1中說明的理由相同的理由，可以提供能有效地抑制因從帶狀體向絕緣板施加強(qiáng)力所引起的絕緣板及帶狀體的表面損傷或帶狀體變形。圖1是表示將實施方式1的電解粗糙化裝置沿鋁料片的輸送方向切斷得到的剖面的剖面圖。圖2是表示可以在實施方式1的電解粗糙化裝置中使用的絕緣板的一個例子的寬度方向的剖面圖。圖3是表示可以在實施方式1的電解粗糙化裝置中使用的絕緣板的另一個例子的寬度方向的剖面圖。圖4是表示可以在實施方式1的電解粗糙化裝置中使用的絕緣板的在中央部設(shè)有開口的例子的立體圖。圖5是表示在上述絕緣板的與電極相對側(cè)的面上形成了凹陷部的例子的立體圖。圖6是表示在上述絕緣板的與電極相對側(cè)的面上形成了突出部的例子8的立體圖。圖7是表示在上述絕緣板的與電極相對側(cè)的面上形成了貫通孔的例子的立體圖。圖8是表示在上述絕緣板的與電極相對側(cè)的面上形成了槽的例子的立體圖。圖9是表示在上述絕緣板的與電極相對側(cè)的面上形成了槽的例子的立體圖。圖10是表示上述絕緣板沿與鋁料片W的輸送方向正交的方向分成多塊的例子的立體圖。圖11是表示實施例1的電解粗糙化裝置所具有的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的放大圖。圖12是表示比較例1和2中使用的電解粗糙化裝置的結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖13是表示比較例3中使用的電解粗糙化裝置的結(jié)構(gòu)的剖面圖。具體實施方式l.實施方式l對本發(fā)明的電解處理裝置的一個例子、即用于通過電化學(xué)方法使鋁料片的一個面粗糙化的電解粗糙化裝置進(jìn)行說明。[結(jié)構(gòu)]如圖1所示，實施方式1的電解粗糙化裝置100具有電解槽1，其在內(nèi)部貯存酸性電解液，并沿水平方向輸送希望進(jìn)行電解粗糙化的鋁料片W，是上表面開放的有底容器；一組的電極2，其配設(shè)在電解槽l內(nèi)部的鋁料片W的輸送路徑P的上方；絕緣板3，其配設(shè)在電解槽l的內(nèi)部的輸送路徑P的下方；導(dǎo)輥4，其在電解槽l內(nèi)部沿輸送路徑P對鋁料片W進(jìn)行引導(dǎo)。因此，絕緣板3夾隔鋁料片W的輸送路徑而配設(shè)在電極2的相反側(cè)。絕緣板3與輸送路徑P之間的間距、換而言之是絕緣板3與被輸送的鋁料片W之間的間距優(yōu)選為010mm的范圍。但如后所述，當(dāng)絕緣板3的與電極2相對側(cè)的面為平面時，優(yōu)選不與鋁料片W密合，具體而言，與鋁料片W之間的間距優(yōu)選為110mm左右。作為電極2，使用沿箭頭a所示的鋁料片W的輸送方向配設(shè)塊狀的小電極2A而形成的電極。小電極2A由石墨燒結(jié)體等形成。相鄰的2個小電極2A之間優(yōu)選介入安裝絕緣板。小電極2A分別與交流電源(未圖示)連接。如圖1所示，在絕緣板3的相對于輸送方向a為上游側(cè)的端部3A的與電極2相對側(cè)的面上，以向電極2接近的方式形成傾斜。絕緣板3是漂浮于電解槽1中貯存的酸性電解液中的板狀部件，如圖2所示，也可以在與電極2相對側(cè)的面的寬度方向中央部形成與輸送方向a平行的凹陷部30，如圖3所示，也可以朝向?qū)挾确较蛑醒氩肯蛳路綇澢?。另外，也可以是省略絕緣板3中沿寬度方向的中央部而僅殘留與鋁料片W的側(cè)緣部對應(yīng)的部分的形態(tài)。而且，在與電極2相對側(cè)的整個面上，如圖4所示，可以在中央部形成開口部31，如圖5圖9所示，也可以按一定的間距d形成凹陷部32(圖5)、突出部33(圖6)、貫通孔34(圖7)、槽35(圖8、圖9)。另外，槽35可以如圖8所示那樣沿與輸送方向a正交的方向形成，也可以如圖9所示那樣沿輸送方向a的方向形成。凹陷部32、突出部33、貫通孔34的直徑優(yōu)選為210mm，特別優(yōu)選為37mm。槽35的寬度優(yōu)選為110mm，更優(yōu)選為27mm，特別優(yōu)選為26mm的范圍。凹陷部32、突出部33、貫通孔34、槽35的間距d優(yōu)選為1100mm，特別優(yōu)選為2070mm，更優(yōu)選為3060mm。另外，如圖5圖9所示，間距d是2個相鄰的凹陷部32、突出部33、貫通孔34以及槽35的中心間的距離。另外，凹陷部32、突出部33、貫通孔34可以如圖5圖7所示那樣相對于輸送方向a以交錯狀配設(shè)，也可以沿與輸送方向a平行的方向和正交的方向以棋盤格狀配設(shè)。此外，絕緣板3可以如圖10所示那樣沿與輸送方向a正交的方向按規(guī)定的間距分割。在圖IO所示的方式中，絕緣板3的寬w、換而言之是沿輸送方向a的尺寸優(yōu)選為20200mm左右，更優(yōu)選為50150mm，特別優(yōu)選為70130mm。對分割塊數(shù)沒有特殊限制，優(yōu)選為210塊左右，更優(yōu)選為27塊左右，特別優(yōu)選為36塊左右，只要在2塊以上即可，不限于上述范圍的塊數(shù)。絕緣板3可以是用比重小于上述酸性電解液的材質(zhì)形成的無垢板，也可以是內(nèi)部空心的中空結(jié)構(gòu)體，還可以是內(nèi)部發(fā)泡的發(fā)泡結(jié)構(gòu)體。當(dāng)使用無垢板作為絕緣板3時，作為上述無垢板的材質(zhì)，可以列舉聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、乙烯丙烯共聚物等聚烯烴系樹脂以及木材等，從耐試劑性以及耐沖擊性高、表面具有疏水性的觀點出發(fā)，優(yōu)選聚烯烴系樹脂。當(dāng)使用中空結(jié)構(gòu)體作為絕緣板時，作為中空結(jié)構(gòu)體的材質(zhì)，除上述聚烯烴系樹脂外，還可以列舉聚苯乙烯樹脂、耐沖擊性聚苯乙烯樹脂、ABS樹脂、AS樹脂等聚苯乙烯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂、聚對苯二甲酸1,3-丙二醇酯樹脂、聚對苯二甲酸1,4-丁二醇酯樹脂、聚萘二甲酸乙二醇酯樹脂、聚萘二甲酸丁二醇酯等聚酯系樹脂、尼龍6、尼龍ll、尼龍12、尼龍66、尼龍610、尼龍6T、尼龍61、尼龍9T、尼龍M5T、尼龍612等脂肪族聚酰胺系樹脂、環(huán)氧樹脂、以及各種聚氨酯樹脂等。其中，聚烯烴系樹脂、脂肪族聚酰胺系樹脂以及聚烯烴系樹脂由于能通過吹塑成形而容易地制造大型中空結(jié)構(gòu)體，因而特別優(yōu)選。作為絕緣板3使用的發(fā)泡結(jié)構(gòu)體，從防止酸性電解液滲入內(nèi)部的觀點出發(fā)，優(yōu)選為表面由致密的層形成而內(nèi)部發(fā)泡的形態(tài)。作為材質(zhì)，可以列舉與中空結(jié)構(gòu)體中所述的材質(zhì)相同的材質(zhì)。如圖2、圖3和圖11所示，在電解槽1的內(nèi)側(cè)的側(cè)壁面上，在與絕緣板3的四角部對應(yīng)的位置上，設(shè)有調(diào)節(jié)絕緣板3的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)5。如圖ll所示，浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)5具備沿垂直方向設(shè)置的螺絲即浮起位置調(diào)節(jié)制動部6和固定于電解槽1內(nèi)側(cè)的側(cè)壁面并與浮起位置調(diào)節(jié)制動部6螺合的制動部保持部7。浮起位置調(diào)節(jié)制動部6以頭部位于上方、頂端部位于下方的方式與制動部保持部7螺合。因此，從酸性電解質(zhì)中浮起的絕緣板3在浮起至規(guī)定的高度時，上表面與浮起位置調(diào)節(jié)制動部6的頂端抵接，因此無法浮起至高于浮起位置調(diào)節(jié)制動部6的頂端的高度。若在與制動部保持部7螺合的狀態(tài)下使浮起位置調(diào)節(jié)制動部6的頭部向從上方看為順時針的方向旋轉(zhuǎn)，則浮起位置調(diào)節(jié)制動部6會下降，浮起位置調(diào)節(jié)制動部6的頂端也會向下方移動。由此，設(shè)定絕緣板3的上表面的高度方向的位置即高度方向位置，設(shè)定鋁料片W與絕緣板3之間的間距。以下，對電解粗糙化裝置100的作用進(jìn)行說明。首先，在電解槽1中裝滿酸性電解液。作為酸性電解液，可以使用選自鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸以及磺酸中的無機(jī)或有機(jī)強(qiáng)酸的酸性電解質(zhì)的溶液。酸性電解質(zhì)可以2種以上并用。此夕卜，酸性電解質(zhì)的濃度優(yōu)選為l10質(zhì)量％左右。接著，將鋁料片W在導(dǎo)輥4的引導(dǎo)下沿輸送路徑P在電解槽1內(nèi)部輸送的同時，在電解槽1外部與接地輥(未圖示)接觸形成接地狀態(tài)。在此狀態(tài)下，向各小電極2A施加交流電壓，將鋁料片W的與電極2相對側(cè)的面電解粗糙化。在電解粗糙化中，通過絕緣板3阻礙電流繞入至跟鋁料片W的與電極2相對側(cè)相反的一側(cè)的面，因此能減小上述面被粗糙化的背面蔓延發(fā)生的寬度即背面蔓延量。另外，絕緣板3利用浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)5被抑制向上方的移動，保持在規(guī)定的浮起高度。因此，當(dāng)強(qiáng)力作用于鋁料片W時，絕緣板3向下方逃離，從而防止鋁料片W侵入絕緣板3和鋁料片W的損傷。1.實施例14、比較例13使用圖1所示形態(tài)的電解粗糙化裝置100，用電解粗糙化裝置100將鋁料片粗糙化。作為鋁料片，使用厚0.3mm、寬1000mm的純鋁，輸送速度為50m/分鐘，向電極2的各小電極2A施加電流密度為75125A/dm2、60Hz的正弦波電流，粗糙化面的表面粗糙度的目標(biāo)值設(shè)為0.5pm，進(jìn)行電解粗糙化。作為酸性電解液，使用濃度為1018g/L的鹽酸水溶液。在電解粗糙化裝置100中，電極2的寬度為1500mm，作為絕緣板3，采用如下所述的絕緣板，其是厚15mm、寬1200mm的聚丙烯樹脂(比重為0.94)的無垢板，且如圖1所示在距離兩側(cè)邊緣200mm內(nèi)側(cè)設(shè)有深5mm的凹陷部(A型、實施例l、2)以及將實施例1中使用的絕緣板3沿與輸送方向a正交的方向分成4塊(B型、實施例3、4)。另外，在B型絕緣板3中，各絕緣板3的寬度為100mm。在比較例13中，將實施例1和2中使用的絕緣板如圖12所示那樣固定在電解槽1內(nèi)(比較例1、2)，或如圖13所示，在電解槽1的內(nèi)側(cè)配設(shè)支撐部件E來代替絕緣板3(比較例3)，該支撐部件E由固定在電解槽1底部的絕緣板D、通過軸C能上下?lián)u動地被絕緣板D軸支承的絕緣板B、以及介入安裝在絕緣板B與絕緣板D之間的能向上方對絕緣板B施力的橡膠球A構(gòu)成。鋁料片W與絕緣板3的間隙為10mm(實施例1、3、比較例1)以及0mm(實施例2、4、比較例2)。在上述條件下進(jìn)行鋁料片W的表面粗糙化，關(guān)于背面蔓延量，用尺子對鋁料片W的面向絕緣板3側(cè)的面的側(cè)緣部形成的粗糙化部的寬度進(jìn)行測定，求出背面蔓延量。此外，關(guān)于鋁料片W的上述面的損傷和變形，用肉眼來評價。結(jié)果如表1所示。<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>從表1可知在絕緣板3為浮力式的實施例14中，未見鋁料片的損傷和變形，在將絕緣板3固定在電解槽1內(nèi)部的比較例1、2中，當(dāng)鋁料片W與絕緣板3的間距大為10mm時，在絕緣板3的表面可見明顯損傷，當(dāng)上述間距為0mm時，鋁料片W的側(cè)緣侵入絕緣板3而無法輸送。另外，在采用利用橡膠球A的彈力將上方的絕緣板B按壓到鋁料片W的彈力式絕緣板的比較例3中，在鋁料片W的表面可見擦傷。2.實施例5、6、參考例1作為絕緣板3，采用如下所述的絕緣板，其是厚15mm的聚丙烯樹脂(比重為0.94)的無垢板，且與電極2相對側(cè)的面為平面(參考例l)、如圖7所示那樣在上述面的整個面上以棋盤格狀形成貫通孔34(實施例5)、以及如圖8所示那樣形成與輸送方向a正交的方向的槽35(實施例6)，鋁料片w與絕緣板3的間距設(shè)為Omm，除此以外，均與實施例14同樣地實施鋁料片W的電解粗糙化處理。在實施例5中，貫通孔34的直徑設(shè)定為5mm，與輸送方向a平行的方向以及正交的方向的間距設(shè)定為5mm。另外，在實施例6中，槽35的寬度設(shè)定為3mm，間距設(shè)定為50mm。結(jié)果如表2所示。<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>從表2可知在參考例1中，鋁料片W與絕緣板3密合而無法輸送，在實施例5和6中，背面蔓延量均被控制在3mm，而且鋁料片W上未見損傷和變形。由此可知當(dāng)絕緣板3中與電極2相對側(cè)的面為平面時，鋁料片W與絕緣板3的間距不宜為Omm，優(yōu)選設(shè)置一定程度的間距。能適用本發(fā)明的電解處理裝置和電解粗糙化方法的帶狀體不限于鋁料片，也包含普通鋼板以及不銹鋼板、鈦板等各種金屬的帶狀體等。另外，還包含在聚酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚砜樹脂、聚醚醚酮樹脂、乙烯丙烯共聚物、乙烯-乙烯基醇共聚物等各種塑料的膜的表面通過蒸鍍或鍍覆等形成了鋁或銀、銅等金屬層或氧化錫等導(dǎo)電性氧化物被膜的帶狀體。另外，能適用本發(fā)明的電解處理裝置和電解粗糙化方法的電化學(xué)處理不限于在酸性電解液中利用交流使鋁料片電解粗糙化，例如利用直流在鋁料片表面形成陽極氧化被膜或著色鋁陽極化處理、對普通鋼板以及不銹鋼板的帶狀體的各種鍍覆處理等也包含在上述電化學(xué)處理中。權(quán)利要求1、一種電解處理裝置，其是將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理的電解處理裝置，該電解處理裝置具備電解槽，貯存所述電解液、在內(nèi)部輸送帶狀體；電極，沿所述帶狀體在所述電解槽中的輸送路徑而配設(shè)在所述輸送路徑的上方并被施加直流或交流；絕緣板，比重小于所述電解液、沿所述輸送路徑以浮游于所述輸送路徑下方的狀態(tài)而配設(shè)。2、根據(jù)權(quán)利要求l所述的電解處理裝置，其中，所述絕緣板中，與電極相對側(cè)的面的中央部與所述面的兩側(cè)緣部相比向下方凹陷。3、根據(jù)權(quán)利要求l所述的電解處理裝置，其中，所述絕緣板在中央部具有開口部。4、根據(jù)權(quán)利要求l所述的電解處理裝置，其中，所述絕緣板在與所述電極相對側(cè)的面上按規(guī)定的間距形成有貫通孔、凹陷部、突出部或槽。5、根據(jù)權(quán)利要求l所述的電解處理裝置，其中，所述絕緣板在所述帶狀體的輸送方向或與所述輸送方向正交的方向上被分成2塊以上。6、根據(jù)權(quán)利要求15中任一項所述的電解處理裝置，其中，所述絕緣板是由比重小于所述電解液的絕緣性材料形成的無垢板。7、根據(jù)權(quán)利要求15中任一項所述的電解處理裝置，其中，所述絕緣板是內(nèi)部中空的中空結(jié)構(gòu)體。8、根據(jù)權(quán)利要求15中任一項所述的電解處理裝置，其中，所述絕緣板是內(nèi)部發(fā)泡的發(fā)泡體。9、根據(jù)權(quán)利要求15中任一項所述的電解處理裝置，其中，在所述絕緣板的與所述電極相對側(cè)的面中的相對于所述輸送方向為上游側(cè)的端部，形成有向所述電極接近的方向的傾斜。10、根據(jù)權(quán)利要求6所述的電解處理裝置，其中，在所述絕緣板的與所述電極相對側(cè)的面中的相對于所述輸送方向為上游側(cè)的端部，形成有向所述電極接近的方向的傾斜。11、根據(jù)權(quán)利要求7所述的電解處理裝置，其中，在所述絕緣板的與所述電極相對側(cè)的面中的相對于所述輸送方向為上游側(cè)的端部，形成有向所述電極接近的方向的傾斜。12、根據(jù)權(quán)利要求8所述的電解處理裝置，其中，在所述絕緣板的與所述電極相對側(cè)的面中的相對于所述輸送方向為上游側(cè)的端部，形成有向所述電極接近的方向的傾斜。13、根據(jù)權(quán)利要求15中任一項所述的電解處理裝置，其具備調(diào)節(jié)所述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。14、根據(jù)權(quán)利要求6所述的電解處理裝置，其具備調(diào)節(jié)所述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。15、根據(jù)權(quán)利要求7所述的電解處理裝置，其具備調(diào)節(jié)所述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。16、根據(jù)權(quán)利要求8所述的電解處理裝置，其具備調(diào)節(jié)所述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。17、根據(jù)權(quán)利要求9所述的電解處理裝置，其具備調(diào)節(jié)所述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。18、根據(jù)權(quán)利要求10所述的電解處理裝置，其具備調(diào)節(jié)所述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。19、根據(jù)權(quán)利要求ll所述的電解處理裝置，其具備調(diào)節(jié)所述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。20、根據(jù)權(quán)利要求12所述的電解處理裝置，其具備調(diào)節(jié)所述絕緣板的高度方向的浮起位置的浮起位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。21、一種電解處理方法，其使用貯存電解液并在內(nèi)部設(shè)有電極的電解槽，一邊將帶狀體在所述電極的下方沿規(guī)定的輸送路徑輸送，一邊對所述帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理；并且將比重小于所述電解液的絕緣板在沿所述輸送路徑浮游于所述輸送路徑下方的狀態(tài)下配設(shè)，并在所述配設(shè)的狀態(tài)下向所述電極施加直流或交流，對所述帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理。全文摘要本發(fā)明涉及一種電解處理裝置和電解處理方法，所述電解處理裝置是將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理的電解處理裝置，其具備電解槽，貯存上述電解液、在內(nèi)部輸送帶狀體；電極，沿上述帶狀體在上述電解槽中的輸送路徑而配設(shè)在上述輸送路徑的上方并被施加直流或交流；絕緣板，比重小于上述電解液、沿上述輸送路徑以浮游于上述輸送路徑下方的狀態(tài)而配設(shè)。文檔編號C25F7/00GK101532166SQ200910127388公開日2009年9月16日申請日期2009年3月13日優(yōu)先權(quán)日2008年3月14日發(fā)明者增田明申請人:富士膠片株式會社