一種電極箔化成用電解槽裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及種一種電極箔生產(chǎn)過程中的化成用電解槽裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]電極箔生產(chǎn)過程中化成工序要將電極箔經(jīng)過含有電解液的電解槽內(nèi)進(jìn)行化成，含有電解質(zhì)的電解液需要在電解槽內(nèi)進(jìn)行循環(huán)，其目的是利用利用循環(huán)栗、加熱器、熱交換器，有時加裝有過濾器，實現(xiàn)電解液在電解槽內(nèi)進(jìn)行循環(huán)以保持電解液循環(huán)均勻、溫度穩(wěn)定，加裝過濾器是為了去除電解液中的結(jié)晶及雜質(zhì)顆粒。
[0003]現(xiàn)有的電極箔化成用電解槽裝置，如圖1所示，該裝置是方形槽體，槽體底部是水平底面或斜底面，循環(huán)進(jìn)口在槽體的最底部位置。
[0004]此裝置電解槽如果未加裝過濾器，在生產(chǎn)過程中結(jié)晶及雜質(zhì)顆粒多，電極箔與結(jié)晶或雜質(zhì)顆粒擠壓會破壞電極箔外觀質(zhì)量產(chǎn)生坑點或裂口，嚴(yán)重的會產(chǎn)生斷箔，影響電極箔產(chǎn)品的外觀質(zhì)量，降低產(chǎn)品的成品率和合格率，即使有加裝過濾器11用以過濾結(jié)晶或雜質(zhì)顆粒，但一定時期就需要停產(chǎn)對過濾器進(jìn)行清理維護(hù)，停產(chǎn)會大幅增加生產(chǎn)成本和生產(chǎn)效率；同時，在停機清洗電解槽時，由于電解槽槽體底部是水平底面或斜底面，雜質(zhì)顆粒很難清洗干凈，需要進(jìn)行多次清洗，增加清洗成本的同時降低了清洗效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種無需過濾裝置，可自動清除結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)的電極箔化成用電解槽裝置。
[0006]本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)方案來具體實現(xiàn):
一種電極箔化成用電解槽裝置，包括槽體I，槽體I上設(shè)有循環(huán)進(jìn)口 2、循環(huán)出口 3，循環(huán)進(jìn)口 2和循環(huán)出口 3之間連通有循環(huán)管道4，所述循環(huán)出口 3設(shè)于槽體I的上部，所述槽體I的底部設(shè)有雜質(zhì)沉淀裝置5，所述沉淀裝置5與槽體I連接，形成連通的腔體，所述沉淀裝置5呈上口大下口尖的漏斗型，所述沉淀裝置的底部設(shè)有放液口 6。
[0007]優(yōu)選的，所述槽體I呈正方體、長方體或圓柱體結(jié)構(gòu);進(jìn)一步優(yōu)選的，所述槽體I呈正方體或長方體結(jié)構(gòu)。
[0008]優(yōu)選的，所述沉淀裝置5為四方錐體結(jié)構(gòu)或圓錐體結(jié)構(gòu)。
[0009]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述沉淀裝置5為四方錐體結(jié)構(gòu)。
[0010]優(yōu)選的，所述沉淀裝置5的錐角為45°?120°。
[0011]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述沉淀裝置5的錐角為60°?90°。
[0012]沉淀裝置5的設(shè)置是利用結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)的重力，以及循環(huán)電解液在沉淀裝置中流體特點，可將結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)沉淀于底部。沉淀裝置設(shè)計成上大下小的縮口四方錐體結(jié)構(gòu)，使循環(huán)電解液在其底部的循環(huán)量變小，促進(jìn)結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)沉淀。然而，滿足上大下小的縮口漏斗型結(jié)構(gòu)，不僅僅限于四方錐體形狀，還可以有多面錐形、螺旋錐形等本領(lǐng)域技術(shù)人員可以想到一切可達(dá)到的本發(fā)明中沉淀作用的上大下小的縮口結(jié)構(gòu)。
[0013]本發(fā)明的靈魂在于沉淀裝置的設(shè)置，而對于沉淀裝置的錐角的大小，并不是本領(lǐng)域的常規(guī)選擇，發(fā)明人經(jīng)過反復(fù)的試驗和深入的探索，發(fā)現(xiàn)針對用于電極箔化成用電解液循環(huán)特點，當(dāng)錐角過小于45°時，沉淀裝置呈細(xì)高的形態(tài)，不利于實際的生產(chǎn)，為實際的作業(yè)帶來諸多麻煩和不便，還會給電解液的循環(huán)帶來困難，使生產(chǎn)成本增加。而當(dāng)錐角在于120°時，沉淀效果下降。當(dāng)錐角為45°?120°時，沉淀效果和循環(huán)效果均呈現(xiàn)良好結(jié)果，當(dāng)60°?90°時，效果最佳，生產(chǎn)成本最低。
[0014]優(yōu)選的，所述槽體I與沉淀裝置5—體成型。
[0015]優(yōu)選的，所述循環(huán)進(jìn)口2設(shè)于槽體I的下部。
[0016]優(yōu)選的，所述循環(huán)進(jìn)口2設(shè)于槽體I側(cè)壁上距離槽體I與沉淀裝置連接處30-50cm處。
[0017]現(xiàn)有的化成用電解槽裝置，參見圖1，循環(huán)進(jìn)口在設(shè)計時，盡可能的貼近電解槽底部，有利于電解液充分的循環(huán)。本發(fā)明循環(huán)進(jìn)口 2并不采用這樣的思路，可是設(shè)置于距離槽體I與沉淀裝置連接處30-50cm處，沉淀裝置的設(shè)置，加長了電解液在電解槽中的循環(huán)空間，同時利用循環(huán)進(jìn)口 2的設(shè)計，保證電解液在沉淀裝置中循環(huán)量更小，有利于結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)的沉淀。
[0018]優(yōu)選的，所述循環(huán)管道4上與循環(huán)進(jìn)口2連接處依次設(shè)有加熱器7、循環(huán)栗8和熱交換器9，加熱器7距離循環(huán)進(jìn)口最近。
[0019]與現(xiàn)有的相比，此處本發(fā)明循環(huán)管道上可以節(jié)省過濾器11的設(shè)置，減少了過設(shè)備成本，同時也減少了過濾器的清理維護(hù)的成本，提高生產(chǎn)效率。
[0020]優(yōu)選的，所述放液口6的連通有放液管道10。
[0021 ] 本發(fā)明原理:
化成用的電解液在電解槽內(nèi)，電解液含有一定濃度的電解質(zhì)，化成過程中電解液需要通過循環(huán)管道、循環(huán)栗在槽體內(nèi)進(jìn)行循環(huán)，同時化成過程中電解液會產(chǎn)生結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒，結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒在化成生產(chǎn)過程中參與電解液循環(huán)會與鋁箔箔面擠壓形成坑點或裂口，從而影響化成電極箔的外觀質(zhì)量，結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒由于重力作用會逐漸沉淀在錐形槽體底部，由于電解槽液循環(huán)時錐形底部的槽液循環(huán)量很小，結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒會沉淀在錐形槽體底部不再進(jìn)入電解液循環(huán)過程，同時定期打開安裝在與錐形槽體底部的放液閥門即可將結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒隨電解液放掉。
[0022]本發(fā)明的有益效果是:
本發(fā)明提供的化成用的電解液在電解槽裝置，可以使電解液中的結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒沉淀在錐形槽體底部，有效減少了循環(huán)電解液中的結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒，改善了電極箔化成是鋁箔的外觀質(zhì)量，提高了產(chǎn)品的合格率，也可以延長電極箔化成的生產(chǎn)周期，降低生產(chǎn)成本;還可以在電解槽清洗時使得沖洗、排放更方便、更快捷，減少清洗成本的同時有效提高了電解槽體的清洗效率。
[0023]說明書附圖
圖1為現(xiàn)有的化成用的電解液在電解槽裝置示意圖；
圖2為本發(fā)明化成用的電解液在電解槽裝置示意圖；
其中，1-電解槽，2-循環(huán)進(jìn)口，3-循環(huán)出口，4-循環(huán)管道，5-沉淀裝置，6-放液口，7-加熱器，8-循環(huán)栗，9-熱交換器，I O-放液管道，11 -過濾器。
【具體實施方式】
[0024]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進(jìn)行說明，應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的優(yōu)選實施例僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明
實施例1:
化成用的電解液在電解槽裝置，參見圖2，包括槽體I，槽體I上設(shè)有循環(huán)進(jìn)口 2、循環(huán)出口 3，循環(huán)進(jìn)口 2和循環(huán)出口 3之間連通有循環(huán)管道4，所述循環(huán)出口 3設(shè)于槽體I的上部，所述槽體I的底部設(shè)有雜質(zhì)沉淀裝置5，所述沉淀裝置5與槽體I連接，形成連通的腔體，所述沉淀裝置5呈上口大下口尖的漏斗型，所述沉淀裝置的底部設(shè)有放液口6。所述槽體I呈正方體、長方體或圓柱體結(jié)構(gòu)，優(yōu)選正方體或長方體結(jié)構(gòu)。所述沉淀裝置5為四方錐體結(jié)構(gòu)或圓錐體結(jié)構(gòu)，優(yōu)選四方錐體結(jié)構(gòu);錐角為45°~120°，優(yōu)選60°?90°。所述循環(huán)進(jìn)口2設(shè)于槽體I側(cè)壁上距離槽體I與沉淀裝置連接處30-50cm處。所述循環(huán)管道4上與循環(huán)進(jìn)口 2連接處依次設(shè)有加熱器7、循環(huán)栗8和熱交換器9，加熱器7距離循環(huán)進(jìn)口最近。所述放液口 6的連通有放液管道10。
[0025]化成用的電解液在電解槽內(nèi)，電解液含有一定濃度的電解質(zhì)，化成過程中電解液需要通過循環(huán)管道、循環(huán)栗在槽體內(nèi)進(jìn)行循環(huán)，同時化成過程中電解液會產(chǎn)生結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒，結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒在化成生產(chǎn)過程中參與電解液循環(huán)會與鋁箔箔面擠壓形成坑點或裂口，從而影響化成電極箔的外觀質(zhì)量，結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒由于重力作用會逐漸沉淀在錐形槽體底部，由于電解槽液循環(huán)時錐形底部的槽液循環(huán)量很小，結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒會沉淀在錐形槽體底部不再進(jìn)入電解液循環(huán)過程，同時定期打開安裝在與錐形槽體底部的放液閥門即可將結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒隨電解液放掉。
[0026]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，盡管參照前述實施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種電極箔化成用電解槽裝置，包括槽體(I)，槽體(I)上設(shè)有循環(huán)進(jìn)口(2)、循環(huán)出口(3)，循環(huán)進(jìn)口(2)和循環(huán)出口(3)之間連通有循環(huán)管道(4)，所述循環(huán)出口(3)設(shè)于槽體(I)的上部，其特征在于:所述槽體(I)的底部設(shè)有雜質(zhì)沉淀裝置(5)，所述沉淀裝置(5)與槽體(I)連接，形成連通的腔體，所述沉淀裝置(5)呈上口大下口尖的漏斗型，所述沉淀裝置的底部設(shè)有放液口(6)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述槽體(I)呈正方體、長方體或圓柱體結(jié)構(gòu)； 和/或，所述沉淀裝置(5)為四方錐體結(jié)構(gòu)或圓錐體結(jié)構(gòu)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述槽體(I)呈正方體或長方體結(jié)構(gòu)； 和/或，所述沉淀裝置(5 )為四方錐體結(jié)構(gòu)。4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述沉淀裝置(5)的錐角為45°~120°。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述沉淀裝置(5)的錐角為60°~90° ο6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述槽體(I)與沉淀裝置(5)—體成型。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述循環(huán)進(jìn)口(2)設(shè)于槽體(I)的下部。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述循環(huán)進(jìn)口(2)設(shè)于槽體(I)側(cè)壁上距離槽體(I)與沉淀裝置連接處30?50cm處。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述循環(huán)管道(4)上與循環(huán)進(jìn)口(2)連接處依次設(shè)有加熱器(7)、循環(huán)栗(8)和熱交換器(9)，加熱器(7)距離循環(huán)進(jìn)口最近。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極箔化成用電解槽裝置，其特征在于:所述放液口(6)的連通有放液管道(10)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電極箔化成用電解槽裝置，包括槽體1，槽體1上設(shè)有循環(huán)進(jìn)口2、循環(huán)出口3，循環(huán)進(jìn)口2和循環(huán)出口3之間連通有循環(huán)管道4，所述循環(huán)出口3設(shè)于槽體1的上部，所述槽體1的底部設(shè)有雜質(zhì)沉淀裝置5，所述沉淀裝置5與槽體1連接，形成連通的腔體，所述沉淀裝置5呈上口大下口尖的漏斗型，所述沉淀裝置的底部設(shè)有放液口6。本發(fā)明提供的化成用的電解液在電解槽裝置，可以使電解液中的結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒沉淀在錐形槽體底部，有效減少了循環(huán)電解液中的結(jié)晶顆粒和雜質(zhì)顆粒，改善了電極箔化成是鋁箔的外觀質(zhì)量，提高了產(chǎn)品的合格率，也可以延長電極箔化成的生產(chǎn)周期，降低生產(chǎn)成本。
【IPC分類】C25D11/04, C25D17/02
【公開號】CN105442016
【申請?zhí)枴緾N201510886546
【發(fā)明人】馬坤松, 喬正山, 相志明, 陳厚兵, 吉民, 張拴
【申請人】新疆西部宏遠(yuǎn)電子有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年12月7日