流動影響裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明描述了在渦旋組件后方的腔室中的流體流動影響器裝置。流動影響裝置可以基于流體從渦旋組件流入到腔室的流動路徑從第一位置移動到第二位置。流動路徑可以取決于來自渦旋組件的流體的旋轉量。流動影響裝置在第一位置可以基本上允許流體通過腔室出口開口流動。流動影響裝置在第二位置可以基本上限制流體通過腔室出口開口流動。
【專利說明】流動影響裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明大體而言涉及用于在地層中的井眼中阻礙流體流動的裝置，并且更具體而言(但并非必需排他性地)，涉及能基于進入路徑內的流體流動方向阻礙在自主閥和/或渦旋組件后方的路徑中的流體流動的裝置。
【背景技術】
[0002]在穿過含烴地層的井中可以安裝各種裝置。某些裝置控制在地層與油管(諸如生產油管或注射油管)之間的流體流率。這些裝置的示例為自主閥，其可以選擇流體或者以其它方式控制進入油管的各種流體的流率。
[0003]自主閥可以基于流體的相對粘度在所希望的流體與不希望的流體之間作出選擇。例如，具有更高不希望的流體(例如，水和天然氣)濃度的流體可以具有特定粘度，響應于這種粘度，自主閥在一定方向上導向不希望的流體以限制不希望的流體進入油管內的流率。自主閥可以包括流動比例控制組件和可用來基于粘度選擇流體的渦旋組件。流動比例控制組件可以包括兩個通路。每個通路可以包括縮窄管，縮窄管被配置成基于流體粘度來限制流體流動。例如，在第一通路中一個管可以比在第二通路中的第二管更窄，并且被配置成比具有不同相對粘度的流體更多地限制具有特定相對粘度的流體。第二管可以向流體提供相對恒定的阻力，無論流體的粘度如何。
[0004]可以使經由第一通路、諸如在渦旋組件切向的通路進入渦旋組件的流體在渦旋組件中旋轉并且限制從渦旋組件中的出口開口出來?？梢栽试S經由第二通路、諸如在渦旋組件徑向的通路進入渦旋組件的流體通過出口開口出來，而無任何或較多限制。
[0005]盡管這種自主閥很有效地滿足了井下所希望的流體選擇，仍然希望能提供額外流體流動控制和/或選擇的裝置。
[0006]發(fā)明的公開
[0007]本發(fā)明的某些方面和實施例針對于一種可以對于流體流動方向作出響應的流動
影響裝置。
[0008]一方面涉及一種可以安置于井筒中的組件。該組件包括腔室和在腔室中的流動影響裝置。腔室可以在渦旋組件的出口開口后方。流動影響裝置可適于基于從渦旋組件進入腔室的流體旋轉量在第一位置與第二位置之間移動。
[0009]另一方面涉及一種組件，該組件包括渦旋組件和流動影響裝置。渦旋組件包括出口開口。流動影響裝置在與出口開口流體連通的腔室中。流動影響裝置可以以根據通過出口開口進入腔室的流體流動的方向的量來阻礙到腔室出口開口的流體流動。
[0010]另一方面涉及一種組件，其包括腔室和在腔室中的流動影響裝置。腔室可以定位于渦旋組件的出口開口流動路徑后方。腔室包括腔室出口開口。流動影響裝置可以基本上允許具有從出口開口到腔室內的第一流動路徑的流體通過腔室出口開口流動并且可基本上限制具有從出口開口到腔室內的第二流動路徑的流體通過腔室出口開口流動。
[0011]提到這些說明性方面并不限制或限定本發(fā)明，而是提供示例以輔助理解在本申請中所公開的發(fā)明構思。在閱讀了整個申請之后，本發(fā)明的其它方面、優(yōu)點和特點將會變得顯然。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為井系統(tǒng)的示意圖，其具有根據本發(fā)明的一實施例在自主閥后方具有流動影響裝置的腔室。
[0013]圖2為根據本發(fā)明的一實施例在自主閥的流動路徑后方的腔室和流動影響裝置的截面?zhèn)纫晥D。
[0014]圖3為根據本發(fā)明的一實施例的流動影響裝置的截面?zhèn)纫晥D，流動影響裝置為在腔室中的擋板并且處于打開位置。
[0015]圖4示出了根據本發(fā)明的一實施例處于閉合位置的圖3的流動影響裝置。
[0016]圖5為根據本發(fā)明的一實施例的腔室的截面?zhèn)纫晥D，腔室包括在打開位置的兩個流動影響裝置，這兩個流動影響裝置為擋板。
[0017]圖6示出了根據本發(fā)明的一實施例處于閉合位置的圖5的流動影響裝置。
[0018]圖7為根據本發(fā)明的一實施例的腔室的截面?zhèn)纫晥D，腔室包括在打開位置的兩個流動影響裝置，這兩個流動影響裝置為圓盤。
[0019]圖8示出了根據本發(fā)明的一實施例處于閉合位置的圖7的流動影響裝置。
[0020]圖9為根據本發(fā)明的一實施為圓盤的流動影響裝置的頂視圖。
[0021]圖10為根據本發(fā)明的一實施例的腔室的截面?zhèn)纫晥D，該腔室包括在閉合位置的流動影響裝置，流動影響裝置為墊圈。
[0022]圖11示出了根據本發(fā)明的一實施例處于打開位置的圖10的流動影響裝置。
[0023]圖12為根據本發(fā)明的一實施為墊圈的流動影響裝置的透視圖。
[0024]圖13為根據本發(fā)明的一實施例的腔室的截面?zhèn)纫晥D，腔室包括偏流器和在閉合位置的流動影響裝置，流動影響裝置為球狀體。
[0025]圖14示出了根據本發(fā)明的一實施例處于打開位置的圖13的流動影響裝置。
[0026]圖15為根據本發(fā)明的一實施例的腔室的截面?zhèn)纫晥D，腔室具有流動影響裝置，流動影響裝置為由柔性構件聯接的球狀體。
[0027]圖16為根據本發(fā)明的一實施例的腔室的截面?zhèn)纫晥D，該腔室包括流動影響裝置，流動影響裝置為由柔性構件聯接的球狀體。
【具體實施方式】
[0028]某些方面和實施例涉及一種在腔室中的流動影響裝置，腔室在自主閥的出口開口(諸如在自主閥中的渦旋組件的出口開口)后方。流動影響裝置可以基于從渦旋組件到腔室的流體的流動路徑從第一位置移動到第二位置。流動路徑可以取決于從渦旋組件的流體的旋轉量。流動影響裝置在第一位置可以基本上允許流體通過腔室出口開口流動。流動影響裝置在第二位置可以基本上限制流體通過腔室出口開口流動。
[0029]在某些實施例中，基本上允許流體通過腔室出口開口流動可以包括允許大部分流體通過腔室出口開口流動。基本上限制流體通過腔室出口開口流動可以包括至少防止大部分流體通過腔室出口開口流動至少持續(xù)特定時段。[0030]例如，渦旋組件可以使得具有特定性質的流體在渦旋組件中旋轉，并且流體在其在渦旋組件中離開進入包括流動影響裝置的腔室中時繼續(xù)旋轉。流動影響裝置可以被配置成通過處于特定位置而對旋轉流體作出響應。取決于流動影響裝置相對于腔室中的出口開口的配置，在特定位置的流動影響裝置可以基本上限制流體通過腔室中的出口開口離開或者可以基本上允許流體通過腔室中的出口開口離開。渦旋組件可以使具有特定其它性質的流體無流體旋轉地或無太多流體旋轉地離開到包括流動影響裝置的腔室。流動影響裝置可以被配置成通過處于特定其它位置對于流體無旋轉或無太多流體旋轉地流入到腔室內作出響應，在此特定其它位置，取決于流動影響裝置相對于腔室中的出口開口的配置，流動影響裝置可以基本上允許流體或基本上限制流體通過腔室中的出口開口流動。
[0031]在某些實施例中，流體旋轉被配置成促動流動影響裝置以例如與自主閥結合，減小不希望的流體生產。
[0032]給出這些說明性示例以向讀者介紹本文所討論的一般主題而非旨在限制所公開的構思的范圍。以下部分參考附圖描述了各種額外實施例和示例，在附圖中，相似的附圖標記表示相似元件，并且方向描述用來描述說明性實施例，但是類似于說明性實施例，不應用來限制本發(fā)明。
[0033]圖1描繪了井系統(tǒng)100，井系統(tǒng)100具有在自主閥后方，帶有根據本發(fā)明的特定實施例的流動影響裝置的腔室。井系統(tǒng)100包括井眼，井眼為穿過各個地球巖層延伸的井筒102。井筒102具有基本上豎直部段104和基本上水平部段106?；旧县Q直部段104和基本上水平部段106可以包括套管柱108，套管柱108在基本上豎直部段104的上部被固井?；旧纤讲慷?06延伸穿過含烴的地層110。
[0034]油管柱112從地面延伸到井筒102內。油管柱112可以提供用于地層流體從基本上水平部段106行進到地面的管道。在各個生產層段鄰近地層110的流動控制裝置114和生產油管部段116定位于油管柱112中。流動控制裝置114中每一個可以包括自主閥，自主閥能夠選擇性地造成具有特定性質的流體旋轉并且可以包括具有流動影響裝置的腔室。
[0035]在每個生產油管部段116的每一側上設有封隔器118，封隔器118可以在油管柱112與井筒102壁之間提供流體密封。每對相鄰的封隔器118可以限定生產層段。
[0036]生產油管部段116中的每一個可以提供防砂能力。與生產油管部段116相關聯的防砂篩元件或過濾介質可以允許流體通過這些元件或者流動介質流動,但防止足夠大小的微粒物質通過這些元件或過濾介質流動。在某些實施例中，可以提供防砂篩，其包括未穿孔的基管，未穿孔的基管具有圍繞肋狀物纏繞的絲，肋狀物繞基管在周向定位。包括穿孔的保護性外護罩可以定位于過濾介質的外部周圍。
[0037]流動控制裝置114可以允許對所生產的流體的體積和組成進行控制。例如，流動控制裝置114可以自主限制或抵抗地層流體從生產層段的生產，在生產層段，對于油生產操作，不希望的流體諸如水或天然氣進入?！疤烊粴狻痹谶@里表示在室溫和壓力以氣相存在但在井下環(huán)境中以液相和/或氣相存在的烴類(和不同量的非烴類)的混合物。
[0038]流入到生產油管部段116內的地層流體可以包括多于一種類型的流體，諸如天然氣、油、水、水蒸汽和二氧化碳。水蒸汽和二氧化碳可以用作注入流體以造成烴流體朝向生產油管部段116流動。天然氣、油和水可以存在于地層110中。流入到生產油管部段116的這些類型的流體的比例可能隨著時間變化并且至少部分地基于在地層和井筒102內的條件。根據某些實施例的流動控制裝置114可以減小或者限制從具有更高比例的不希望流體的流體的層段的生產。
[0039]當生產層段生產更大比例的不希望的流體時，在該層段中的流動控制裝置114可以限制或抵抗自該層段的生產。生產更大比例的所希望的流體的其它生產層段可能對于進入油管柱112的生產流作出更多貢獻。例如，流動控制裝置114可以包括流動影響裝置，流動影響裝置可以基于進入腔室的流體旋轉來控制流體流率。
[0040]盡管圖1描繪了流動控制裝置114定位于基本上水平部段106，根據本發(fā)明的各個實施例的流動控制裝置114(和生產油管部段116)可以額外地或替代地位于基本上豎直部段104。而且，任何數量的流動控制裝置114，包括一個，可以用于總體上井部段110中或每個生產層段中。在某些實施例中，流動控制裝置114可以安置于更簡單的井筒中，諸如具有僅一基本上豎直部段的井筒中。流動控制裝置已可以安置于裸眼井環(huán)境中(諸如在圖1中所描繪)或者套管井中。
[0041]圖2描繪了包括流動控制裝置114和篩組件202的生產油管部段116的截面圖。生產油管限定了內部通路204，內部通路204可以是環(huán)形空間。地層流體可以從地層通過篩組件202進入內部通路204，篩組件202可以過濾流體。地層流體可以從內部通路通過到渦旋組件210的流動路徑208的入口 206進入流動控制裝置114。在渦旋組件210的出口開口 212后方是包括流動影響裝置215的腔室214。除了渦旋組件210之外，流動影響裝置215可以限制或者允許流體通過腔室出口開口 217流動。
[0042]根據本發(fā)明的各種實施例的腔室可以是任何配置，并且包括一個、兩個、或多于兩個出口開口。根據本發(fā)明的各種實施例的流動影響裝置可以包括任何配置，并且可以聯接到腔室，另一部件或自由浮動。流動影響裝置的示例包括但不限于擋板、墊圈、圓盤和球狀體。圖3至圖16描繪了根據本發(fā)明的某些實施例的腔室和流動影響裝置。
[0043]圖3至圖4描繪了在渦旋組件306的出口開口 304后方的流動路徑中的腔室302。腔室302包括腔室出口開口 308和為擋板310的流動影響裝置。擋板310可以聯接到腔室302，諸如經由樞軸312，并且可以被配置成響應于通過出口開口 304進入到腔室302內的流體流動方向來移動位置。在其它實施例中，擋板310經由彈簧聯接到腔室302。
[0044]腔室302包括靠近腔室出口開口 308的突起314位置。突起314可以防止處于閉合位置的擋板310完全密封腔室出口開口 308使得擋板310可以返回到打開位置。在其它實施例中，突起314聯接到擋板310而不是腔室。在另外的實施例中，不存在突起314。
[0045]擋板310可以由任何合適材料制成。在某些實施例中，擋板310由耐腐蝕材料制成。合適材料的示例包括陶瓷、金屬、塑料和復合物。在某些實施例中，擋板310為聯接到腔室302的柔性構件。
[0046]圖3描繪了處于打開位置的擋板310，在不存在流體流動的情況下，打開位置可以是擋板310的初始位置。擋板310可以響應于不旋轉或者以相對較小的量旋轉(如由圖3中的箭頭所描繪)的流體處于打開位置，從出口開口 304進入腔室302。在打開位置的擋板310可以基本上允許流體從出口開口 304進入腔室302以流到腔室出口開口 308并且離開腔室302。例如，擋板310可以限制某些流體流動，但允許大部分流體流到腔室出口開口308。在其它實施例中，擋板310并不限制任何流體流動。
[0047]圖4描繪了處于閉合位置的擋板310。擋板310可以被配置成響應于從出口開口304流入到腔室302流體以高于特定閾值的量旋轉而移動到閉合位置，如在圖4中由箭頭所示。例如，旋轉流體可以造成擋板310朝向腔室出口開口 308流動以基本上限制流體流到腔室出口開口 308，至少持續(xù)特定時間量。基本上限制流體可以包括允許某些流體流到腔室出口開口 308但限制大部分流體。在其它實施例中，當擋板310處于閉合位置時，擋板310限制全部流體流到腔室出口開口 308。
[0048]在圖3至圖4中的腔室302包括約束壁316，約束壁316可以引導從出口開口 304朝向擋板310和腔室出口開口 308的流體流動(無論是否旋轉)。
[0049]根據其它實施例的腔室包括多于一個腔室出口開口。圖5至圖6描繪了在渦旋組件406的出口開口 404后方的流動路徑中的腔室402。腔室402包括兩個腔室出口開口408,410并且包括各為擋板的流動影響裝置412、414。流動影響裝置412、414中的每一個聯接到腔室402，諸如經由樞軸416、418或其它機構。
[0050]流動影響裝置412、414中的每一個可以響應于流體通過出口開口 404到腔室402內的流動方向來移動位置。流動影響裝置412、414響應于流體不旋轉或者不以高于特定閾值量旋轉(如經由箭頭所示)地流入到腔室402中而處于圖5中的打開位置。流動影響裝置412、414在打開位置可能并不限制或者可能基本上不限制流入到腔室402中的流體通過腔室出口開口 408、410出來。流動影響裝置412、414響應于流體以高于特定量旋轉(如箭頭所示)地流入到腔室402中而處于圖6中的閉合位置。流動影響裝置412、414在閉合位置可基本上限制流入到腔室402中的流體通過腔室出口開口 408、410出來。用于打開位置和閉合位置的旋轉量的閾值可以為相同或不同閾值。
[0051]突起420、422可以包括于腔室402中以防止流體影響裝置412、414當處于閉合位置時完全限制流體通過腔室出口開口 408、410流動。突起420聯接到流動影響裝置412。突起422聯接到腔室402內壁，靠近腔室出口開口 410，以防止流動影響裝置414完全限制腔室出口開口 410。在其它實施例中，腔室402并不包括突起420、422。
[0052]在其它實施例中，流動影響裝置為圓盤。圖7至圖8為在渦旋組件506的出口開口 504后方的流動路徑中的腔室502。腔室502包括兩個腔室出口開口 508、510并且包括各為圓盤或環(huán)的流動影響裝置512、514。流動影響裝置512、514中每一個可以在腔室506中的流體中浮動，并且被配置成響應于流體通過出口開口 504進入腔室502的流動方向來移動位置。
[0053]流動影響裝置512、514響應于流體不旋轉或者不以高于特定閾值量旋轉(如經由箭頭所示)地流入到腔室502中而處于圖7中的打開位置。流動影響裝置512、514在打開位置可能并不限制或者可能基本上不限制流入到腔室502中的流體通過腔室出口開口508,510出來。流動影響裝置512、514響應于流體以高于特定量旋轉(如箭頭所示)地流入到腔室502中而處于圖8中的閉合位置。例如，如圖8所示，進入腔室502的旋轉流體可能造成流動影響裝置512、514朝向腔室出口開口 508、510移動并且限制流體流動到腔室出口開口 508、510。流動影響裝置512、514在閉合位置可基本上限制流入到腔室502中的流體通過腔室出口開口 508、510出來。流動影響裝置512、514的大小可以基于預期流率和預期的流動性質來設定。例如，流動影響裝置512、514可以具有更大厚度以增加使流動影響裝置512、514移動到閉合位置的流體旋轉閾值。
[0054]根據某些實施例的流動影響裝置512、514可以各包括內部開口，當流體影響裝置512,514處于閉合位置時，內部開口可以防止流動影響裝置512、514完全限制到腔室出口開口 508、510的流動。
[0055]在其它實施例中，突起(未圖示)可以包括于腔室502中并且聯接到流動影響裝置512、514或腔室502的內壁。突起可以防止流動影響裝置512、514完全限制流體流動到腔室出口開口 508、510。在其它實施例中，腔室502在流動影響裝置512、514中并不包括突起或開口。
[0056]盡管圖7至圖8描繪了兩個流動影響裝置512、514和兩個腔室出口開口 508、510，可以使用一個流動影響裝置和/或一個腔室出口開口。此外，可以使用每種部件中的多于兩個。
[0057]圖9描繪了流動影響裝置600的截面圖，流動影響裝置600為圓盤或環(huán)，并且其可以適合用于圖7至圖8的實施例中。流動影響裝置600包括外邊緣602和內邊緣604，外邊緣602可以是唇緣，內邊緣604限定內部開口 606。外邊緣602的大小可以取決于響應于流體旋轉量所希望的限制性能。當流動影響裝置600處于閉合位置時，內部開口 606可防止流體影響裝置600完全限制流體流到腔室出口開口。
[0058]在某些實施例中，流動影響裝置為墊圈。圖10至圖11描繪了在渦旋組件(未圖示)的出口開口 704后方的流動路徑中的腔室702。腔室702包括兩個腔室出口開口 706、708并且包括為墊圈的流動影響裝置710。圖12描繪了墊圈的示例的透視圖。流動影響裝置710可以在腔室702中的流體中浮動或者可以聯接到腔室702。流動影響裝置710可以響應于流體通過出口開口 704進入腔室702的流動方向移動位置。
[0059]圖10至圖11描繪了位于腔室702側部上的腔室出口開口 706、708。在其它實施例中，腔室出口開口 706、708可以相對于出口開口 704位于腔室702的底部。而且，上文所描述的其它實施例可以被配置成在腔室的一個或多個側部上具有腔室出口開口。
[0060]流動影響裝置710響應于例如流體以高于特定閾值量旋轉(如由圖10中的箭頭所示)流入到腔室702內而處于圖10中的閉合位置。閉合位置可以是流動影響裝置710的初始位置。流動影響裝置710在閉合位置可以基本上限制流體流到腔室出口開口 706、708。在某些實施例中，流動影響裝置710包括一個或多個突起(未圖示)，當流動影響裝置710處于閉合位置時，突起防止流動影響裝置710完全限制到腔室出口開口 706、708的流體流動。
[0061]流動影響裝置710響應于流體例如對于以無旋轉或者不以高于特定閾值量旋轉地(如由圖11中的箭頭所示)流入到腔室702內而處于圖11中的打開位置。例如，流體可以流入到腔室702內，由腔室702的底壁引導以朝向流動影響裝置710流動并且在流動影響裝置710上施加力來造成流動影響裝置710移動到打開位置。
[0062]盡管圖10至圖11描繪了兩個腔室出口開口 706、708，可以使用一個腔室出口開口。此外，可以使用多于兩個腔室出口開口。
[0063]根據某些實施例的流動影響裝置可以是離散部件而不是一個墊圈部件。圖13至圖14描繪了在渦旋組件(未圖示)的出口開口 904后方的流動路徑中的腔室902。腔室902包括在腔室902側部上的兩個腔室出口開口 906、908，為球狀體的流動影響裝置910、912和偏流器914、916。盡管示出了球狀體，流動影響裝置910、912可以是任何合適形狀的部件。[0064]偏流器914、916可以在固定位置聯接到腔室902并且被配置成區(qū)分在流動路徑(例如，基本上旋轉流動路徑與基本上不旋轉的流動路徑)之間的流動。
[0065]流動影響裝置910、912可以在腔室902中的流體中浮動。流動影響裝置910，912可以響應于流體通過出口開口 904進入腔室902的流動方向移動位置。
[0066]流動影響裝置910、912響應于例如流體以高于特定閾值量旋轉(如由圖13中的箭頭所示)流入到腔室902內而處于圖13中的閉合位置。例如，偏流器914、916可以使旋轉流體偏流到流動影響裝置910、912的上部使得流動影響裝置910、912保留在閉合位置或移動到閉合位置。在某些實施例中，閉合位置可以是流動影響裝置910、912的初始位置。流動影響裝置910，912在閉合位置可以基本上限制流體流到腔室出口開口 906、908。
[0067]流動影響裝置910、912響應于例如流體以不旋轉或者不以高于特定閾值量旋轉地(如由圖14中的箭頭所示)流入到腔室902內而處于圖14中的打開位置。例如，流體可以流入到腔室902內，由腔室902的底壁引導以朝向流動影響裝置910、912的底部流動并且在流動影響裝置910、912上施加力來造成流動影響裝置910、912移動到打開位置。
[0068]在某些實施例中，為球狀體或其它合適形狀部件的流動影響裝置可以聯接到柔性構件以防止流動影響裝置完全防止流體流到腔室出口開口。圖15描繪了腔室1002的一實施例，腔室1002包括偏流器1004、1006和流動影響裝置1008、1010。流動影響裝置1008、1010由柔性構件1016、1018聯接到腔室出口開口 1012、1014的壁。柔性構件1016、1018可以防止流動影響裝置1008、1010完全防止流體流到腔室出口開口 1012、1014使得吸力或其它力可能去掉，允許流動影響裝置1008、1010返回到打開位置。
[0069]在某些實施例中，流動影響裝置1008可以被配置成響應于相同流動處于相反位置(例如打開位置和閉合位置)以允許基于流動來選擇腔室出口開口。例如，流動影響裝置1008可以被配置成響應于流體不以高于特定閾值旋轉地流入到腔室1002內而處于打開位置，并且流動影響裝置1010被配置成響應于流體不以高于閾值旋轉地流入到腔室1002內而處于閉合位置。流動影響裝置1008可以響應于流體以高于特定閾值旋轉地流入腔室802內而處于閉合位置，并且流動影響裝置1010可以響應于流體以高于特定閾值旋轉地流入腔室內而處于打開位置。柔性構件10616、1018可以便于基于相同的流體旋轉量而允許流動影響裝置1008、1010處于相反位置。
[0070]為球狀體或其它合適形狀的部件的流動影響裝置可以與帶一個開口的腔室一起實施。圖16描繪了腔室1102的一實施例，腔室1102包括偏流器1104和流動影響裝置1106，流動影響裝置1106為經由柔性構件1110聯接到腔室出口開口 1108壁的球狀體。與腔室出口開口 1108相對的腔室1102壁可以約束為朝向腔室出口開口 1108、偏流器1104和/或流動影響裝置1106引導流體流動。
[0071]本發(fā)明的實施例(包括圖示實施例)的前文描述只是出于說明和描述目的并且并非旨在為詳盡的或者限制本發(fā)明為所公開的精確形式。本發(fā)明的許多修改、調適和用途對于本領域技術人員顯然，而不偏離本發(fā)明的范圍。
【權利要求】
1.一種能夠安置于井筒中的組件，所述組件包括: 腔室，所述腔室適于定位于渦旋組件的出口開口后方；以及 在所述腔室中的流動影響裝置，所述流動影響裝置適于基于從所述渦旋組件進入所述腔室的流體旋轉量來在第一位置與第二位置之間移動。
2.根據權利要求1所述的組件，其特征在于，所述腔室包括腔室出口開口， 其中所述流動影響裝置在所述第一位置適于基本上允許流體通過所述腔室出口開口出來， 其中所述流動影響裝置在所述第二位置適于基本上限制流體通過所述腔室出口開口出來。
3.根據權利要求2所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置適于響應于進入所述腔室的流體旋轉量超過第一閾值旋轉量而處于所述第二位置， 其中所述流動影響裝置適于響應于進入所述腔室的流體旋轉量低于第二閾值旋轉量而處于所述第一位置。
4.根據權利要求2所述的組件，其特征在于，所述腔室包括第二腔室開口，其中所述流動影響裝置在所述第一位置適于基本上限制流體通過所述第二腔室出口開口出來， 其中所述流動影響裝置在所述第二位置適于基本上允許流體通過所述腔室出口開口出來。
5.根據權利要求1所述的組件，其特征在于，所述流體的旋轉量是基于流體從所述渦旋組件進入所述腔室的流動方向的。
6.根據權利要求5所述的組件，其特征在于，還包括渦旋組件。
7.根據權利要求1所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置適于(i)基本上允許具有從所述出口開口到所述腔室內的第一流動路徑的流體通過腔室出口開口流動；以及(?)基本上限制具有從所述出口開口到所述腔室內的第二流動路徑的流體通過所述腔室出口開口流動。
8.根據權利要求1所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置為下列之一: 擋板； 圓盤； 球狀體；或者 墊圈。
9.根據權利要求8所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置為所述球狀體，所述組件還包括: 在所述腔室中的偏流器；以及 柔性構件，所述柔性構件將所述球狀體聯接到所述腔室的部分。
10.根據權利要求1所述的組件，其特征在于，還包括: 突起，所述突起聯接到所述流動影響裝置或所述腔室壁之一。
11.一種能夠安置于井筒中的組件，所述組件包括: 渦旋組件，所述渦旋組件包括出口開口 ；以及 在與所述出口開口流體連通的腔室中的流動影響裝置，所述流動影響裝置適于以根據通過所述出口開口進入所述腔室的流體流動的方向的量來阻礙到腔室出口開口的流體流動。
12.根據權利要求11所述的組件，其特征在于，所述流體的流動方向包括所述流體的旋轉量， 其中所述流動影響裝置適于基于所述流體的旋轉量在第一位置與第二位置之間移動， 其中所述流動影響裝置在所述第一位置適于基本上允許流體通過所述腔室出口開口出來， 其中所述流動影響裝置在所述第二位置適于基本上限制流體通過所述腔室出口開口出來。
13.根據權利要求11所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置適于(i)基本上允許具有從所述出口開口到所述腔室內的第一流動路徑的流體通過腔室出口開口流動；以及(?)基本上限制具有從所述出口開口到所述腔室內的第二流動路徑的流體通過所述腔室出口開口流動。
14.根據權利要求11所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置為下列之一: 擋板； 圓盤； 球狀體；或者 墊圈。
15.根據權利要求14所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置為所述球狀體，所述組件還包括: 在所述腔室中的偏流器；以及 柔性構件，所述柔性構件將所述球狀體聯接到所述腔室的部分。
16.一種能夠安置于井筒中的組件，所述組件包括: 腔室，所述腔室適于定位于渦旋組件的出口開口流動路徑后方，所述腔室包括腔室出口開口 ；以及 在所述腔室中的流動影響裝置，所述流動影響裝置適于(i)基本上允許具有從所述出口開口到所述腔室內的第一流動路徑的流體通過腔室出口開口流動；以及(ii)基本上限制具有從所述出口開口到所述腔室內的第二流動路徑的流體通過所述腔室出口開口流動。
17.根據權利要求16所述的組件，其特征在于，在所述第一流動路徑或第二流動路徑中流動的流體是基于所述流體的旋轉量的， 其中所述流動影響裝置適于基于所述流體的旋轉量在第一位置與第二位置之間移動， 其中所述流動影響裝置在所述第一位置適于基本上允許流體通過所述腔室出口開口出來， 其中所述流動影響裝置在所述第二位置適于基本上限制流體通過所述腔室出口開口出來。
18.根據權利要求16所述的組件，其特征在于，還包括渦旋組件， 其中基于從所述渦旋組件進入所述腔室的流體流動方向，所述流體流入到所述第一流動路徑或所述第二流動路徑內。
19.根據權利要求18所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置為下列之一: 擋板；圓盤； 球狀體；或者 墊圈。
20.根據權利要求19所述的組件，其特征在于，所述流動影響裝置為所述球狀體，所述組件還包括: 在所述腔室中的偏流器；以及 柔性構件，所述柔 性構件將所述球狀體聯接到所述腔室的部分。
【文檔編號】F17D3/01GK103998854SQ201180075673
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2011年12月21日 優(yōu)先權日:2011年12月21日
【發(fā)明者】J·D·戴克斯特拉, M·L·夫瑞普 申請人:哈里伯頓能源服務公司