專(zhuān)利名稱(chēng)：光學(xué)干涉儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)干涉儀。
背景技術(shù)：
光學(xué)干涉儀適用于要求很?chē)?yán)的精密測(cè)量。例如，光學(xué)干涉儀用來(lái)確定在半導(dǎo)體晶片的光刻處理中使用的光學(xué)元件的移動(dòng)，其需要納米(10-9m)數(shù)量級(jí)和更高的精度。
光學(xué)干涉儀包括兩個(gè)(或兩個(gè)以上)光束。一個(gè)光束理想地沿固定的光學(xué)路徑(稱(chēng)為參考路徑)導(dǎo)向。該光束被稱(chēng)為參考束。另一個(gè)光束沿著一個(gè)光路被導(dǎo)向連接至可移動(dòng)元件的測(cè)量反射器。該光束稱(chēng)為測(cè)量束，其穿行的路徑稱(chēng)為測(cè)量路徑。
在許多已知的光學(xué)干涉儀中，參考束和測(cè)量束具有互相正交的線性偏振態(tài)(正交方向矢量)。而且，有意地使正交偏振態(tài)的頻率不同。偏振態(tài)的正交性允許將來(lái)自光源(例如，激光頭)的光分成穿行不同的光學(xué)路徑的測(cè)量束和參考束。線性偏振態(tài)的正交性還允許在參考束和測(cè)量束穿過(guò)其各個(gè)光學(xué)路徑之后參考束和測(cè)量束的重新合并。
一旦重新合并，可以測(cè)得任何相位差(通常稱(chēng)為拍頻)。有目的地使來(lái)自光源的束的頻率不同能提供基線拍頻或差。使用已知的信號(hào)處理技術(shù)，可以確定測(cè)量路徑和參考路徑(OPL，光程)的差，并且能夠測(cè)量測(cè)量反射器的位置變化。
如已知，OPL取決于光傳播通過(guò)的介質(zhì)的折射率。為了在干涉儀測(cè)量系統(tǒng)中提供精確的位移測(cè)量，測(cè)量束和參考束的整個(gè)路徑必須在折射率基本穩(wěn)定的介質(zhì)(例如，空氣)中。因?yàn)榻橘|(zhì)的折射率會(huì)隨溫度、壓力、濕度和介質(zhì)的含量而變化，所以難以提供具有基本穩(wěn)定的折射率的介質(zhì)。
因而，需要一種克服至少上述缺點(diǎn)的干涉儀。

發(fā)明內(nèi)容
相應(yīng)地，本發(fā)明提供了一種光學(xué)干涉儀，包括單件式光學(xué)元件，所述單件式光學(xué)元件具有偏振分束器和至少一個(gè)基本平行所述偏振分束器的反射表面。
優(yōu)選地，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括回射元件，所述回射元件適于以基本平行于入射路徑并且與入射路徑偏開(kāi)的方式反射入射光。所述回射元件可以是立方隅角鏡。
優(yōu)選地，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括第一部分和第二部分，所述偏振分束器設(shè)置在所述第一部分和所述第二部分之間。所述第一部分可是長(zhǎng)斜方體?；蛘?，所述第一部分可是長(zhǎng)斜方體，所述第二部分可是長(zhǎng)斜方體。光學(xué)干涉儀進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件和一測(cè)量反射元件之間的四分之一波長(zhǎng)延遲器。其中，所述測(cè)量反射元件包括至少一個(gè)適于以基本平行于入射路徑的方式反射入射光的回射元件。
優(yōu)選地，光學(xué)干涉儀進(jìn)一步包括至少一個(gè)基本平行于所述偏振分束器的其它反射表面。所述偏振分束器可設(shè)置在這些反射表面之間。
優(yōu)選地，光學(xué)干涉儀進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件上方的參考反射元件。還可進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件和所述參考反射元件之間的四分之一波長(zhǎng)延遲器。
本發(fā)明還提供了一種光學(xué)干涉儀，包括單件式光學(xué)元件，所述單件式光學(xué)元件具有第一表面和第二表面，其中，所述第一表面不平行于所述第二表面。
優(yōu)選地，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括回射元件，所述回射元件適于以基本平行于入射路徑并且與入射路徑偏開(kāi)的方式反射入射光。
優(yōu)選地，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括設(shè)置在所述第一表面和所述第二表面之間的偏振分束器。其中，所述單件式光學(xué)元件可進(jìn)一步包括第一部分和第二部分，所述偏振分束器設(shè)置在所述第一部分和所述第二部分之間。所述第一部分可包括長(zhǎng)斜方體，所述第二部分可包括棱鏡。
優(yōu)選地，光學(xué)干涉儀進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件上方的測(cè)量反射元件。所述的光學(xué)干涉儀可進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件和所述測(cè)量反射元件之間的四分之一波長(zhǎng)延遲器。
優(yōu)選地，所述的光學(xué)干涉儀可進(jìn)一步包括設(shè)置在單件式光學(xué)元件上方的參考反射元件。
技術(shù)術(shù)語(yǔ)定義如此處所使用，術(shù)語(yǔ)“單件式”意思是包括兩個(gè)以上的零件，這些零件緊固在一起以形成單個(gè)的部件；或包括一個(gè)整體式的零件。例如，單件使元件可以具有多個(gè)緊固在一起的零件，或可以用一種(或者幾種)材料模制而成，材料里嵌有或者不嵌有元件。


當(dāng)結(jié)合附圖閱讀下面詳細(xì)的描述時(shí)，從其中可以最佳了解示例性實(shí)施例。要強(qiáng)調(diào)的是，各種特征不必按照比例繪制。事實(shí)上，為了論述清楚，尺寸可以任意增加或減少。無(wú)論可以適用在什么地方以及用在什么地方，相同的標(biāo)號(hào)表示相同的元件。
圖1是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的側(cè)視圖；圖2A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖2B是根據(jù)圖2A的示例性實(shí)施例的干涉儀的另一個(gè)透視圖；圖2C是根據(jù)圖2A的示例性實(shí)施例的干涉儀的另一個(gè)透視圖；圖2D是圖2B的干涉儀的側(cè)視圖；圖3A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖3B是圖3A的干涉儀的側(cè)視圖；圖4是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖5是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖6是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖7是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖8A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖8B是圖8A的干涉儀的側(cè)視圖；
圖9A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖9B是圖9A的干涉儀的側(cè)視圖；圖10A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖10B是圖10A的干涉儀的側(cè)視圖；圖11A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖11B是圖11A的干涉儀的側(cè)視圖；圖12A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖12B是圖12A的干涉儀的端視圖；圖12C是圖12A的干涉儀的側(cè)視圖；圖13是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖14是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖15是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖16是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖17是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀的透視圖；圖17B是圖17A的干涉儀的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
在下面詳細(xì)的描述中，出于解釋而非限制的目的，對(duì)公開(kāi)了具體細(xì)節(jié)的示例性實(shí)施例進(jìn)行闡述，以根據(jù)本技術(shù)教導(dǎo)完全地理解這些實(shí)施例。然而，對(duì)于已經(jīng)從本公開(kāi)中受益的本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯而易見(jiàn)的是，根據(jù)本技術(shù)教導(dǎo)的與此處公開(kāi)的具體細(xì)節(jié)不同的其它實(shí)施例仍落在權(quán)利要求的范圍內(nèi)。而且，可以忽略對(duì)眾所周知的裝置和方法的描述，以致不會(huì)使示例性的實(shí)施例的描述變得不清楚。這些方法和裝置顯然是在本技術(shù)教導(dǎo)的范圍內(nèi)。
圖1是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的測(cè)量系統(tǒng)100的側(cè)視圖。來(lái)自激光器(未示出)的輸入束101入射在適于基本透射該束101且反射最小的光學(xué)元件102上。有用地，光學(xué)元件102具有抗反射(AR)涂層以減少入射光的反射。輸入束101從表面103反射，被旋轉(zhuǎn)約90°，類(lèi)似于潛望鏡的方式，以避開(kāi)障礙物104(可以是測(cè)量系統(tǒng)100的結(jié)構(gòu)元件)。
輸入束101入射在干涉儀105上。光101的一部分被作為測(cè)量束106輸出，并且入射在連接至一結(jié)構(gòu)(未示出)的測(cè)量反射器107上。如此處詳細(xì)地描述，光106可用于精確測(cè)量該結(jié)構(gòu)相對(duì)于標(biāo)稱(chēng)位置的任何位移。
在干涉儀105和測(cè)量反射器107之間的區(qū)域108中，對(duì)介質(zhì)加以控制以提供基本穩(wěn)定的折射率。對(duì)在干涉儀105和測(cè)量反射器107之間的介質(zhì)加以控制基本消除了區(qū)域108的折射率的變化。能夠理解，這樣做可用于防止由于該結(jié)構(gòu)移動(dòng)以外的因素所引起的OPL的變化。然而，如之前提及，難以完全控制介質(zhì)的折射率。例如，在結(jié)構(gòu)104附近的區(qū)域中，難以穩(wěn)定介質(zhì)的折射率。在已知的測(cè)量系統(tǒng)中，由于光的OPL變化，這種不穩(wěn)定性能夠?qū)е聹y(cè)量誤差。相比之下，對(duì)于測(cè)量光束所傳播通過(guò)的該結(jié)構(gòu)附近區(qū)域的介質(zhì)折射率變化而引起的OPL變化，本發(fā)明示例性實(shí)施例的干涉儀105即使沒(méi)有消除也是顯著減小了這種OPL變化。
本測(cè)量系統(tǒng)的功能依賴(lài)于已知的電子設(shè)備(未示出)，該電子設(shè)備包括而不限定于激光頭、調(diào)諧電路、光電探測(cè)器和用于將信號(hào)發(fā)送進(jìn)出測(cè)量系統(tǒng)的光學(xué)元件。然后測(cè)量和參考束合并，并且以所合并的光束的拍頻為基礎(chǔ)；從而進(jìn)行該結(jié)構(gòu)位移的測(cè)量。
如此處詳細(xì)描述，示例性實(shí)施例的干涉儀允許干涉儀外部所有光束位于折射率基本穩(wěn)定的的空間中。
圖2A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀105的透視圖。干涉儀105包括接收來(lái)自激光頭(未示出)的輸入光束202的單件式光學(xué)元件201。輸入光束202穿過(guò)包括抗反射涂層的光學(xué)元件203，然后從第一反射表面210反射。光202相對(duì)于表面210的入射角度示例性為約45°，使得光202基本向內(nèi)反射，并且所反射的光上與光202基本正交。此外，反射表面210可以包括已知的涂層或?qū)右愿倪M(jìn)反射。
干涉儀105還包括偏振分束器(PBS)204和回射器205。PBS 204基本平行于第一反射表面210。穿行于單件式光學(xué)元件201的光入射在使光以約45°入射定向的第二反射表面211上。利用這種布置，入射在表面211的光基本全部向內(nèi)反射為光207，該光與入射在表面211上的光基本正交?？梢韵氲?，第一反射表面210和第二反射表面211的定向可以不是45°。然而，在一些具體的實(shí)施例中，第一反射表面210和第二反射表面211基本平行。
光207穿過(guò)延遲器206，該延遲器206為四分之一波長(zhǎng)延遲器，適于在光207穿過(guò)該延遲器206時(shí)，使真空波長(zhǎng)為λ的光207延遲為nλ+λ/4(n＝整數(shù))。有益的是，延遲器在相對(duì)側(cè)上包括AR涂層，使得入射在其上的光基本透射。光207被測(cè)量反射器107反射，第二次穿過(guò)延遲器206，因此經(jīng)歷了λ/2的相對(duì)相移。因而，光207經(jīng)歷半波(λ/2)偏振轉(zhuǎn)換。這樣，從單件式光學(xué)元件201出射的沿著一個(gè)軸線性偏振的光將以沿第二垂直軸偏振的方式重新進(jìn)入元件201。
光208也穿過(guò)元件206，被測(cè)量反射器107反射，并且再次穿過(guò)元件206。因而，光208進(jìn)入單件式光學(xué)元件201，其偏振態(tài)被轉(zhuǎn)過(guò)π/2。
干涉儀105包括另一個(gè)延遲器209，布置在單件式光學(xué)元件201上方，具體是在PBS 204的上方。象延遲器206一樣，延遲器209是四分之一波長(zhǎng)延遲器，適于將穿過(guò)其寬度的光延遲為(nλ+λ/4)。然而，與延遲器206不同的是，延遲器209具有反射性的頂表面，使得光穿過(guò)延遲器209，被頂表面反射，并且第二次穿過(guò)延遲器209。因而，進(jìn)入單件式光學(xué)元件201的光所具有的偏振態(tài)與離開(kāi)單件式光學(xué)元件201時(shí)的偏振態(tài)正交。
根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例，單件式光學(xué)元件201是長(zhǎng)斜方體，可以使用在共同轉(zhuǎn)讓的授予Bockman的美國(guó)專(zhuān)利6,542,247中公開(kāi)的材料并根據(jù)其技術(shù)教導(dǎo)進(jìn)行制造。該專(zhuān)利的公開(kāi)內(nèi)容具體地通過(guò)引用而包含于此。
在一個(gè)具體的實(shí)施例中，延遲器206、209是多層電介質(zhì)堆疊式延遲器或者諸如石英、云母或有機(jī)聚合物等的雙折射元件，其OPL能夠提供nλ+λ/4的延遲，使得借助于兩次通過(guò)延遲器而實(shí)現(xiàn)半波相對(duì)相移。在一個(gè)具體的實(shí)施例中，延遲器206、209光學(xué)接觸單件式光學(xué)元件，回射器205和元件203固定至單件式光學(xué)元件201，它們通過(guò)使用折射率匹配的粘接材料粘接。因而，在延遲器206、209、回射器205、光學(xué)元件203和單件式光學(xué)元件201之間形成光學(xué)界面。注意，在隨后描述的示例性實(shí)施例中，許多光學(xué)部件可以類(lèi)似地光耦合至單件式光學(xué)元件201上。
圖2B是一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀105的透視圖。干涉儀105與圖2A所示的干涉儀基本相同，只是淡淡地繪制單件式光學(xué)元件210以示出各種部件的功能和光學(xué)路徑。
光202入射在第一表面210上，并且以所示正交的方向反射。光202包括兩個(gè)正交線性偏振光分量，每一個(gè)分量具有特定的頻率。特別地，這兩個(gè)光分量具有在約2.0MHz至約6.0MHz的范圍內(nèi)的頻率差和約633nm的平均波長(zhǎng)。光202可以來(lái)自氦氖(He-Ne)激光器，磁場(chǎng)沿軸向施加至激光器的諧振腔(這會(huì)導(dǎo)致塞曼分裂)。作為示例，激光器可以是諸如可購(gòu)自Agilent Technologies，Inc.(Palo Alto，CA USA)的5517系列激光頭的一個(gè)部件。
當(dāng)從第一表面反射之后，光202入射在PBS 204上。該P(yáng)BS 204透射第一線性偏振態(tài)(例如，P-偏振)的光213，而反射第二線性偏振態(tài)(例如，S-偏振)的光214。透射光213入射在第二表面211上，第二表面211將該光反射通過(guò)延遲器206。光213以圓偏振光207出射，并且被測(cè)量反射器107往回反射通過(guò)元件206。因而，光213轉(zhuǎn)換成具有與光213的偏振態(tài)正交的偏振態(tài)(例如，S-偏振)的光213′。光213′從第二表面211反射并且入射在PBS 204上，在PBS 204上其被作為光215反射至回射器205上?；厣淦?05反射光215，并且使光215發(fā)生位移。當(dāng)從回射器反射之后，光215入射在PBS 204上，該光在PBS 204上以正交的方向被反射。光215入射在第二反射表面211上，并且通過(guò)測(cè)量反射器107的反射，兩次穿過(guò)延遲器206。因?yàn)橛蓛纱未┻^(guò)元件206而引起的偏振轉(zhuǎn)換，所以光215′具有相對(duì)于光215旋轉(zhuǎn)π/2的偏振態(tài)。這樣，光215′具有透射PBS 204的偏振態(tài)(在示例中為P-偏振)。輸出光212的這個(gè)分量稱(chēng)為測(cè)量路徑光，這是因?yàn)槠浯┻^(guò)(可變化的)測(cè)量光路。
光214從PBS 204反射，并且在反射之后兩次穿過(guò)延遲器209。在兩次穿過(guò)元件209時(shí)，光214的偏振態(tài)被旋轉(zhuǎn)π/2而以光214′出射。與示例的慣例一致，現(xiàn)在光214′是P-偏振，因而穿過(guò)PBS 204，接著被回射器205反射和移位。光214′接著穿過(guò)PBS 204和兩次穿過(guò)延遲器209。在重新進(jìn)入單件式光學(xué)元件201時(shí)，光214′轉(zhuǎn)換至正交的偏振態(tài)(例如，S-偏振)。這種正交的偏振光被PBS 204反射為所示的光216。因?yàn)橛裳舆t器209提供的偏振轉(zhuǎn)換，所以光216被PBS反射并與光215′合并形成輸出光212。光216、214′的路徑基本恒定，被稱(chēng)為參考路徑。
圖2C是干涉儀105另一個(gè)透視圖。干涉儀與圖2A和圖2B所示的干涉儀基本相同，但是以反向的方式定向。沒(méi)有提供共同的細(xì)節(jié)以避免使此處所描述的示例性實(shí)施例不清楚。
干涉儀105包括反射元件205。反射元件205示例性地表示為回射元件的。其特點(diǎn)是，以一入射角(相對(duì)于回射元件的法線)入射在回射元件上的光以相對(duì)于法線基本相同的角度從該元件反射。在一個(gè)具體的實(shí)施例中，反射元件是立方隅角鏡(cube corner)，在共同轉(zhuǎn)讓的授給Belt等人的美國(guó)專(zhuān)利6,736,518中詳細(xì)地進(jìn)行了描述。該專(zhuān)利的公開(kāi)內(nèi)容具體地通過(guò)引用而包含于此。立方隅角鏡不僅以基本等于入射角的角度反射光，而且使光移位一有限的距離。因此，光214′、215以特定的角度(示例性為0°)入射，并且以基本相同的角度反射，但是在立方隅角鏡內(nèi)反射之后如所示地被移位。要強(qiáng)調(diào)的是，立方隅角鏡的使用僅僅是示例性的，可以使用為本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員已知的其它光學(xué)部件以實(shí)現(xiàn)相同的效果。
如上所限定，單件式光學(xué)元件201可以包括兩個(gè)以上的零件，這些零件緊固在一起以形成單個(gè)部件；或者包括一個(gè)不可分零件。單件式光學(xué)元件201可以是兩個(gè)基本相同的具有約45°端面的長(zhǎng)斜方體。如所提及，長(zhǎng)斜方體可以利用和根據(jù)美國(guó)專(zhuān)利6,542,247的教導(dǎo)制造。PBS 204可以是用折射率匹配/抗反射粘接劑固定在兩個(gè)端面之間的單獨(dú)部件；或可以是在其中一個(gè)長(zhǎng)斜方體的一個(gè)端面上的一層涂層或多層已知的涂層。在后者的實(shí)施例中，在涂敷(多層)涂層之后，端面使用之前談到的折射率匹配/抗反射粘接劑粘合。在另一個(gè)實(shí)施例中，單件式光學(xué)元件201是模制的，PBS204嵌入在模制件中。
圖2D是圖2A和圖2B中所示的干涉儀105的側(cè)視圖。沒(méi)有提供共同的細(xì)節(jié)，以避免使此處的描述不清楚。干涉儀105提供測(cè)量路徑和參考路徑。測(cè)量路徑包括從PBS 204至測(cè)量反射器107的OPL。因而，測(cè)量路徑包括從PBS 204通過(guò)元件201的第二部分217的OPL。此外，測(cè)量路徑包括從第二表面211通過(guò)延遲器206的OPL和通過(guò)延遲器206和測(cè)量反射器107之間介質(zhì)的OPL。最后，測(cè)量路徑包括經(jīng)反射元件205的傳播。注意，測(cè)量路徑的每一“段”被穿行了四次。
參考路徑包括從PBS 204通過(guò)單件式光學(xué)元件201和延遲器209的OPL。因而，參考路徑還包括通過(guò)第一部分217至反射元件205的OPL和通過(guò)反射元件205的OPL。注意，參考路徑的每一“段”也被穿行四次。
如所已知，測(cè)量路徑和參考路徑是相同的，或者相互間的多路性/差異在可接受的精度范圍內(nèi)。參考路徑和測(cè)量路徑的任何差異會(huì)導(dǎo)致包括光分量216、215′的輸出光束的拍頻的變化。這樣，測(cè)量反射器107的運(yùn)動(dòng)表示測(cè)量系統(tǒng)100的反射器107所連的結(jié)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)。運(yùn)動(dòng)的大小與拍頻差成正比，并且可以使用系統(tǒng)100的微處理器(未示出)通過(guò)比較簡(jiǎn)單的計(jì)算而量化。
如之前提及，如果測(cè)量束或參考束或兩者傳播通過(guò)的各種部件的折射率有顯著的變化，則測(cè)量路徑或參考路徑或兩者的OPL將發(fā)生變化。最終，這降低由該干涉儀進(jìn)行測(cè)量的精確度。然而，這些示例性實(shí)施例的單件式光學(xué)元件201的折射率基本不受環(huán)境因素導(dǎo)致的變化的影響，使得單件式光學(xué)元件的折射率基本穩(wěn)定。因而，不受控制的介質(zhì)引起的折射率變化所導(dǎo)致的測(cè)量不精確，可以基本被避免。注意到，干涉儀105的測(cè)量路徑和參考路徑的OPL相當(dāng)輕微的變化可能是由溫度的變化引起的。這些變化能夠用來(lái)補(bǔ)償在測(cè)量系統(tǒng)中其它受熱導(dǎo)致的測(cè)量誤差。
圖3A根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀301的透視圖。干涉儀301包括許多結(jié)合圖1A-2D的實(shí)施例描述的特征，并且可以用在測(cè)量系統(tǒng)100中。因此，沒(méi)有詳細(xì)地描述共同的特征以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。
干涉儀301包括具有之前描述的PBS 204的單件式光學(xué)元件201。光202入射在第一表面210上，并且向PBS 204反射。PBS 204反射一個(gè)線性偏振態(tài)的光，并且透射正交偏振態(tài)的光。反射光302穿過(guò)延遲器209，并且被測(cè)量反射器107反射。從測(cè)量反射器107反射的光第二次穿過(guò)延遲器209，并且從那里以具有與光302的偏振態(tài)正交的線性偏振態(tài)的光302′出射。因?yàn)槠褶D(zhuǎn)換，所以光302′穿過(guò)PBS 204，入射在反射元件205上。反射元件205以之前描述的方式反射光302′，因此光302′出射時(shí)被移位。光302′接著穿過(guò)PBS 204，并且在從測(cè)量反射器107反射后兩次穿過(guò)延遲器209。當(dāng)從延遲器209進(jìn)入單件式光學(xué)元件301時(shí)，光302′的偏振再次被旋轉(zhuǎn)，并且以具有與光302′的偏振態(tài)正交的線性偏振態(tài)的光305出射。因此，光302被PBS 204反射，并且包括輸出光212的一個(gè)分量。因而，測(cè)量路徑包含剛才所描述的OPL。
具有與光302的偏振態(tài)正交的線性偏振態(tài)的光202的分量被PBS 204透射，并且以光303出射。光303被第二表面211反射，并且在被延遲器206的頂表面上的反射元件(例如，高反射(HR)涂層)反射后兩次穿過(guò)延遲器206。這樣，光303′的偏振與光303的偏振正交。光303′接著被PBS 204反射至反射元件205，在反射元件205其經(jīng)歷所述的反射和平移。光303′再次被PBS 204反射，并且入射在第二表面211上，在第二表面211上光303′被反射至延遲器206。當(dāng)兩次穿過(guò)延遲器206時(shí)，線性偏振矢量再次被旋轉(zhuǎn)π/2(或nπ/2)，并且被第二表面211反射為光305。光305被PBS 204透射，并且包括輸出光212的第二分量。如之前所描述，測(cè)量反射器的任何移動(dòng)用分量304、305的拍頻的變化來(lái)表示。
圖3B是干涉儀301的側(cè)視圖。測(cè)量路徑和參考路徑分別與結(jié)合圖2D描述的參考路徑和測(cè)量路徑本質(zhì)上相同。因此，為了清楚，沒(méi)有重復(fù)該描述。然而，注意到，同之前所描述的干涉儀105一樣，干涉儀301基本不易受由于不受控制的空氣折射率變化而引起的測(cè)量路徑或參考路徑任一個(gè)的OPL變化的影響。
圖4是根據(jù)示例性實(shí)施例的干涉儀401的透視圖。干涉儀401具有許多與結(jié)合圖2A-2D的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀401接收包括具有兩個(gè)正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光202，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化來(lái)獲得測(cè)量反射器的位移的精確測(cè)量。
在該示例性實(shí)施例中，測(cè)量反射器包括第一回射元件402和第二回射元件403?；厣湓?02、403適于以特定的入射角接收光，并且以基本相同的入射角反射光且基本沒(méi)有軸上平移。第一回射元件402和第二回射元件403因而包括干涉儀的測(cè)量反射器107。
圖5是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀501的透射圖。干涉儀501具有許多與結(jié)合圖2A-2D和圖4的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀501接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光202，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化來(lái)獲得測(cè)量反射器的位移的精確測(cè)量。
在該示例性實(shí)施例中，測(cè)量反射器包括回射元件502?；厣湓?02適于以特定的入射角接收光，并且以基本相同的入射角反射光且有設(shè)定的平移?；厣湓?02因而包括干涉儀的測(cè)量反射器107。
圖6是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的差分干涉儀601的透視圖。特別地，通過(guò)將(若干)參考反射元件從示例性實(shí)施例的單件式光學(xué)元件201中分離出來(lái)，將干涉儀601制造成差分干涉儀。
干涉儀601具有許多與結(jié)合圖2A-圖2D、圖4和圖5的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀601接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光202，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化獲得測(cè)量反射器位移的精確測(cè)量。
在該示例性實(shí)施例中，測(cè)量反射器包括第一回射元件402和第二回射元件403。回射元件適于以特定的入射角接收光并且以基本相同的入射角反射光。第一回射元件402和第二回射元件403因而包括干涉儀的測(cè)量反射器107。
干涉儀601還包括第三回射元件602和第四回射元件603。如能夠理解，在差分干涉儀中，可以測(cè)量?jī)蓚€(gè)所限定的路徑的OPL差。一個(gè)OPL可以是參考路徑而另一個(gè)是測(cè)量路徑。當(dāng)然，因?yàn)樘峁┝讼鄬?duì)的測(cè)量，所以不必固定任何一個(gè)OPL。為此，回射元件402、403和602、603可以連至發(fā)生位移的物體。因而，兩個(gè)OPL都是測(cè)量路徑。為了術(shù)語(yǔ)的一致性，在此處所描述的差分干涉儀中，盡管參考路徑不必固定，也可以將一個(gè)路徑視為測(cè)量路徑而將另一個(gè)路徑視為參考路徑。在一個(gè)具體的實(shí)施例中，回射元件602、603在參考路徑中，并且基本與第一回射元件402和第二回射元件403相同。在另一個(gè)具體的實(shí)施例中，第一回射元件402和第二回射元件403在參考路徑中，第三回射元件602和第四回射元件603在干涉儀的測(cè)量路徑中。
圖7示出根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的差分干涉儀701。干涉儀701具有許多與結(jié)合圖2A-2D、圖5和圖6的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀701接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光202，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化來(lái)獲得測(cè)量反射器的位移精確測(cè)量。
在該示例性實(shí)施例中，測(cè)量反射器包括回射元件502?；厣湓?02適于以特定的入射角接收光，并且以基本相同的入射角反射光?；厣湓?02因而包括干涉儀的測(cè)量反射器107。
干涉儀701還包括另一個(gè)回射元件702。在一個(gè)具體的實(shí)施例中，回射元件702在參考路徑中，并且與回射元件502基本相同。在另一個(gè)具體的實(shí)施例中，回射元件502在參考路徑中，回射元件702在干涉儀的測(cè)量路徑中。
圖8A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀801的透視圖。干涉儀801具有許多與結(jié)合圖2A-2D、圖5和圖6的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀601接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光202，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化來(lái)獲得測(cè)量反射器的位移的精確測(cè)量。
干涉儀801包括具有反射表面211的單件式光學(xué)元件802。單件式光學(xué)元件802包括具有按之前所述定位的PBS 204的長(zhǎng)斜方體。單件式光學(xué)元件802還包括光學(xué)接觸或粘合至PBS 204的棱鏡803。因而，單件式光學(xué)元件802包括長(zhǎng)斜方體和棱鏡。單件式光學(xué)元件802表示了示例性實(shí)施例的干涉儀的應(yīng)用多樣性。具體而言，單件式光學(xué)元件在某些應(yīng)用中可以不必象在其它應(yīng)用場(chǎng)合中那樣延伸得那么遠(yuǎn)。這樣，干涉儀801可以用更小的單件式光學(xué)元件來(lái)實(shí)施。
圖8B是干涉儀801的側(cè)視圖。測(cè)量路徑長(zhǎng)度包括從PBS 204至測(cè)量反射器107的OPL，包括通過(guò)回射元件205的OPL。注意，在本實(shí)施例中，被PBS 204反射的輸入光束202的偏振分量(例如，S偏振光)被反射進(jìn)入測(cè)量路徑。參考路徑包括從PBS 204至反射延遲器209的OPL，包括通過(guò)回射器205的OPL。在本實(shí)施例中，被PBS 204透射的輸入光束202的偏振分量(例如，P偏振光)被透射進(jìn)入?yún)⒖悸窂健?br> 圖9A是根據(jù)示例性實(shí)施例的干涉儀901的透視圖。干涉儀901具有許多與結(jié)合圖2A-2D、圖8A-8B的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀901接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光202，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化來(lái)獲得測(cè)量反射器的位移的精確測(cè)量。
該干涉儀包括之前所描述的單件式光學(xué)元件802。單件式光學(xué)元件802說(shuō)明了示例性實(shí)施例的干涉儀的應(yīng)用多樣性。具體而言，單件式光學(xué)元件在某些應(yīng)用中可以不必象在其他應(yīng)用場(chǎng)合中那樣延伸得那么遠(yuǎn)。這樣，干涉儀801可以用更小的單件式光學(xué)元件來(lái)實(shí)施。
圖9B是干涉儀801的側(cè)視圖。測(cè)量路徑包括從PBS 204至測(cè)量反射器107的OPL和通過(guò)回射元件205的OPL。注意，在本實(shí)施例中，被PBS204反射的輸入光束202的偏振分量(例如，S偏振光)被反射進(jìn)入測(cè)量路徑。參考路徑包括從PBS 204至反射延遲器209的OPL和通過(guò)回射器205的OPL。在本實(shí)施例中，被PBS 204透射的輸入光束202的偏振分量(例如，P偏振光)透射進(jìn)入?yún)⒖悸窂健?br> 最后，在一些具體實(shí)施例中，可以包括結(jié)合圖4-7描述的許多回射元件，作為圖8A-9B中示例性實(shí)施例的反射元件(例如測(cè)量反射器107)。
圖10A是根據(jù)示例性實(shí)施例的差分干涉儀1001的透視圖。干涉儀1001具有許多與結(jié)合圖2A-2D和圖8A-9B的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀1001接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光202，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化獲得測(cè)量反射器位移的精確測(cè)量。
干涉儀1001包括粘接至單件式光學(xué)元件802的側(cè)板1002和反射元件1003。這樣，單件式光學(xué)元件包括干涉儀1001的除了反射元件1004和反射元件107之外的所有部件。反射元件1003以基本平行于第一反射表面210定位，使得反射至測(cè)量反射器107和從測(cè)量反射器107反射的光基本被反射。側(cè)板1002可以由具有零點(diǎn)零幾數(shù)量級(jí)的熱膨脹系數(shù)(CFE)的材料組成。因而，板2002在周?chē)鷾囟仍黾悠陂g不會(huì)明顯膨脹或在周?chē)鷾囟冉档推陂g不會(huì)明顯收縮。因此，干涉儀1001基本不受因周?chē)鷾囟茸兓鸬臏y(cè)量路徑或參考路徑中任一個(gè)的OPL的變化影響。
如圖10B所示，測(cè)量路徑包括從PBS 204至測(cè)量反射元件107的OPL和通過(guò)回射元件205的OPL。參考路徑包括從PBS 204至參考反射元件1004的OPL和通過(guò)回射元件205的OPL。
圖11A是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的差分干涉儀1101的透視圖。干涉儀1101具有許多與結(jié)合圖2A-2D和圖8A-10B的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀1101接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光202，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化來(lái)獲得測(cè)量反射器的位移的精確測(cè)量。
如圖11B所示，測(cè)量路徑包括從PBS 204至測(cè)量反射元件107的OPL和通過(guò)回射元件205的OPL。參考路徑包括從PBS 204至參考反射元件1004的OPL和通過(guò)回射元件205的OPL。
圖12A、12B和12C分別是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的多軸干涉儀1201的透視圖、端視圖和側(cè)視圖。本實(shí)施例的描述通過(guò)圖12A-圖12C共同論述而最佳了解。
多軸干涉儀1201接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的入射光1202。光1202入射在包括長(zhǎng)斜方體1203和棱鏡1204的單件式光學(xué)元件上。光1202入射在長(zhǎng)斜方體1203的反射表面1205上，光1202的約50％被反射，光1202的約50％在界面被透射。光的反射部分1206在表面1207基本完全向內(nèi)反射，并且被反射進(jìn)入單件式光學(xué)元件1208。單件式光學(xué)元件1208類(lèi)似于之前所描述的某些單件式光學(xué)元件。光1206在表面1209基本完全向內(nèi)反射，并且入射在PBS 1210上。PBS 1210反射其中一個(gè)偏振分量(P偏振光)，即光1211。光1211入射在延遲器209上。光1211在如之前所描述的參考路徑中，被延遲器209反射，并且以正交偏振態(tài)再次入射在PBS 1210上。光入射在回射元件205上，并且被平移。如之前所描述，該光與來(lái)自測(cè)量路徑的光合并作為輸出光1218發(fā)出。光1206的另一個(gè)偏振分量被PBS 1210透射為光1212。光1212入射在表面1213上，并且基本完全向內(nèi)反射至延遲器206。該光接著被測(cè)量反射元件1214往回反射通過(guò)延遲器206，并以光1216出射。光1216在表面1213反射至PBS 1210。在PBS 1210，該光被反射至回射器205，并且被平移。來(lái)自測(cè)量路徑的光1216與來(lái)自以上提及的參考路徑的光1211合并。
光1217在長(zhǎng)斜方體1203的表面被透射，并且在表面1209反射。光1217也包括正交線性偏振態(tài)。光1217形成輸入光，并且按照與以上結(jié)合光1202所進(jìn)行的提供以描述相同的方式提供參考光和測(cè)量光。測(cè)量光和參考束合并并且以光1215出射。
多軸干涉儀1201適用于確定所測(cè)結(jié)構(gòu)的任何角位移。例如，如果測(cè)量反射元件1214是連至在測(cè)量中的結(jié)構(gòu)的單個(gè)元件，并且反射元件1214轉(zhuǎn)動(dòng)(例如，在圖12B-的平面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng))，則光1206的測(cè)量路徑長(zhǎng)度會(huì)不同于光1217的測(cè)量路徑長(zhǎng)度。其差可容易地計(jì)算，并且可以確定角位移。
圖13是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的差分干涉儀1301的透視圖。干涉儀1301具有許多與結(jié)合圖2A-2D和圖8A-圖9B的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，不重復(fù)這些細(xì)節(jié)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀1301接收輸入光1302和輸入光1303，每一個(gè)包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量。干涉儀1301發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光212。如之前提及，用拍頻的變化來(lái)獲得測(cè)量反射器的位移的精確測(cè)量。
干涉儀1301與之前所描述的針對(duì)每一個(gè)輸入光束提供單個(gè)路徑某些實(shí)施例不同。具體而言，光1302入射在第一反射表面210，并且被反射至PBS 204。光1302被分成正交線性偏振態(tài)1304、1305。光1304被反射進(jìn)入回射元件1306，并且被往回反射至PBS上且相對(duì)于元件1306上的入射角基本沒(méi)有角度偏差。正交線性偏振態(tài)的光1305在PBS 204的表面被透射，并且被第二反射表面211反射至另一個(gè)回射元件1307。光1305在元件1307處以基本相同的入射角被反射，并且被透射通過(guò)PBS 204。分量1304和1305合并，生成所穿行路徑的長(zhǎng)度差。
光1303類(lèi)似地被PBS 204分成正交線性偏振態(tài)。這些細(xì)節(jié)不重復(fù)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。
由偏振態(tài)(例如，光1304、1305)所走過(guò)的OPL的差提供對(duì)回射元件1306和1307所連的物體的位移的測(cè)量。
圖14是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀1401的透視圖。本實(shí)施例的干涉儀與圖13的示例性實(shí)施例基本相同。然而，回射元件1306如圖所示設(shè)置在單件式光學(xué)元件201的上方。通向元件1306的光學(xué)路徑形成參考路徑，通向元件1307的光學(xué)路徑形成測(cè)量路徑。
圖15和圖16是分別根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的差分干涉儀1501和干涉儀1601的透視圖。具有正交偏振態(tài)的光1502如圖所示地入射在單件式光學(xué)元件201上。光1502在PBS 204分成線性偏振分量，光1503被反射，光1504被透射。光1503穿過(guò)延遲器209，并且被回射元件1505反射。在穿過(guò)延遲器209之后，光1507的偏振態(tài)與光1503的偏振態(tài)正交，于是光1507被PBS 204透射。光1504在表面211處反射，穿過(guò)延遲器209并且被回射元件1506反射。光1509從延遲器209出射，并且被PBS 204反射。光1509與光1507合并以形成輸出光1510，該輸出光可被用來(lái)對(duì)每一個(gè)分量的OPL的差進(jìn)行精確測(cè)量。
干涉儀1601與干涉儀1501基本相同。然而，回射元件1505如圖所示地設(shè)置在單件式光學(xué)元件201的上方。通向元件1505的光學(xué)路徑形成參考路徑，通向元件1506的光學(xué)路徑形成測(cè)量路徑。
圖17A和17B分別是根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施例的干涉儀1701的透視圖和側(cè)視圖。干涉儀1701具有許多與結(jié)合圖2A-2D、圖8A-8B的示例性實(shí)施例描述的干涉儀共同的特征。因此，這些細(xì)節(jié)不重復(fù)，以避免使此處描述的實(shí)施例不清楚。干涉儀1701接收包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸入光1702，發(fā)出包括兩個(gè)具有正交態(tài)的線性偏振光的頻率分量的輸出光1711。如之前提及，用拍頻的變化來(lái)獲得測(cè)量反射器的位移的精確測(cè)量。
光1702被設(shè)置在長(zhǎng)斜方體1703和棱鏡1704之間的PBS 204分成正交線性偏振態(tài)。光1705被反射，穿過(guò)延遲器209，被回射元件1706反射。在再次穿過(guò)該延遲器之后，光1707被PBS 204透射。光1708被PBS 204透射，穿過(guò)延遲器206，被回射器1709反射。光1710從延遲器209出射，接著被PBS 204反射。光1707和光1710合并形成輸出光束1711。如所能理解到的，測(cè)量路徑包括光1705和光1707的OPL，參考路徑包括光1708和光1710的OPL。
根據(jù)所描述的示例性實(shí)施例，干涉儀可用于測(cè)量系統(tǒng)中。本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解到根據(jù)本發(fā)明教導(dǎo)可以有許多變型，而且這些變型仍保持在權(quán)利要求的范圍內(nèi)。在查閱此處的說(shuō)明書(shū)、附圖和權(quán)利要求之后，這些和其它的變型對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員會(huì)是顯而易見(jiàn)的。因而本發(fā)明除了權(quán)利要求的精神和范圍外不受限制。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)干涉儀，包括單件式光學(xué)元件，所述單件式光學(xué)元件具有偏振分束器和至少一個(gè)基本平行所述偏振分束器的反射表面。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括回射元件，所述回射元件適于以基本平行于入射路徑并且與入射路徑偏開(kāi)的方式反射入射光。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括第一部分和第二部分，所述偏振分束器設(shè)置在所述第一部分和所述第二部分之間。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)干涉儀，進(jìn)一步包括至少一個(gè)基本平行于所述偏振分束器的其它反射表面。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述偏振分束器設(shè)置在這些反射表面之間。
6.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述回射元件是立方隅角鏡。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)干涉儀，進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件上方的參考反射元件。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)干涉儀，進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件和所述參考反射元件之間的四分之一波長(zhǎng)延遲器。
9.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述第一部分是長(zhǎng)斜方體。
10.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述第一部分是長(zhǎng)斜方體，所述第二部分是長(zhǎng)斜方體。
11.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)干涉儀，進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件和一測(cè)量反射元件之間的四分之一波長(zhǎng)延遲器。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述測(cè)量反射元件包括至少一個(gè)適于以基本平行于入射路徑的方式反射入射光的回射元件。
13.一種光學(xué)干涉儀，包括單件式光學(xué)元件，所述單件式光學(xué)元件具有第一表面和第二表面，其中，所述第一表面不平行于所述第二表面。
14.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括回射元件，所述回射元件適于以基本平行于入射路徑并且與入射路徑偏開(kāi)的方式反射入射光。
15.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括設(shè)置在所述第一表面和所述第二表面之間的偏振分束器。
16.如權(quán)利要求15所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述單件式光學(xué)元件進(jìn)一步包括第一部分和第二部分，所述偏振分束器設(shè)置在所述第一部分和所述第二部分之間。
17.如權(quán)利要求16所述的光學(xué)干涉儀，其中，所述第一部分包括長(zhǎng)斜方體，所述第二部分包括棱鏡。
18.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)干涉儀，進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件上方的測(cè)量反射元件。
19.如權(quán)利要求18所述的光學(xué)干涉儀，進(jìn)一步包括設(shè)置在所述單件式光學(xué)元件和所述測(cè)量反射元件之間的四分之一波長(zhǎng)延遲器。
20.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)干涉儀，進(jìn)一步包括設(shè)置在單件式光學(xué)元件上方的參考反射元件。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種光學(xué)干涉儀，包括單件式光學(xué)元件，所述單件式光學(xué)元件具有偏振分束器和至少一個(gè)基本平行所述偏振分束器的反射表面。本發(fā)明的光學(xué)干涉儀，不再受到介質(zhì)折射率會(huì)隨溫度、壓力、濕度和介質(zhì)的含量而變化從而使OPL發(fā)生變化的影響，因此，能夠提供精密的測(cè)量。
文檔編號(hào)G01B9/02GK1959336SQ200610083359
公開(kāi)日2007年5月9日 申請(qǐng)日期2006年6月6日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月3日
發(fā)明者格雷格·C·菲利克斯, 約翰·伯克曼 申請(qǐng)人:安捷倫科技有限公司