專利名稱：用于測(cè)定織構(gòu)表面的屬性的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于測(cè)定織構(gòu)(textured surfaces)表面的屬性的方法和裝置，具體 而言，涉及用于測(cè)定織構(gòu)表面的光學(xué)屬性的方法和裝置。從現(xiàn)有技術(shù)中已知該類型的方法 和裝置已經(jīng)很長(zhǎng)時(shí)間了。本發(fā)明結(jié)合車體尤其是車輛車體的表面進(jìn)行描述，但是應(yīng)當(dāng)指出 的是，依據(jù)本發(fā)明的該裝置也適用于其它表面，例如地板或各種家具的表面等。因此，上述 織構(gòu)表面以橫向延伸又具有垂直輪廓的表面形態(tài)為特征，然而，人眼不能在微米級(jí)別定量 地評(píng)價(jià)這種高度的差異，僅能夠觀察這種織構(gòu)的印象。但是，本發(fā)明不限于織構(gòu)表面的研 允。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中已知的該類型的方法和裝置一般測(cè)定表面的特定屬性，例如顏色。這 種情況下，這些裝置被用來生成各個(gè)表面的客觀圖像。依據(jù)本發(fā)明的儀器特別用于質(zhì)量保 證領(lǐng)域，尤其是在確定被比較的兩表面間的差異時(shí)。但是該情況下，這種數(shù)量上的差異并不 是很大，其確實(shí)存在，卻超出了人的感知。模擬表面圖像的方法可從W02008/083206A3獲悉，該情況下，提供有包含多個(gè)表 面顏色和多個(gè)表面織構(gòu)的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器。另外，還提供有借助存儲(chǔ)在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器中的多個(gè)數(shù) 據(jù)以生成表面圖像的處理器。然而，很多情況下，對(duì)使用者而言，獲得特定表面的精確定量分析意義不大。在多 數(shù)情況下更為重要的是，例如，確定用于損壞區(qū)域的替換漆與原始使用的漆是否相應(yīng)，而這 是消費(fèi)者用裸眼看不出來的。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于提供特別是允許表面的定性評(píng)價(jià)的方法和裝置。另外，還 提供一種方法，其能夠以盡可能簡(jiǎn)單的方式給出這些表面的定性屬性的快速概述。這可以通過本發(fā)明的依據(jù)權(quán)利要求1的方法和依據(jù)權(quán)利要求10的裝置來達(dá)成。 依據(jù)本發(fā)明的用于測(cè)定特別是織構(gòu)表面的屬性的方法中，射線首先被照射到被研究的所述 表面。在另一步驟中，至少部分照射到所述表面和被所述表面反射的射線由檢測(cè)器裝置檢 測(cè)。檢測(cè)器裝置能夠?qū)φ盏狡渖系纳渚€進(jìn)行定位評(píng)價(jià)(location-resolved evaluation) 0 在另一步驟中，從檢測(cè)的射線測(cè)定第一特征值，所述第一特征值是所述表面的織構(gòu)的特征。 在另一步驟中，從檢測(cè)的射線測(cè)定第二特征值，所述第二特征值是所述表面的附加光學(xué)屬 性的特征。最后，在所述第一特征值和所述第二特征值的基礎(chǔ)上測(cè)定結(jié)果值。反射的射線為從所述表面再次傳輸?shù)纳渚€，例如通過反射或漫射，甚或可能通過 衍射方式傳輸?shù)纳渚€。特征值也可以是差值(different value) 0該情況下，所述檢測(cè)器裝置不僅記錄了照到它的光的強(qiáng)度，而且允許定位呈現(xiàn) (location-resolved r印resentation)，例如圖像顯示。這樣，該檢測(cè)器裝置可以是例如 CXD芯片或彩色相機(jī)。
所述第一特征值例如既可以是多個(gè)個(gè)體值，也可以是從多個(gè)個(gè)體值得出強(qiáng)度分布 的集合值。然而這種情況下，所述第一特征值，作為所述表面的織構(gòu)的特征，其通過光學(xué)方 式測(cè)定。這樣，檢測(cè)所述表面的織構(gòu)，特別地，在不接觸所述表面的情況下檢測(cè)所述表面的 織構(gòu)。第二個(gè)特征值，即所述表面的光學(xué)屬性，優(yōu)選為與所述表面的指定的織構(gòu)不相關(guān) 的屬性，例如顏色屬性。根據(jù)在兩個(gè)特征值的基礎(chǔ)上測(cè)定的結(jié)果值，獲得由多個(gè)要素構(gòu)成的集合值，其優(yōu) 選為數(shù)量值(scalar magnitude)。如之前提到的，通常只需要獲得關(guān)于所述表面的定性信 息，例如其是否可被人眼看出與參考表面在視覺上存在區(qū)別的信息。但是，該信息依賴于所 述表面的多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)(criteria)。因此，依據(jù)本發(fā)明提出，該類型的多個(gè)特征值應(yīng)當(dāng)以合適的 方式結(jié)合，以得到所述表面的定性聲明，特別地，所述表面與參考表面是否在視覺感知方式 上不同的聲明。這樣，可有意地減少實(shí)際上通過測(cè)量獲得的信息。優(yōu)選地，在使用所述第一特征值及使用至少一個(gè)所述表面的事前已知的或經(jīng)測(cè)定 的附加屬性時(shí)，測(cè)定作為所述表面的特征且與人眼感知相關(guān)的參數(shù)。這樣，可以對(duì)觀察者的 主觀行為進(jìn)行適應(yīng)，即使真正的觀察者通常還利用他或她的經(jīng)驗(yàn)“理解”視覺印象?，F(xiàn)有技術(shù)中，所述表面的結(jié)構(gòu)屬性通常以機(jī)械方式測(cè)量，例如通過霍梅爾 (Hommel)測(cè)量?jī)x器等。在本發(fā)明的范圍內(nèi)，也測(cè)定結(jié)構(gòu)屬性，特別地，以光學(xué)方式。這種情 況下，合適的相機(jī)記錄所述織構(gòu)表面的圖像。然而從其自身考慮，該圖像可以具有多種物理 原因，例如實(shí)際織構(gòu)的存在或所述表面光/暗圖案的存在。利用依據(jù)本發(fā)明的方法，可行的 是在事前已知甚或如可從光/暗圖案的存在推斷的信息等附加測(cè)定的信息的基礎(chǔ)上，更 好地確定記錄的圖像的物理原因。優(yōu)選地，在多個(gè)存儲(chǔ)的描述所述表面光學(xué)屬性的數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)上測(cè)定結(jié)果值，這些 數(shù)據(jù)既可以是描述被測(cè)量的所述表面的光學(xué)屬性的數(shù)據(jù)，也可以是描述參考表面的數(shù)據(jù)。在另一個(gè)優(yōu)選方法中，至少一個(gè)作為表面的光學(xué)屬性的附加特征值，用于測(cè)定 結(jié)果值。因此這種情況下，通過該方法至少三個(gè)不同的特征值用于給出所述結(jié)果值。 優(yōu)選地，至少一個(gè)特征值選自包括表面的顏色、表面的亮度、表面的圖像獨(dú)特性(D0I， Distinctiveness Of Image)、表面的發(fā)光度(shininess)、表面的織構(gòu)等的特征值組。優(yōu)選 地，至少一個(gè)特征值是通過比較生成的相對(duì)值，該特征值優(yōu)選地與參考數(shù)據(jù)比較而得，例如 從這些值形成的差值或關(guān)系式(relationship)。在另一個(gè)優(yōu)選方法中，所述第二特征值在多個(gè)要素的基礎(chǔ)上形成，多個(gè)要素的至 少一個(gè)為所述表面的亮度的特征。特別優(yōu)選地，至少一個(gè)所述要素為所述表面的顏色的特 征。這樣，例如可以測(cè)定所謂的L-a-b值，L是所述表面的亮度的特征，a值表示紅/綠值， b值表示黃/藍(lán)值。被研究表面的清楚的定性特征可以通過該標(biāo)準(zhǔn)化的方法獲得。而且，同 樣可行的是用光譜作為顏色的特征。照射可以是漫射和定向照射，其中兩種照射類型可以在測(cè)量過程中結(jié)合使用。另 外，同樣可行的是多邊照射，例如環(huán)形(armular-segmental)光源。而且，同樣可行的是，使 用集中式或分散式照射，或可選地使用所謂的烏布利希球(Ulbricht sphere) 0同樣可行的是，濾光器元件和/或光闌(diaphragm)元件用于照射裝置和所述表
4面之間或所述表面和所述檢測(cè)器裝置之間的各自的照射路徑中。這些濾光器元件特別用 于模擬所述測(cè)量裝置的特定光譜行為，以便盡可能地與指定類型的標(biāo)準(zhǔn)光相符合或獲得Va 適應(yīng)。在另一個(gè)優(yōu)選方法中，對(duì)個(gè)體特征值進(jìn)行加權(quán)。這樣，可行的是，根據(jù)被研究表面， 個(gè)體要素可以在較高或較低程度上納入考慮。這基于一個(gè)事實(shí)，即依賴于所述表面的性質(zhì)， 不同的屬性與其它相比較易為人眼觀察到。這樣，已知人眼對(duì)特定顏色范圍相比其它更為 敏感，因此，在特定顏色范圍內(nèi)感知顏色差異相對(duì)其它范圍也是容易的。優(yōu)選地，所述表面顏色的第一特征值首先形成，該第一特征值隨即關(guān)聯(lián)到附加特 征值，例如所述表面的織構(gòu)的特征值。優(yōu)選地，將所述特征值作為數(shù)量值。這樣可以對(duì)上述 的差值求平方。本發(fā)明還涉及用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置，其中，提供照射射線到被研究表 面的第一輻射裝置和檢測(cè)從所述輻射裝置照射到所述表面和從所述表面反射的射線的檢 測(cè)器裝置，該檢測(cè)器裝置允許對(duì)照到所述表面的射線進(jìn)行定位評(píng)價(jià)。另外，在檢測(cè)的射線的 基礎(chǔ)上，所述檢測(cè)器裝置發(fā)出至少一個(gè)作為所述表面的織構(gòu)的特征的第一特征值和一個(gè)作 為所述表面的附加光學(xué)屬性的特征的第二特征值。依據(jù)本發(fā)明，所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置具有處理器裝置，該處理器裝 置在所述第一特征值和所述第二特征值的基礎(chǔ)上測(cè)定作為所述表面的特征的結(jié)果值。因 此，對(duì)于所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置，所述檢測(cè)器裝置或相應(yīng)的處理器單元應(yīng)首 先給出或準(zhǔn)備兩個(gè)獨(dú)立的特征值，這兩個(gè)特征值應(yīng)隨即通過處理器裝置結(jié)合形成結(jié)果值。 該結(jié)果值優(yōu)選地也是定性值或相對(duì)值。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置具有存儲(chǔ)器裝置， 其中存儲(chǔ)有用于作為所述第一特征值或所述第二特征值的比較值的參考值。這樣，特定 的測(cè)量結(jié)果與存儲(chǔ)的參考值作比較。為此，優(yōu)選地，提供有比較器，其將每種情況測(cè)量的 值與測(cè)量的參考值作比較。這種情況下，可以僅對(duì)所述結(jié)果值進(jìn)行相互比較，但優(yōu)選地 是，個(gè)體特征值或其要素也進(jìn)行相互比較，并形成如差值等相應(yīng)的相對(duì)量值(relative magnitudes)0然而除了與參考值作比較外，同樣可行的是，所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝 置在車身等的不同區(qū)域測(cè)量，并將該表面的不同區(qū)域得到的測(cè)量結(jié)果作比較。這樣，例如可 以在車身的第一區(qū)域進(jìn)行測(cè)量，第一區(qū)域沒有被破壞，并接著對(duì)另外一個(gè)提供有更換漆的 區(qū)域測(cè)量，例如更換的車門。第一次記錄的數(shù)值便用作參考值。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，所述輻射裝置照射非定向的或漫射的射線到被研究的所 述表面。同樣可行的是，所述輻射裝置照射定向射線到所述表面，以便通過這樣的方式模擬 例如晴空下陽光的照射。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置具有存儲(chǔ)器裝置， 其中存儲(chǔ)有事前已知的所述表面的屬性的特征值。它們可以是例如顏色、發(fā)光度、DOI等特 征值。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置具有距離測(cè)量裝 置，以確定所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置相對(duì)所述表面走過的路徑。這樣可以測(cè)定 相對(duì)較大表面的定性圖像，特別地，可以與所述表面上的特定點(diǎn)進(jìn)行幾何關(guān)聯(lián)。所述距離測(cè)量裝置可以是例如安裝在輪子上的測(cè)距儀，所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置在該輪子 的幫助下在所述表面上移動(dòng)。然而同樣可行的是，通過檢測(cè)所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置相對(duì)環(huán)境的精 確幾何位置，并在多個(gè)位置值的基礎(chǔ)上利用三角測(cè)量求出相應(yīng)的距離的方法確定距離。這 樣，例如所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置可以安裝于機(jī)械手臂，機(jī)械手臂的位置通過 機(jī)器人坐標(biāo)等確定。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，所述輻射裝置和所述檢測(cè)器裝置提供在殼體內(nèi)，該殼體 僅具有一個(gè)用于表面研究的開口，開口在不使用時(shí)關(guān)閉。如上所述，所述用于測(cè)定表面的光 學(xué)屬性的裝置優(yōu)選地具有輪子以使所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置相對(duì)所述表面移 動(dòng)。優(yōu)選地，提供多個(gè)輪子以便同時(shí)觀察所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置相對(duì)所述表 面的限定位置。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，所述用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置具有多個(gè)例如在多 個(gè)不同角度照射所述表面的輻射裝置。同樣可行的是，提供多個(gè)記錄被所述表面反射的射 線的檢測(cè)器裝置。優(yōu)選地，所述輻射器裝置照射白光或D65等光標(biāo)準(zhǔn)光到被研究的表面。另 外，在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，光闌安裝在所述表面和所檢測(cè)器裝置之間。該光闌可以是機(jī)械 光闌和軟件光闌。在后述情況下，所述“光闌”可通過合適的改變?cè)谟^察的圖像部分或限定 的像素區(qū)域設(shè)置。這種情況下，所述圖像記錄裝置可以理解為編程式像素場(chǎng)(C⑶或CMOS) 相機(jī)。因此，優(yōu)選可行的是，所述圖像記錄裝置記錄的圖像或記錄的圖像的摘錄 (extract)可以改變。由于在分辨率上的這種改變或圖像摘錄的改變，可以獲得關(guān)于所述表 面的織構(gòu)的信息。為此，也可以采取例如可滑動(dòng)平均構(gòu)成(slidingaverage formation)。例如，輻射裝置相對(duì)所述表面成45°安裝。所述射線-檢測(cè)器裝置優(yōu)選地相對(duì)所 述表面成0°C提供。這種情況下可行的是，多個(gè)輻射裝置同時(shí)激活，然而，相繼的激活也是可 以的。在另一優(yōu)選實(shí)施方式中，在所述輻射裝置和所述射線_檢測(cè)器裝置之間延伸的所 述輻射方向位于一個(gè)平面內(nèi)。當(dāng)提供多個(gè)輻射裝置或多個(gè)射線-檢測(cè)器裝置時(shí)，這是特別 重要的。這種情況下，所有幾何上的輻射方向優(yōu)選地位于預(yù)定的平面內(nèi)。同樣可行的是，不 必要的陰影效應(yīng)可通過合適的照射防止，特別是從多個(gè)方向。


本發(fā)明的更多有益效果可結(jié)合附圖理解，附圖中圖1是依據(jù)本發(fā)明的方法的流程圖；及圖2是依據(jù)本發(fā)明的裝置的整體示意圖。
具體實(shí)施例方式圖1是依據(jù)本發(fā)明的方法的步驟的示意圖。這種情況下，被研究表面的圖像首先 利用依據(jù)本發(fā)明的裝置記錄。表面可以通過例如輻射裝置照射，并且從表面反射的光，例如 特別是反射光或漫射光，可以通過圖像記錄裝置記錄。顏色值的要素L-a-b及織構(gòu)值P、發(fā)光度值G，分別從通過圖像記錄獲得的數(shù)據(jù)測(cè)定。這種情況下，織構(gòu)值P可首先從記錄的圖像測(cè)定，并生成統(tǒng)計(jì)學(xué)的值(例如方差、熵、分 形元(fractal element)、灰階矩陣、灰階直方圖及重心、半寬度、其它閥值或其它評(píng)價(jià)一維 或二維圖像的數(shù)學(xué)方法的參數(shù))，并可以例如將多個(gè)像素的強(qiáng)度的差值納入考慮。發(fā)光度值G例如可以通過以下方式測(cè)定兩個(gè)不同的輻射裝置在不同的角度照射 表面，圖像記錄裝置記錄各自的圖像并測(cè)定相應(yīng)的強(qiáng)度值，優(yōu)選地在圖像記錄裝置前面設(shè) 置有光闌。這種情況下，優(yōu)選地僅測(cè)定照到圖像記錄裝置的強(qiáng)度。這樣，可以測(cè)定由表面反 射的空間強(qiáng)度分布或整體強(qiáng)度，以便測(cè)定發(fā)光度值。同樣可行的是，在光闌幫助下，或者使輻射裝置和/或檢測(cè)器裝置在外圍方向上 為可移動(dòng)的，從而射線可以利用相同的輻射裝置在不同的角度照射和/或射線可利用檢測(cè) 器裝置4在不同的角度檢測(cè)，測(cè)定其它光學(xué)特征值。另外，多個(gè)輻射源也可以同時(shí)激發(fā)或相 繼激發(fā)。這種情況下，可以通過光學(xué)裝置(輻射裝置、檢測(cè)器裝置)將被研究的表面成像到 相機(jī)，但同樣也可行的是，通過光闌反射射線以將被研究的表面成像到相機(jī)。顏色值L-a-b通過使用彩色相機(jī)或完整的傳感器(如光電管)測(cè)定。個(gè)體顏色值 L-a-b接下來與參考值作比較，以便得到相應(yīng)的差值結(jié)果AL、Aa和Ab0顏色差值ΔΕ按 照下述等式利用這些差值測(cè)定δε = Val2 +Aa2 +Ab2這樣，顏色差值ΔΕ描述測(cè)定值與參考圖案或參考顏色之間的偏差。測(cè)定的織構(gòu)值以相似的方式與參考值作比較，并測(cè)定值P或差值ΔΡ。同樣地以這 種方式，發(fā)光度值G與參考值作比較并測(cè)定AG。這種情況下可行的是，所有的值均通過相 同的檢測(cè)器裝置測(cè)定，特別是若檢測(cè)器裝置為彩色相機(jī)的情況。下面的相機(jī)設(shè)置也是可行 的多個(gè)濾光器可以依次定位于相機(jī)的前面(可選地也可是濾光輪)。在另一個(gè)步驟中，特別地，也可根據(jù)表面對(duì)個(gè)體值(未示出)進(jìn)行加權(quán)。最后，根 據(jù)下面的等式測(cè)定表面的結(jié)果ΔΙ AI = VeAE2 +fAP2+gAG2這樣，為了測(cè)定結(jié)果值Δ I，個(gè)體要素ΔΕ、ΔΡ和ΔG的偏差(deviation)也進(jìn)行 測(cè)定，并可選地使用加權(quán)因子e、f和g接著結(jié)合為整體。這些加權(quán)因子e、f和g也可以是 變量。結(jié)果值△ I聲明，對(duì)于使用者而言，表面的視覺印象是否與參考表面存在感知程度上 的不同。上述公式中同樣也可行的是，利用絕對(duì)值代替上述的差值。 圖2是依據(jù)本發(fā)明的裝置的整體示意圖。該裝置具有殼體22，其除了開口 23之外 是封閉的，該開口用于觀察表面10。標(biāo)號(hào)2和6是指在不同角度照射光到表面10的兩個(gè)輻 射裝置。檢測(cè)器裝置4記錄從表面反射的射線，特別是漫射或反射的射線。在表面和檢測(cè) 器裝置之間的光路中設(shè)有光闌。標(biāo)號(hào)29和30是指配置在輻射裝置2、12和表面之間各自 的輻射路徑中的光闌和/或?yàn)V光器裝置。 檢測(cè)器裝置或圖像記錄裝置發(fā)送值P、G、L、a、b到處理器裝置12，處理器裝置12 處理這些數(shù)據(jù)。具體地，結(jié)果值Δ I利用處理器裝置12根據(jù)圖1所示的方法進(jìn)行測(cè)定，并 可以通過顯示裝置16顯示。
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標(biāo)號(hào)14是指存儲(chǔ)器裝置，其中存儲(chǔ)有顏色值、織構(gòu)值或發(fā)光度值等參考值。另外， 處理器裝置12可以進(jìn)一步加入用于處理的外部值E，例如用于值ΔΡ的測(cè)定。后者包含被 觀察表面的信息，以便處理器裝置可以確定特定值是從現(xiàn)有織構(gòu)得出，或僅從不同強(qiáng)度分 布或?qū)Ρ鹊慕Y(jié)果得出。該信息無法從記錄的圖像上直接獲得，而只能利用附加數(shù)據(jù)，附加數(shù) 據(jù)特別地描述被研究表面或通過利用不同的測(cè)量幾何學(xué)方法的附加測(cè)量而獲得。標(biāo)號(hào)30是指控制裝置，其驅(qū)動(dòng)例如輻射裝置2和6，可選地也驅(qū)動(dòng)檢測(cè)器裝置。這 樣，在特定測(cè)量模塊的框架下，例如表面通過兩輻射裝置2、6相繼照射，接著通過處理器裝 置12評(píng)價(jià)兩個(gè)圖像也是可以的。標(biāo)號(hào)S1、S2和S3是指光射照射到表面10或被表面10反 射的射線的輻射方向。優(yōu)選地，兩輻射方向S1、S2，以及輻射方向S3位于同一平面內(nèi)，S3在 圖像記錄裝置4的方向上從表面10延伸。同樣也可行的是，例如檢測(cè)器或輻射源安裝在測(cè) 量平面之外。標(biāo)號(hào)34是指旋轉(zhuǎn)裝置或輪子，其允許裝置1相對(duì)表面沿箭頭Pl移動(dòng)。另外，裝置 1具有距離測(cè)量裝置(未示出)，其確定裝置1相對(duì)表面10走過的路徑。這樣，表面10每 次可以以幾何相關(guān)的方式測(cè)量。這種類型的距離測(cè)量裝置可以耦連到輪子34。然而，裝置 1安裝到機(jī)械手臂等支架上，相對(duì)表面10以固定方式移動(dòng)也是可以的。這樣，與圖1相比，單獨(dú)的處理器裝置和存儲(chǔ)裝置12、14不是設(shè)置在殼體22的外 部，而優(yōu)選地位于殼體內(nèi)部或?yàn)槠涮峁┑碾娮友b置部分。上述的光闌可用于確定表面的發(fā) 光效應(yīng)(shine effect) 0同樣也可行的是，光闌由圖像評(píng)價(jià)生成，例如“軟件光闌”，其中僅 圖像的特定區(qū)域用于評(píng)價(jià)。本申請(qǐng)文件中公開的全部特征對(duì)本發(fā)明均是至關(guān)重要的，不論是單獨(dú)或是結(jié)合， 與現(xiàn)有技術(shù)相比，它們都是新穎的。標(biāo)號(hào)單1246810121416222329，3034Δ PΔ EΔ GΔ I
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用于測(cè)定表面的光學(xué)屬性的裝置
輻射裝置
檢測(cè)器裝置
另一輻射裝置
光闌
表面
處理器裝置 存儲(chǔ)器裝置 顯示裝置 殼體 開口 光闌 輪子
第一特征值 第二特征值 特征值 結(jié)果值
G、E、PL、a、bEPlS1、S2、S3
參數(shù) 顏色值 屬性
移動(dòng)方向 輻射方向
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權(quán)利要求
一種測(cè)定織構(gòu)表面的屬性的方法，其特征在于，包括以下步驟照射射線到被研究的所述表面(10)；通過檢測(cè)器裝置(4)檢測(cè)至少部分照射到所述表面(10)和由所述表面(10)反射的射線，所述檢測(cè)器裝置(4)允許對(duì)照到它的射線進(jìn)行定位評(píng)價(jià)；從檢測(cè)的射線測(cè)定第一特征值(P)，其中，所述第一特征值(P)是所述表面(10)的織構(gòu)的特征；從檢測(cè)的射線測(cè)定第二特征值(ΔE)，其中，所述第二特征值(ΔE)是所述表面(10)的附加光學(xué)屬性的特征；在所述第一特征值(P)和所述第二特征值(ΔE)的基礎(chǔ)上測(cè)定結(jié)果值(ΔI)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在使用所述第一特征值(P)及使用至少一 個(gè)所述表面(10)事前已知或經(jīng)測(cè)定的附加屬性時(shí)，測(cè)定作為所述表面(10)的特征的參數(shù)。
3.根據(jù)至少一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，所述結(jié)果值(ΔΙ)在存儲(chǔ)的 多個(gè)描述所述表面(10)的光學(xué)屬性的數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)上測(cè)定。
4.根據(jù)至少一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，至少一個(gè)附加特征值(AG) 用于測(cè)定所述結(jié)果值(ΔΙ)，所述附加特征值是所述表面(10)的光學(xué)屬性的特征。
5.根據(jù)至少一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，至少一個(gè)特征值選自包括表 面顏色、表面亮度、表面發(fā)光度、表面織構(gòu)等的特征值組。
6.根據(jù)至少一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，至少一個(gè)特征值(P、ΔΕ)是 通過比較生成的相對(duì)值。
7.根據(jù)至少一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，所述第二特征值(ΔΕ)在多 個(gè)要素(AL、Δ a、Ab)的基礎(chǔ)上生成，其中，至少一個(gè)所述要素(AL)是所述表面(10)的 亮度的特征。
8.根據(jù)至少一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，至少一個(gè)所述要素(AL、 Δ a、Ab)是所述表面(10)的顏色的特征。
9.根據(jù)至少一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，對(duì)所述個(gè)體要素特征值進(jìn)行 加權(quán)。
10.一種用于測(cè)定表面(10)的光學(xué)屬性的裝置，包括定向射線到被研究的表面(10) 的第一輻射裝置(2)，和檢測(cè)從所述輻射裝置(2)定向到所述表面(10)和從所述表面(10) 反射的射線的檢測(cè)器裝置(4)，其中，所述檢測(cè)器裝置(4)允許對(duì)照到所述表面的射線進(jìn) 行定位評(píng)價(jià)，并在檢測(cè)的射線的基礎(chǔ)上發(fā)出至少一個(gè)第一特征值(ΔΡ)和一個(gè)第二特征值 (ΔΕ)，所述第一特征值(ΔΡ)是織構(gòu)的特征，所述第二特征值(ΔΕ)是所述表面(10)的 附加光學(xué)屬性的特征，其特征在于，所述裝置具有處理器裝置(12)，其在所述第一特征值 (ΔΡ)和所述第二特征值(ΔΕ)的基礎(chǔ)上測(cè)定作為所述表面的特征的結(jié)果值(ΔΙ)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述裝置(1)，其特征在于，所述裝置(1)具有存儲(chǔ)器裝置，其中存 儲(chǔ)有用于測(cè)定至少所述第一特征值(ΔΡ)或所述第二特征值(ΔΕ)時(shí)作為比較值的參考值。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述裝置(1)，其特征在于，所述裝置(1)具有存儲(chǔ)器裝置(14)， 其中存儲(chǔ)有事前已知的作為所述表面(10)的屬性的特征值。
13.根據(jù)至少一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述裝置(1)，其特征在于，所述裝置(1)具有用于測(cè) 定所述裝置(1)相對(duì)所述表面(10)走過的路徑的距離測(cè)量裝置。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種測(cè)定織構(gòu)表面的屬性的方法，包括以下步驟照射射線到被研究的所述表面(10)；通過檢測(cè)器裝置(4)檢測(cè)至少部分照射到所述表面(10)和由所述表面(10)反射的射線，檢測(cè)器裝置(4)允許對(duì)照到它的射線進(jìn)行定位評(píng)價(jià)；從檢測(cè)的射線測(cè)定第一特征值(P)，其中，所述第一特征值(P)是所述表面(10)的織構(gòu)的特征；從檢測(cè)的射線測(cè)定第二特征值(ΔE)，其中，所述第二特征值(ΔE)是所述表面(10)的附加光學(xué)屬性的特征；在所述第一特征值(P)和所述第二特征值(ΔE)的基礎(chǔ)上測(cè)定結(jié)果值(ΔI)。
文檔編號(hào)G01J1/10GK101957188SQ20101023106
公開日2011年1月26日 申請(qǐng)日期2010年7月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月15日
發(fā)明者烏韋·斯珀林, 彼得·施瓦茨 申請(qǐng)人:畢克-加特納有限責(zé)任公司