專利名稱：逆反射材料反射比測量裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及反射比測量技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種逆反射材料反射比測量裝置及方法。
背景技術(shù)：
目前公知的材料反射測量儀器主要分為兩類，一類可以測量材料鏡面反射比，一 類可以測量材料的漫反射比。尚未有能測量逆反射材料反射比的儀器出現(xiàn)。若利用已有的 兩類儀器測量逆反射材料反射比，則會由于反射光的逆向返回，使得探測器無法收集到反 射光，導(dǎo)致測量結(jié)果發(fā)生錯誤，產(chǎn)生較大誤差，無法保證測量值的準(zhǔn)確性。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是如何提供一種測量逆反射材料反射比的裝置及方 法，且保證測量值的準(zhǔn)確性。( 二 )技術(shù)方案為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種逆反射材料反射比測量裝置，包括依次 連接的測量模塊、存儲模塊和計算模塊，所述測量模塊，用于測量預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)，并將所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù) 和待測信號數(shù)據(jù)發(fā)送至所述存儲模塊進(jìn)行存儲，所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)為以已知反射比的材料 為測量對象時，測量到的信號數(shù)據(jù)，所述待測信號數(shù)據(jù)為以待測逆反射材料為測量對象時， 測量到的信號數(shù)據(jù)；所述存儲模塊，用于存儲所述已知反射比的材料的反射比以及所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù) 和待測信號數(shù)據(jù)；所述計算模塊，用于根據(jù)所述已知反射比的材料的反射比以及所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù) 和待測信號數(shù)據(jù)計算，獲得所述待測逆反射材料的反射比。其中，所述測量裝置，還用于測量背景信號數(shù)據(jù)，并將所述背景信號數(shù)據(jù)發(fā)送至所 述存儲模塊進(jìn)行存儲，所述背景信號數(shù)據(jù)為以測量模塊本身為測量對象時，測量到的信號 數(shù)據(jù)；所述存儲模塊，還用于存儲所述背景信號數(shù)據(jù)；所述計算模塊，還用于根據(jù)所述已知反射比的材料的反射比以及所述背景信號數(shù) 據(jù)、預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)計算，獲得所述待測逆反射材料的反射比。其中，所述測量模塊包括積分球、探測器和光源，所述積分球的一條直徑兩端分 別設(shè)有探測器口、樣品口，所述積分球還設(shè)有入射光口，所述光源設(shè)于所述入射光口處，所 述探測器設(shè)于所述探測器口處，所述探測器與所述存儲模塊相連。其中，所述入射光口設(shè)于所述積分球上一條直徑的一端，所述入射光口所在直徑 與所述探測器口和樣品口所在直徑垂直。
本發(fā)明還公開了一種基于所述的逆反射材料反射比測量裝置的測量方法，包括以 下步驟Sl 以已知反射比的材料為測量對象，測量預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)，并存儲于所述存儲模 塊；S2 以待測逆反射材料為測量對象，測量待測信號數(shù)據(jù)，并存儲于所述存儲模塊；S3:根據(jù)所述已知反射比的材料的反射比以及所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù) 計算，獲得所述待測逆反射材料的反射比。其中，步驟S3中，根據(jù)下列公式，計算待測逆反射材料的反射比，
權(quán)利要求
1.一種逆反射材料反射比測量裝置，其特征在于，包括依次連接的測量模塊(1)、存 儲模塊(2)和計算模塊(3)，所述測量模塊(1)，用于測量預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)，并將所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和 待測信號數(shù)據(jù)發(fā)送至所述存儲模塊( 進(jìn)行存儲，所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)為以已知反射比的材 料為測量對象時，測量到的信號數(shù)據(jù)，所述待測信號數(shù)據(jù)為以待測逆反射材料為測量對象 時，測量到的信號數(shù)據(jù)；所述存儲模塊O)，用于存儲所述已知反射比的材料的反射比以及所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù) 和待測信號數(shù)據(jù)；所述計算模塊(3)，用于根據(jù)所述已知反射比的材料的反射比以及所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù) 和待測信號數(shù)據(jù)計算，獲得所述待測逆反射材料的反射比。
2.如權(quán)利要求1所述的逆反射材料反射比測量裝置，其特征在于，所述測量裝置(1)， 還用于測量背景信號數(shù)據(jù)，并將所述背景信號數(shù)據(jù)發(fā)送至所述存儲模塊( 進(jìn)行存儲，所 述背景信號數(shù)據(jù)為以測量模塊(1)本身為測量對象時，測量到的信號數(shù)據(jù)；所述存儲模塊O)，還用于存儲所述背景信號數(shù)據(jù)；所述計算模塊(3)，還用于根據(jù)所述已知反射比的材料的反射比以及所述背景信號數(shù) 據(jù)、預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)計算，獲得所述待測逆反射材料的反射比。
3.如權(quán)利要求1所述的逆反射材料反射比測量裝置，其特征在于，所述測量模塊包括 積分球(1-1)、探測器(1- 和光源(1-3)，所述積分球(1-1)的一條直徑兩端分別設(shè)有探 測器口(1-4)、樣品口(1-5)，所述積分球(1-1)還設(shè)有入射光口(1-6)，所述光源(1-3) 設(shè)于所述入射光口(1-6)處，所述探測器(1-2)設(shè)于所述探測器口(1-4)處，所述探測器 (1-2)與所述存儲模塊(2)相連。
4.如權(quán)利要求3所述的逆反射材料反射比測量裝置，其特征在于，所述入射光口(1-6) 設(shè)于所述積分球(1-1)上一條直徑的一端，所述入射光口(1-6)所在直徑與所述探測器口 (1-4)和樣品口(1-5)所在直徑垂直。
5.一種基于如權(quán)利要求1-4任一項所述的逆反射材料反射比測量裝置的測量方法，其 特征在于，包括以下步驟51以已知反射比的材料為測量對象，測量預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)，并存儲于所述存儲模塊；52以待測逆反射材料為測量對象，測量待測信號數(shù)據(jù)，并存儲于所述存儲模塊；53根據(jù)所述已知反射比的材料的反射比以及所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)計 算，獲得所述待測逆反射材料的反射比。
6.如權(quán)利要求5所述的逆反射材料反射比測量方法，其特征在于，步驟S3中，根據(jù)下列 公式，計算待測逆反射材料的反射比， 其中，Z為待測逆反射材料的反射比，M為所述已知反射比的材料的反射比，X為待測信 號數(shù)據(jù)，R為預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)。
7.如權(quán)利要求5所述的逆反射材料反射比測量方法，其特征在于，在步驟Sl之前包括 步驟Sll 以測量模塊本身為測量對象，測量背景信號數(shù)據(jù)，并存儲于存儲模塊；步驟S3中根據(jù)下列公式，計算待測逆反射材料的反射比， ▽ (X-B)* ML —-R-B其中，Z為待測逆反射材料的反射比，M為所述已知反射比的材料的反射比，B為背景信 號數(shù)據(jù)，X為待測信號數(shù)據(jù)，R為預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)。
8.如權(quán)利要求7所述的逆反射材料反射比測量方法，其特征在于，步驟Sll中，對積 分球的入射光口進(jìn)行遮擋，并將已知反射比的材料或待測逆反射材料放置于積分球的樣品
9.如權(quán)利要求5所述的逆反射材料反射比測量方法，其特征在于，在步驟Sl中，將已知 反射比的材料置于積分球的樣品口。
10.如權(quán)利要求5所述的逆反射材料反射比測量方法，其特征在于，在步驟S2中，將待 測逆反射材料置于積分球的樣品口。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種逆反射材料反射比測量裝置，包括依次連接的測量模塊、存儲模塊和計算模塊，所述測量模塊，用于測量預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)，并將所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)發(fā)送至所述存儲模塊進(jìn)行存儲；所述存儲模塊，用于存儲所述已知反射比的材料的反射比以及所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)；所述計算模塊，用于根據(jù)所述已知反射比的材料的反射比以及所述預(yù)設(shè)信號數(shù)據(jù)和待測信號數(shù)據(jù)計算，獲得所述待測逆反射材料的反射比，直接用于測量逆反射材料的反射比，且測量值的準(zhǔn)確性高。
文檔編號G01N21/17GK102128793SQ20101059490
公開日2011年7月20日 申請日期2010年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月17日
發(fā)明者馮國進(jìn), 鄭春弟 申請人:中國計量科學(xué)研究院