專利名稱：磁共振裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在機架的內(nèi)部配置高頻線圈的磁共振裝置。
背景技術(shù)：
在磁共振裝置中，一般在機架的內(nèi)部配置全身線圈(whole body coil,以下稱作WB線圈)等的高頻線圈。高頻線圈通過通電而發(fā)熱。高頻線圈的冷卻以往依賴于周圍的自然對流,沒有采·用特別的冷卻措施。另外，根據(jù)例如日本特開平11-244255號公報，已知有使用冷卻水將高頻線圈冷卻的構(gòu)造。因此，高頻線圈的發(fā)熱有可能使機架內(nèi)的攝影空間的溫度上升、給載置在該攝影工件中的被檢者帶來不適感。所以，考慮通過在與高頻線圈之間隔開某種程度的間隔配置蓋、使高頻線圈的發(fā)熱不易傳遞到攝影空間。但是，在此情況下，通過蓋使攝影空間變小，有可能給被檢者帶來壓迫感。在由日本特開平11-244255號公報已知的構(gòu)造中，冷卻部的構(gòu)造變得龐大，其收容空間變大，所以攝影空間變小，有可能給被檢者帶來壓迫感。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)這樣的情況，希望防止因配置在機架內(nèi)的高頻線圈的發(fā)熱使攝影空間的溫度上升。本發(fā)明的第I技術(shù)方案的磁共振裝置具備靜磁場磁鐵，產(chǎn)生靜磁場；傾斜磁場線圈，產(chǎn)生用來與上述靜磁場疊加的傾斜磁場；蓋，在上述靜磁場磁鐵及上述傾斜磁場線圈的內(nèi)側(cè)形成內(nèi)部空間，該內(nèi)部空間用來插入臥臺頂板及載置在該臥臺頂板上的被檢體；高頻線圈，配置在上述內(nèi)部空間中，包括圓筒狀的基座部、以及配置在該基座部上的多個第I電氣元件及多個第2電氣元件；第I流路，形成在上述基座部與上述蓋之間，用來將上述第I電氣元件進行空冷;第2流路，連通到上述第I流路并形成在上述基座部與上述蓋之間，用來將上述第2電氣元件進行空冷；冷卻機構(gòu)，通過引起從上述第I流路朝向上述第2流路的冷卻用氣體流，將上述高頻線圈進行冷卻。本發(fā)明的第2技術(shù)方案的磁共振裝置具備靜磁場磁鐵，產(chǎn)生靜磁場；傾斜磁場線圈，產(chǎn)生用來與上述靜磁場疊加的傾斜磁場；蓋，在上述靜磁場磁鐵及上述傾斜磁場線圈的內(nèi)側(cè)形成內(nèi)部空間，該內(nèi)部空間用來插入臥臺頂板及載置在該臥臺頂板上的被檢體；高頻線圈，配置在內(nèi)部空間中，包括圓筒狀的基座部、以及配置在該基座部上的多個第I電氣元件及多個第2電氣元件；流路，沿上述基座部的周向形成在上述基座部與上述蓋之間，用來將上述電氣元件進行空冷；冷卻機構(gòu)，通過沿上述基座部的周向引起分別不同方向的兩種流，作為上述流路的冷卻用氣體流，來冷卻上述高頻線圈。本發(fā)明的第3技術(shù)方案的磁共振裝置具備靜磁場磁鐵，產(chǎn)生靜磁場；傾斜磁場線圈，產(chǎn)生用來與上述靜磁場疊加的傾斜磁場；蓋，在上述靜磁場磁鐵及上述傾斜磁場線圈的內(nèi)側(cè)形成內(nèi)部空間，該內(nèi)部空間用來插入臥臺頂板及載置在該臥臺頂板上的被檢體；高頻線圈，配置在內(nèi)部空間中，包括圓筒狀的基座部、以及沿其周向排列配置在該基座部上的多個電氣元件；流路，沿上述基座部的周向?qū)б鋮s用氣體；至少一個吐出口，將上述冷卻用氣體從上述流路朝向上述電氣元件吐出；冷卻機構(gòu)，通過引起通過上述流路從上述吐出口朝向上述電氣元件吐出那樣的上述冷卻用氣體流，將上述高頻線圈進行冷卻。本發(fā)明的其他目標(biāo)和優(yōu)點會通過以下描述進行說明，并且其一部分顯然可以由描述可知，或者可以通過實施本發(fā)明來理解。通過特別在以下指出的手段和組合能夠認(rèn)識并達到本發(fā)明的目標(biāo)和優(yōu)點。
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作為一起構(gòu)成說明書的一部分的附圖，用來說明本發(fā)明目前優(yōu)選的實施方式，并且與以上給出的發(fā)明內(nèi)容和以下給出的具體實施方式
一起用來解釋本發(fā)明的概念。


圖I是將有關(guān)本發(fā)明的一實施方式的磁共振裝置的機架的構(gòu)造部分剖開表示的圖。圖2是表示圖I中的身體線圈單元的一部分及臥臺軌道的一部分的構(gòu)造的立體圖。圖3是表示圖I中的身體線圈單元的一部分及臥臺軌道的一部分的構(gòu)造的立體圖。圖4是圖2及圖3中的下部部件的俯視圖。圖5是表示圖I中的臥臺軌道的上部部件的構(gòu)造的立體圖。圖6是表示從圖I的左方觀察圖I中的單點劃線A處的截面的狀況的圖。圖7是表示從圖I的左方觀察圖I中的單點劃線B處的截面的狀況的圖。圖8是表示從圖I的左方觀察圖I中的單點劃線C處的截面的狀況的圖。圖9是表示從圖I的左方觀察圖I中的單點劃線D處的截面的狀況的圖。圖10是表示使圖I中的鼓風(fēng)機動作的情況下的空氣的流動的圖。圖11是表示第I變形結(jié)構(gòu)例的圖。圖12是表示第2變形結(jié)構(gòu)例的圖。圖13是表示第3變形結(jié)構(gòu)例的圖。圖14是表示第3變形結(jié)構(gòu)例的圖。圖15是表示第3變形結(jié)構(gòu)例的圖。
具體實施例方式以下，參照附圖對本發(fā)明的一實施方式進行說明。圖I是將有關(guān)本實施方式的磁共振裝置100的機架的構(gòu)造部分剖開表示的圖。
在磁共振裝置100的機架上，設(shè)有靜磁場磁鐵I、傾斜磁場線圈單元2、鉆孔管(bore tube) 3、身體線圈(body coil)單元4、蓋5及臥臺軌道6。靜磁場磁鐵I呈中空的圓筒形，在內(nèi)部的空間中產(chǎn)生均勻的靜磁場。作為該靜磁場磁鐵1，使用例如永久磁鐵或超導(dǎo)磁鐵等。傾斜磁場線圈單元2呈中空的圓筒形。傾斜磁場線圈單元2在使其軸心與靜磁場磁鐵I的軸心大致一致的狀態(tài)下配置在靜磁場磁鐵I的內(nèi)側(cè)。傾斜磁場線圈單元2組合有對應(yīng)于相互正交的X、Y、Z的各軸的3種線圈。傾斜磁場線圈單元2的上述3種線圈從傾斜磁場電源獨立地接受電流供給，產(chǎn)生磁場強度沿著X、Y、Z的各軸傾斜的傾斜磁場。另外，Z軸方向例如設(shè)為與靜磁場方向相同方向。χ、υ、ζ各軸的傾斜磁場例如分別對應(yīng)于切片選擇用傾斜磁場Gs、相位編碼用傾斜磁場Ge及讀出用傾斜磁場Gr。切片選擇用傾斜磁場Gs為了任意地決定攝影截面而使用。相位編碼用傾斜磁場Ge為了根據(jù)空間位置編碼磁共振信號的相位而使用。讀出用傾斜磁場Gr為了根據(jù)空間位置將磁共振信號的頻率編碼而使用。作為傾斜磁場線圈單元2,可以使用所謂的主動屏蔽型傾斜磁場線圈(actively shieldedgradient coil :ASGC)?！ゃ@孔管3呈中空的圓筒形。鉆孔管在使其軸心與傾斜磁場線圈單元的軸心大致一致的狀態(tài)下配置在傾斜磁場線圈單元2的內(nèi)側(cè)。鉆孔管3在其內(nèi)部形成用來載置被檢體而進行攝影的攝影空間。身體線圈單元4呈中空的圓筒形，并且包括在兩端具有向外側(cè)伸出的凸緣的基座部41及分隔部件42、43?；?1配置在鉆孔管3的內(nèi)側(cè)，凸緣的前端安裝在鉆孔管3的內(nèi)側(cè)的表面。并且，在基座部41的外側(cè)的表面上安裝有全身(WB)線圈。WB線圈例如是鳥籠線圈。這樣，在基座部41與鉆孔管3之間形成呈圓形的帶狀的空間。并且，WB線圈配置在該空間的內(nèi)部。另外，在圖I中省略了 WB線圈的圖示。分隔部件42、43例如使用聚氨酯泡沫等形成，呈大致環(huán)狀。分隔部件42、43的內(nèi)徑與基座部41的外徑大致相等，并且寬度與基座部41的凸緣的伸出量大致相等。并且，分隔部件42、43配置在基座部41的外側(cè)。這樣，分隔部件42、43將基座部41與鉆孔管3之間的空間分隔為3個空間44a、44b、44c。其中，在分隔部件42、43上，在外側(cè)的一處形成有切口，形成使空間44a與空間44b之間以及空間44b與空間44c之間分別連通的開口 42a、43a。另外，在空間44a、44b、44c中，如后所述流動著空氣，空間44a、44b、44c分別作為管道發(fā)揮功能。蓋5將身體線圈單元4覆蓋，以使載置在攝影空間中的被檢體不會接觸身體線圈單元4。臥臺軌道6以貫通身體線圈單元4的內(nèi)側(cè)的狀態(tài)配置。臥臺軌道6將從圖I的右方送入的未圖示的臥臺頂板沿圖I的左右方向?qū)б?。在臥臺軌道6的內(nèi)部形成有后述的多個管道。這些管道連通到空間44a、44b、44c的任一個。此外,在臥臺軌道6的管道的一個上，經(jīng)由延長管道7連接著鼓風(fēng)機8。圖2及圖3是表示身體線圈單元4的一部分及臥臺軌道6的一部分的構(gòu)造的立體圖。圖2表不從圖I的左斜上方俯視的狀況，圖3表不從圖I的左斜下方仰視的狀況。在圖2及圖3中，身體線圈單元4中的基座部41的凸緣與分隔部件42、43省略了圖示。此外，僅圖示了臥臺軌道6中的下部部件61。圖4是下部部件61的俯視圖。在基座部41的外側(cè)的表面上,設(shè)有形成身體線圈的多個導(dǎo)電圖形45及多個電路元件46、47。另外，電路元件46例如是電容器。電路元件47例如是PIN型二極管。多個電路兀件46沿著基座部41的周向排列在基座部41的兩側(cè)端附近。多個電路兀件47沿著基座部41的周向排列在基座部的中央附近。在下部部件61上，沿著其長度方向形成有U字狀的I條槽61a及直線狀的4條槽61b、61c、61d、61e。這些槽61a 61e都朝向上方開放。此外，在下部部件61上,在槽61a的兩端附近及彎曲部、槽61b 61e的各自的兩端附近，在分別位于槽61a 61e的底面的狀態(tài)下，形成有開口 61f、61g、61h、61i、61j、61k、61m、61n、61o、61p、61q。此外，在基座部41上，在圖3所示的狀態(tài)下，分別在對置于開口 61h的位置上形成有開口 41a，在對置于開口 61 j的位置上形成有開口 41b，在對置于開口 61m的位置上形成有開口 41c，在對置于開口 61ο的位置上形成有開口 41d，并且在對置于開口 61q的位置上形成有開口 41e。另外，開口 41a位于電路元件47的排列位置附近，開口 41b、41e位于電路元件46的一個排列位置附近,開口 41c、41d位于電路元件46的另一個排列位置附近。
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圖5是表示臥臺軌道6的上部部件62的構(gòu)造的立體圖。上部部件62在其上側(cè)形成有沿著長度方向的凹部62a。通過該凹部62a沿上部部件62的長度方向?qū)бP臺頂板的移動。上部部件62形成其下側(cè)與下部部件61的上側(cè)嵌合的形狀。并且，通過將該上部部件62安裝在下部部件61的上部，構(gòu)成臥臺軌道6。臥臺軌道6將槽61a、61b、61c、61d、61e的各自的上方堵塞。由此，在臥臺軌道6的內(nèi)部形成圖6至圖9所示那樣的6條管道。另外，這6條管道從圖6的左側(cè)開始依次稱作第I至第6管道。圖6至圖9是表示從圖I的左方觀察圖I中的單點劃線A D的各自的截面的狀況的圖。如圖6所示，第I至第6管道分別經(jīng)由開口 61i、61k、61f、61g、61n、61p向機架的外部開放。在開口 61i、61k、61n、61p上分別安裝有過濾器9。在開口 61f、61g上，如圖I所示那樣安裝有延長管道7。如圖7所示，第2管道經(jīng)由開口 61m及開口 41c被連通到空間44a。此外，第5管道經(jīng)由開口 61ο及開口 41d被連通到空間44a。如圖8所示，第3及第4管道都經(jīng)由開口 61h及開口 41a被連通到空間44b。如圖9所示，第I管道經(jīng)由開口 61 j及開口 41b被連通到空間44c。此外，第6管道經(jīng)由開口 61q及開口 41e被連通到空間44c。這樣，形成以開口 61i_第I管道-開口 61j_開口 41b-空間44c-開口 43a的路徑、開口 61k-第2管道-開口 61c-開口 41c-空間44a_開口 42a的路徑、開口 61n_第5管道-開口 61ο-開口 41d-空間44a-開口 42a的路徑、或者開口 61p_第6管道-開口 61q_開口 41e-空間44c-開口 43a的路徑分別連接到空間44b的空氣通路。進而，形成從空間44b以開口 41a-開口 61h-第3管道或者第4管道的路徑分別與開口 61f或者開口 61g相連的空氣通路。因此，如圖10所示，如果通過鼓風(fēng)機8經(jīng)由延長管道7在第3及第4管道中產(chǎn)生負(fù)壓，則如圖6及圖10中箭頭所示，從開口 61i、61k、61n、61p吸入空氣，如圖7至圖9及圖10中箭頭所示，空氣通過上述路徑而流動。此時，在空間44a、44b、44c中流動的空氣吹到面向空間44a、44b、44c設(shè)在基座部41的外側(cè)的表面上的電路元件46、47上。由此將電路元件46、47空冷。電路元件46與電路元件47相比位于上述空氣通路的上游側(cè)。因此,吹到電路元件46上的空氣比吹到電路元件47上的空氣溫度低，冷卻效率是電路元件46比電路元件47高。一般，相對于溫度上升的余地(margin)，電容器比PIN型二極管小。并且，在本實施方式中，假設(shè)使用電容器作為電路元件46、使用PIN型二極管作為電路元件47。因而，能夠有效地將相對于溫度上升的余地更小的電容器冷卻。此外，由圖7至圖9可知，在空間44a、44b、44c的各自中，空氣以方向相互不同的兩個路徑流動。因此，與空氣以I個路徑向I個方向流動的情況相比，流入到各空間中時與從各空間流出時的溫度差較小，能夠?qū)⒏麟娐吩咝实乩鋮s。進而，空間61c與空間61d、以及空間61b與空間61e分別從臥臺軌道6導(dǎo)引臥臺頂板的方向觀察對稱地形成，所以能夠穩(wěn)定地形成上述那樣的兩個路徑中的空氣的流動。·以上，根據(jù)本實施方式，能夠?qū)⒂呻娐吩?6、47產(chǎn)生的熱比自然對流更有效地釋放到機架的外部，能夠?qū)B線圈單元4冷卻。結(jié)果，能夠減輕熱給被檢者帶來的不適感。此外，根據(jù)本實施方式，不需要為了 WB線圈4的發(fā)熱對策而增大WB線圈單元4與蓋5的間隙。因此，能夠較大地確保被檢者與蓋5的距離，能夠減輕蓋5給被檢者帶來的壓迫感。此外，根據(jù)本實施方式，使用由基座部41與鉆孔管3形成的空間作為空氣通路的一部分，并且在臥臺軌道6的內(nèi)部形成作為空氣通路的一部分的管道，所以不需要在機架內(nèi)重新確保用來配置管道的空間。此外，設(shè)在臥臺軌道6的內(nèi)部的管道與重新在機架內(nèi)確保用來配置管道的空間的基礎(chǔ)上配置管道的情況相比能夠?qū)⒔孛娣e能取較大。因此，能夠減小管道的壓力損失，能夠高效率地產(chǎn)生氣流。此外，根據(jù)本實施方式，由于電路兀件46、47的排列方向與氣流的方向一致,所以能夠可靠地使氣流吹到各電路元件46、47上，能夠高效率地冷卻。此外，根據(jù)本實施方式，臥臺軌道6為了內(nèi)裝管道而為中空構(gòu)造，并且用來分隔管道的壁部作為肋板發(fā)揮功能。具體而言，如圖6所示，上部部件62在分隔開口 61b與開口61c的壁部以及分隔開口 61d和開口 61e的壁部的上方分別形成水平面。如果載置這些水平面的臥臺頂板的輥，則能夠通過上述壁部支撐臥臺頂板的載荷。因此，臥臺軌道6在是輕量的同時為高剛性。進而，空間61a自身、空間61c和空間61d、以及空間61b和空間61e分別從臥臺軌道6導(dǎo)引臥臺頂板的方向觀察對稱地形成，所以分隔各空間的壁從臥臺軌道6的上述方向觀察對稱地配置。因此，能夠有效地提高臥臺軌道6的剛性。該實施方式能夠進行如下的各種變形實施。(I)圖11是表示變形結(jié)構(gòu)的一例的圖。另外，在圖11中，對于與圖I相同的部分賦予相同的標(biāo)號。在圖11中，代替分隔部件42、43而設(shè)有分隔部件48、49、50、51，并且設(shè)有分隔部件52、53。分隔部件48、49、50、51分別具有與分隔部件42、43同樣的形狀，與分隔部件42、43同樣，在基座部41的外側(cè)相互離開而配置。分隔部件52將分隔部件48的開口和分隔部件49的開口連結(jié)而形成I個空氣通路。分隔部件53將分隔部件50的開口和分隔部件51的開口連結(jié)而形成I個空氣通路。這樣，在圖11所示的結(jié)構(gòu)中，分隔部件48與分隔部件49之間的空間以及分隔部件50與分隔部件51之間的空間不為空氣通路，使作為空氣通路的空間44a、44b、44c的截面積縮小。由此，通過根據(jù)電路元件46、47的配置位置適當(dāng)?shù)卦O(shè)定空間44a、44b、44c的位置，使流過電路元件46、47的附近的空氣的量增加，能夠更有效地冷卻。(2)圖12是表示變形結(jié)構(gòu)的一例的圖。另外，在圖12中，對于與圖I相同的部分賦予相同的標(biāo)號。在圖12中，代替分隔部件42、43而設(shè)有分隔部件54、55。分隔部件54、55使用例如聚氨酯泡沫等形成，呈大致環(huán)狀。分隔部件54、55的內(nèi)徑與基座部41的外徑大致相等，并且寬度與基座部41的凸緣的伸出量大致相等。并且，分隔部件54、55在基座部41的外側(cè)相互分離而配置。這樣，分隔部件54、55將基座部41與鉆孔管3之間的空間分隔為3個空間44a、44b、44c。其中，在分隔部件54、55上形成有多個開口 54a、55a。另外，開口 54a、55a的數(shù)量是任意的。并且，雖然省略了圖示，但變更開口6111、61」、61111、610、619的位置，使第3及第4管道連通到空間44c，使其他管道連通到空間44a。
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這樣，流入到空間44a中的空氣從開口 54a向空間44b吹出，通過開口 55a被吸入到空間44c中。這樣，在電路元件46、47沿著基座部41的軸向排列的情況下，能夠形成沿著其排列方向的氣流。(3)圖13至圖15是表示變形結(jié)構(gòu)的一例的圖。另外，在圖13至圖15中，對于與圖I相同的部分賦予相同的標(biāo)號。在圖13中，代替分隔部件42、43而設(shè)有分隔部件56、57、58、59。分隔部件56、57、58,59使用例如聚氨酯泡沫形成，呈大致環(huán)狀。分隔部件56、57、58、59的內(nèi)徑與基座部41的外徑大致相等，并且寬度與基座部41的凸緣的伸出量大致相等。并且，分隔部件56、57、58、59相互離開而配置在基座部41的外側(cè)。這樣，分隔部件56、57、58、59將基座部41與鉆孔管3之間的空間分隔為5個空間44a、44b、44c、44d、44e。分隔部件56、57、58、59的位置設(shè)定為，使得如圖2所示那樣形成有兩個的電路元件46的列分別位于空間44c、44d中，并且如圖2所示那樣形成有I個的電路元件47的列位于空間44b中。并且，在分隔部件56、57、58、59 上，形成有多個開口 56a、57a、58a、59a。開口 56a、59a如圖14所示那樣形成，以使其分別對置于電路元件46。此外，開口57a、58a如圖15所示那樣形成，以使其分別對置于電路元件47。這樣，流入到空間44a中的空氣被從開口 56a向空間44c吹出，此時將電路元件46冷卻。此外，流入到空間44c中的空氣被從開口 59a向空間44d吹出，此時將電路元件46冷卻。流入到空間44c中的空氣被從開口 57a、并且流入到空間44d中的空氣被從開口 58a分別向空間44b吹出，此時將電路元件47冷卻。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在通過開口 56a、57a、58a、59a時流速增加了的空氣被向電路元件46、47噴吹，所以能夠?qū)㈦娐吩?6、47有效地冷卻。(4)臥臺軌道6內(nèi)的管道的數(shù)量及形狀可以任意地變更。例如槽61a可以代替為直線狀的槽。(5)也可以使用配置在臥臺軌道6或基座部41與鉆孔管3之間的空間之外的管道將空氣導(dǎo)引到電路元件46、47。(6)也可以通過鼓風(fēng)機8將空氣送入。(7)也可以通過鼓風(fēng)機8使空氣以外的氣體循環(huán)。
(8)鼓風(fēng)機8也可以不作為磁共振裝置的構(gòu)成要件裝備，而適當(dāng)?shù)剡B接使用通用的鼓風(fēng)機。(9)作為冷卻對象的高頻線圈也可以是WB線圈以外的線圈。(10)保持WB線圈的導(dǎo)電圖形45或電路元件46、47的部件(所謂的線軸)、與將該線軸支撐在鉆孔管3上的支撐部件也可以是分體的。并且，在這樣的構(gòu)造的情況下，為了在線軸與鉆孔管3的間隙中形成作為空氣通路的空間，也可以配置與支撐部件不同的部件。本發(fā)明的其他優(yōu)點和變更對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言是顯而易見的。因此，本發(fā)明并不限于這里表示和描述的具體細節(jié)和優(yōu)選的實施方式。因此，在不脫離由權(quán)利要求書定義的發(fā)明主旨或技術(shù)范圍的情況下可以進行各種變更?！?br> 權(quán)利要求
1.一種磁共振裝置，其特征在于，具備 靜磁場磁鐵，產(chǎn)生靜磁場； 傾斜磁場線圈，產(chǎn)生用來與上述靜磁場疊加的傾斜磁場； 蓋，在上述靜磁場磁鐵及上述傾斜磁場線圈的內(nèi)側(cè)形成內(nèi)部空間，該內(nèi)部空間用來插入臥臺頂板及載置在該臥臺頂板上的被檢體； 高頻線圈，配置在上述內(nèi)部空間中，包括圓筒狀的基座部、以及配置在該基座部上的多個第I電氣元件及多個第2電氣元件； 第I流路，形成在上述基座部與上述蓋之間，用來將上述第I電氣元件進行空冷； 第2流路，連通到上述第I流路并形成在上述基座部與上述蓋之間，用來將上述第2電氣元件進行空冷；以及 冷卻機構(gòu)，通過引起從上述第I流路朝向上述第2流路的冷卻用氣體流，將上述高頻線圈進行冷卻。
2.如權(quán)利要求I所述的磁共振裝置，其特征在于， 還具備導(dǎo)引上述臥臺頂板的導(dǎo)引部件，該臥臺頂板為了將上述被檢體插入到上述內(nèi)部空間中而被移動； 上述第I及第2流路分別延伸到上述導(dǎo)引部件的內(nèi)部。
3.如權(quán)利要求I所述的磁共振裝置，其特征在于，上述第I元件與上述第2元件相比，溫度上升相關(guān)的余地較小。
4.如權(quán)利要求I所述的磁共振裝置，其特征在于，上述第I及第2元件是電容器及PIN型二極管。
5.如權(quán)利要求I所述的磁共振裝置，其特征在于， 上述第I流路沿上述基座部的周向形成在上述基座部與上述蓋之間； 上述冷卻機構(gòu)沿上述基座部的周向引起分別不同方向的兩種流，作為上述流路中的冷卻用氣體流。
6.如權(quán)利要求I所述的磁共振裝置，其特征在于， 上述第2流路沿上述基座部的周向形成在上述基座部與上述蓋之間； 上述冷卻機構(gòu)沿上述基座部的周向引起分別不同方向的兩種流，作為上述流路中的冷卻用氣體流。
全文摘要
本發(fā)明的磁共振裝置具備靜磁場磁鐵，產(chǎn)生靜磁場；傾斜磁場線圈，產(chǎn)生用來與上述靜磁場疊加的傾斜磁場；蓋，在上述靜磁場磁鐵及上述傾斜磁場線圈的內(nèi)側(cè)形成用來插入臥臺頂板及載置在該臥臺頂板上的被檢體的內(nèi)部空間；高頻線圈，包括圓筒狀的基座部、以及配置在該基座部上的多個第1電氣元件及多個第2電氣元件，配置在上述內(nèi)部空間中；第1流路，形成在上述基座部與上述蓋之間，用來將上述第1電氣元件空冷；第2流路，連通到上述第1流路而形成在上述基座部與上述蓋之間，用來將上述第2電氣元件空冷；冷卻機構(gòu)，通過引起從上述第1流路朝向上述第2流路的冷卻用氣體流，將上述高頻線圈冷卻。
文檔編號G01R33/34GK102788960SQ20121025842
公開日2012年11月21日 申請日期2008年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月22日
發(fā)明者勝沼步, 辻田和彥, 高森博光 申請人:東芝醫(yī)療系統(tǒng)株式會社, 株式會社東芝