表面下沉量量測方法及其量測設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種表面下沉量量測方法及其量測設(shè)備。表面下沉量量測設(shè)備，用以量測一裝置的一機(jī)殼表面的下沉量，包括一支撐架、一光源、一接收器以及一控制單元。支撐架支撐該裝置。光源提供一光線，其中，該光源位于一基準(zhǔn)平面，該光線沿水平方向行進(jìn)。接收器接收該光線，其中，該接收器位于該基準(zhǔn)平面，當(dāng)該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量超過容許值時(shí)，該機(jī)殼表面與該基準(zhǔn)平面發(fā)生干涉而阻礙該接收器接收該光線?？刂茊卧罱釉摻邮掌?，該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果，而判斷該裝置的該機(jī)殼表面是否存在下沉量超過容許值的情況。本發(fā)明能夠快速檢測表面的下沉量。
【專利說明】表面下沉量量測方法及其量測設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明有關(guān)于一種表面下沉量量測方法及其量測設(shè)備，特別有關(guān)于一種應(yīng)用于快速檢測的表面下沉量量測方法及其量測設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有技術(shù)中，為了取得裝置(例如，伺服器主機(jī))的機(jī)殼表面下沉量的數(shù)據(jù)，一般以厚薄規(guī)搭配目測的方式進(jìn)行量測，或者，以單點(diǎn)式數(shù)字電子量表進(jìn)行量測。
[0003]以厚薄規(guī)搭配目測的方式進(jìn)行量測，其準(zhǔn)確性以及量測效率極差，無法有效量化及規(guī)范量測方法及準(zhǔn)則，且測量結(jié)果無法數(shù)字化。
[0004]使用單點(diǎn)式數(shù)字電子量表測量下沉量，其優(yōu)點(diǎn)為可以數(shù)字化測量結(jié)果，但是礙于此方法為單點(diǎn)式測量，若要將整體機(jī)殼下表面的下沉量測量完畢，所需時(shí)間相對較長。另夕卜，單點(diǎn)式數(shù)字電子量表為接觸式量測儀器，故量表的接觸探頭有磨損的使用壽命問題。并且可能刮傷待測物表面。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是提供一種表面下沉量量測方法及其量測設(shè)備，以解決現(xiàn)有技術(shù)存在的問題。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出一種表面下沉量量測設(shè)備，用以量測一裝置的一機(jī)殼表面的下沉量，包括一支撐架、一光源、一接收器以及一控制單元。支撐架支撐該裝置。光源提供一光線，其中，該光源位于一基準(zhǔn)平面，該光線沿水平方向行進(jìn)。接收器接收該光線，其中，該接收器位于該基準(zhǔn)平面，當(dāng)該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量超過容許值時(shí)，該機(jī)殼表面與該基準(zhǔn)平面發(fā)生干涉而阻礙該接收器接收該光線?？刂茊卧罱釉摻邮掌?，該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果，而判斷該裝置的該機(jī)殼表面是否存在下沉量超過容許值的情況。
[0007]本發(fā)明還提出一種表面下沉量量測方法，用以量測一裝置的一機(jī)殼表面的下沉量，包括:
[0008]提供一表面下沉量量測設(shè)備，該表面下沉量量測設(shè)備包括一支撐架、一光源、一接收器以及一控制單元，該支撐架支撐該裝置，該光源提供一光線，其中，該光源位于一基準(zhǔn)平面，該光線沿水平方向行進(jìn)，該接收器接收該光線，其中，當(dāng)該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量超過容許值時(shí)，該機(jī)殼表面與該基準(zhǔn)平面發(fā)生干涉而阻礙該接收器接收該光線，該控制單元耦接該接收器，該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果，而判斷該裝置的該機(jī)殼表面是否存在下沉量超過容許值的情況；以及
[0009]將該光源設(shè)于一第一導(dǎo)軌，將該接收器設(shè)于一第二導(dǎo)軌，該光源沿該第一導(dǎo)軌于該基準(zhǔn)平面上移動(dòng)，該接收器于該第二導(dǎo)軌上以對應(yīng)該光源的方式移動(dòng)，該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果，而判斷該裝置的該機(jī)殼表面的何處存在下沉量超過容許值的情況。[0010]應(yīng)用本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測設(shè)備及所搭配的表面下沉量量測方法，相較于單點(diǎn)式數(shù)字電子量表的量測方式，本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測方法可快速的檢知機(jī)殼表面下沉量，并且設(shè)備的損壞率極低。相較于以厚薄規(guī)搭配目測的量測方式，本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測方法可具體量化檢測結(jié)果，并可建立穩(wěn)定的檢測步驟以及準(zhǔn)則。因此，相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測方法提供了快速的檢測速度以及精確且穩(wěn)定的量測結(jié)果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1顯示以本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測設(shè)備，量測一裝置的機(jī)殼表面下沉量，其中，該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量超過容許值；
[0012]圖2顯示以本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測設(shè)備，量測一裝置的機(jī)殼表面下沉量，其中，該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量未超過容許值；
[0013]圖3顯示以本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測設(shè)備的立體圖。
[0014]其中，附圖標(biāo)記說明如下:
[0015]I?表面下沉量量測設(shè)備
[0016]11?支撐架
[0017]111?支撐部
[0018]12?光源
[0019]121?光線
[0020]13?接收器
[0021]14?第一導(dǎo)軌
[0022]15?第二導(dǎo)軌
[0023]2?裝置
[0024]21?機(jī)殼表面
[0025]22?凸耳
【具體實(shí)施方式】
[0026]參照圖1、圖2以及圖3，其顯示本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測設(shè)備1，其用以量測一裝置2的一機(jī)殼表面21 (下表面)的下沉量。表面下沉量量測設(shè)備I包括一支撐架11、一光源12、一接收器13以及一控制單元(未圖示)。支撐架11支撐該裝置2。光源12提供一光線121，其中，該光源12位于一基準(zhǔn)平面B，該光線121沿水平方向行進(jìn)。接收器13接收該光線121，其中，該接收器13同樣位于該基準(zhǔn)平面B。參照圖1，當(dāng)該裝置2的該機(jī)殼表面21的下沉量超過容許值時(shí)，該機(jī)殼表面21與該基準(zhǔn)平面B發(fā)生干涉而阻礙該接收器13接收該光線121。參照圖2，當(dāng)該裝置2的該機(jī)殼表面21的下沉量未超過容許值時(shí)，該機(jī)殼表面21則不會(huì)與該基準(zhǔn)平面B發(fā)生干涉，因而該接收器13接收到該光線121?？刂茊卧罱釉摻邮掌?3，該控制單元依據(jù)該接收器13是否接收到該光線121的結(jié)果，而判斷該裝置2的該機(jī)殼表面21是否存在下沉量超過容許值的情況。如，在圖1中，由于該接收器13未接收到光線121，因此可判斷該機(jī)殼表面21存在下沉量超過容許值的情況；在圖2中，由于該接收器13接收到光線121，因此可判斷該機(jī)殼表面21在此檢測位置未存在下沉量超過容許值的情況。
[0027]搭配參照圖3，在此實(shí)施例中，表面下沉量量測設(shè)備I更包括一第一導(dǎo)軌14以及一第二導(dǎo)軌15,該第一導(dǎo)軌14平行于該第二導(dǎo)軌15,該光源12設(shè)于該第一導(dǎo)軌14,該接收器13設(shè)于該第二導(dǎo)軌15。該光源12沿該第一導(dǎo)軌14于該基準(zhǔn)平面B上移動(dòng)，該接收器13于該第二導(dǎo)軌15上以對應(yīng)該光源12的方式移動(dòng)。借此，可以提供單一維度的檢測，該控制單元依據(jù)該接收器13是否接收到該光線121的結(jié)果，而判斷該裝置2的該機(jī)殼表面21在單一維度上的何處存在下沉量超過容許值的情況。
[0028]在此實(shí)施例中，該光源12為紅外線光源，其亦可以為其他型式的直線光源，例如激光。在一實(shí)施例中，該光源12于該第一導(dǎo)軌14上是由步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，該接收器13于該第二導(dǎo)軌15上是由步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，控制單元耦接步進(jìn)馬達(dá)。由于步進(jìn)馬達(dá)具備行程編碼與回饋功能，因此控制單元可精確控制該光源12及該接收器13的位置，并依此判斷該裝置2的該機(jī)殼表面21在單一維度上的何處存在下沉量超過容許值的情況。
[0029]該裝置2包括兩個(gè)凸耳22，分別形成于該裝置2的相反的兩側(cè)。該支撐架11包括兩個(gè)支撐部111，該等支撐部111分別支撐該等凸耳22。在此實(shí)施例中，該等支撐部111為L型結(jié)構(gòu)。應(yīng)用凸耳的設(shè)計(jì)，可以避免支撐部與光源發(fā)生干涉，以確保檢測順利進(jìn)行。
[0030]在一實(shí)施例中，在經(jīng)過一維檢測，取得該裝置2的該機(jī)殼表面21在單一維度上的下沉量數(shù)據(jù)之后，可將裝置水平旋轉(zhuǎn)90度，再次由該光源12以及該接收器13對該機(jī)殼表面21進(jìn)行另一維度的檢測，以取得該機(jī)殼表面21整體平面(二維)的機(jī)殼表面下沉量數(shù)據(jù)。
[0031]在取得上述下沉量數(shù)據(jù)之后，使用者可更依據(jù)裝置2內(nèi)的電子元件配置情況，判斷是何電子元件造成下沉量超過容許值的問題。例如，若下沉量超過容許值的位置為電源供應(yīng)器的設(shè)置位置，可據(jù)此判斷電源供應(yīng)器的重量過重，需要考慮更換電源供應(yīng)器，或重新調(diào)整電源供應(yīng)器的擺放位置。
[0032]應(yīng)用本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測設(shè)備及所搭配的表面下沉量量測方法，相較于單點(diǎn)式數(shù)字電子量表的量測方式，本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測方法可快速的檢知機(jī)殼表面下沉量，并且設(shè)備的損壞率極低。相較于以厚薄規(guī)搭配目測的量測方式，本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測方法可具體量化檢測結(jié)果，并可建立穩(wěn)定的檢測步驟以及準(zhǔn)則。因此，相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測方法提供了快速的檢測速度以及精確且穩(wěn)定的量測結(jié)果。
[0033]本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測設(shè)備及所搭配的表面下沉量量測方法，可用于檢測電腦主機(jī)或伺服器主機(jī)等電子設(shè)備。在上述的電子設(shè)備檢測中，機(jī)殼表面下沉的情況并不是十分復(fù)雜，因此可通過本發(fā)明實(shí)施例的表面下沉量量測設(shè)備及所搭配的表面下沉量量測方法，快速檢查下沉量是否存在超過容許值的情況。
[0034]雖然本發(fā)明已以具體的較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，仍可作些許的更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視所附的權(quán)利要求范圍所界定者為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種表面下沉量量測設(shè)備，用以量測一裝置的一機(jī)殼表面的下沉量，其特征在于，包括: 一支撐架，支撐該裝置； 一光源，提供一光線，其中，該光源位于一基準(zhǔn)平面，該光線沿水平方向行進(jìn)； 一接收器，接收該光線，其中，該接收器位于該基準(zhǔn)平面，當(dāng)該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量超過容許值時(shí)，該機(jī)殼表面與該基準(zhǔn)平面發(fā)生干涉而阻礙該接收器接收該光線；以及一控制單元，耦接該接收器，該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果，而判斷該裝置的該機(jī)殼表面是否存在下沉量超過容許值的情況。
2.如權(quán)利要求1所述的表面下沉量量測設(shè)備，其還包括一第一導(dǎo)軌以及一第二導(dǎo)軌，該第一導(dǎo)軌平行于該第二導(dǎo)軌，該光源設(shè)于該第一導(dǎo)軌，該接收器設(shè)于該第二導(dǎo)軌，該光源沿該第一導(dǎo)軌于該基準(zhǔn)平面上移動(dòng)，該接收器于該第二導(dǎo)軌上以對應(yīng)該光源的方式移動(dòng)，該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果，而判斷該裝置的該機(jī)殼表面的何處存在下沉量超過容許值的情況。
3.如權(quán)利要求2所述的表面下沉量量測設(shè)備，其中，該光源為紅外線光源。
4.如權(quán)利要求2所述的表面下沉量量測設(shè)備，其中，該光源于該第一導(dǎo)軌上是由步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，該接收器于該第二導(dǎo)軌上是由該步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的表面下沉量量測設(shè)備，其中，該裝置包括兩個(gè)凸耳，分別形成于該裝置的相反的兩側(cè)，該支撐架包括兩個(gè)支撐部，所述兩個(gè)支撐部分別支撐所述兩個(gè)凸耳。
6.如權(quán)利要求5所述的表面下沉量量測設(shè)備，其中，所述兩個(gè)支撐部為L型結(jié)構(gòu)。
7.一種表面下沉量量測方法，用以量測一裝置的一機(jī)殼表面的下沉量，其特征在于，包括: 提供一表面下沉量量測設(shè)備，該表面下沉量量測設(shè)備包括一支撐架、一光源、一接收器以及一控制單元，該支撐架支撐該裝置，該光源提供一光線，其中，該光源位于一基準(zhǔn)平面，該光線沿水平方向行進(jìn)，該接收器接收該光線，其中，當(dāng)該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量超過容許值時(shí)，該機(jī)殼表面與該基準(zhǔn)平面發(fā)生干涉而阻礙該接收器接收該光線，該控制單元耦接該接收器，該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果，而判斷該裝置的該機(jī)殼表面是否存在下沉量超過容許值的情況；以及 將該光源設(shè)于一第一導(dǎo)軌，將該接收器設(shè)于一第二導(dǎo)軌，該光源沿該第一導(dǎo)軌于該基準(zhǔn)平面上移動(dòng)，該接收器于該第二導(dǎo)軌上以對應(yīng)該光源的方式移動(dòng)，該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果，而判斷該裝置的該機(jī)殼表面的何處存在下沉量超過容許值的情況。
8.如權(quán)利要求7所述的表面下沉量量測方法，其還包括依據(jù)裝置的電子元件配置情況，判斷是何電子元件造成下沉量超過容許值的問題。
9.如權(quán)利要求8所述的表面下沉量量測方法，其還包括將裝置水平旋轉(zhuǎn)90度，再次由該光源以及該接收器對該機(jī)殼表面進(jìn)行檢測，以取得該機(jī)殼表面整體平面的機(jī)殼表面下沉量數(shù)據(jù)。
10.如權(quán)利要求7所述的表面下沉量量測方法，其中，該裝置包括兩個(gè)凸耳，分別形成于該裝置的相反的兩側(cè)，該支撐架包括兩個(gè)支撐部，所述兩個(gè)支撐部分別支撐所述兩個(gè)凸耳，所述兩個(gè)支撐部為L型結(jié)構(gòu)。
【文檔編號(hào)】G01B11/02GK103913120SQ201310015835
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2013年1月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年1月7日
【發(fā)明者】陳冠文, 陳大衛(wèi) 申請人:緯創(chuàng)資通股份有限公司