1.一種基于圖像處理技術(shù)的被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)測(cè)距方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1,按照被動(dòng)測(cè)距模型,將兩臺(tái)參數(shù)設(shè)置一致的被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)相對(duì)于目標(biāo)場(chǎng)景前后放置于一條直線上,通過(guò)兩臺(tái)被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)對(duì)同一個(gè)目標(biāo)場(chǎng)景成像,得到相應(yīng)的測(cè)量成像數(shù)據(jù);
步驟2,通過(guò)surf匹配算法分別提取出兩組測(cè)量成像數(shù)據(jù)中目標(biāo)場(chǎng)景匹配度最高的三個(gè)特征點(diǎn);
步驟3,分別計(jì)算特征點(diǎn)連通域的面積,通過(guò)被動(dòng)測(cè)距模型計(jì)算得到目標(biāo)距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理技術(shù)的被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)測(cè)距方法,其特征在于,步驟1具體為:
設(shè)f為被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)的焦距,d1為前后兩臺(tái)成像系統(tǒng)的間隔距離,d為目標(biāo)與第一成像系統(tǒng)之間的距離,則目標(biāo)與第二成像系統(tǒng)之間的距離為d+d1;假定目標(biāo)的面積為P,在第一成像系統(tǒng)成像的圖像中為區(qū)域P1,在第二成像系統(tǒng)成像的圖像中為區(qū)域P2,根據(jù)小孔成像的基本模型有:
聯(lián)合上述兩式可得被動(dòng)測(cè)距模型為:
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理技術(shù)的被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)測(cè)距方法,其特征在于,步驟2具體為:
步驟2-1,對(duì)兩臺(tái)被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)成像數(shù)據(jù)進(jìn)行頻域低通濾波處理,采用頻域低通濾波處理后得到的圖像數(shù)據(jù)的矩陣Hessian行列式的值描述圖像數(shù)據(jù)中的特征點(diǎn);
步驟2-2,在尺度空間中通過(guò)非極大值抑制,找出圖像中特征值大于設(shè)定閾值且大于臨近點(diǎn)特征值的特征點(diǎn);
步驟2-3,對(duì)步驟2-2得到的特征點(diǎn)進(jìn)行描述并匹配,得到匹配度最高的三個(gè)特征點(diǎn)的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像處理技術(shù)的被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)測(cè)距方法,其特征在于,步驟3具體為:
步驟3-1,根據(jù)步驟2中得到的匹配點(diǎn),分別計(jì)算三個(gè)匹配點(diǎn)在各自圖像中連通域的面積;
步驟3-2,將連通域面積代入被動(dòng)測(cè)距模型,解算出目標(biāo)距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于圖像處理技術(shù)的被動(dòng)毫米波輻射成像系統(tǒng)測(cè)距方法,其特征在于,步驟3-1中求解連通域面積的具體方法為:
由步驟2得到圖像數(shù)據(jù)中匹配度最高的三個(gè)點(diǎn)的坐標(biāo),按照下式分別計(jì)算匹配點(diǎn)連通域的面積P1,P2:
其中a,b,c為三個(gè)匹配點(diǎn)兩兩之間的長(zhǎng)度,L=(a+b+c)/2。