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      基于MCS技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列的制作方法

      文檔序號:39614624發(fā)布日期:2024-10-11 13:24閱讀:17來源:國知局
      基于MCS技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列的制作方法

      本申請涉及傳感器,具體而言,涉及基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列。


      背景技術(shù):

      1、隨著時代的發(fā)展,壓力傳感器已經(jīng)被應(yīng)用于人們工作和生活的方方面面,人們對壓力的監(jiān)測要求越來越高,不再局限于對規(guī)整剛性表面的壓力監(jiān)測,形式也多種多樣,普通的剛性傳感器已無法達(dá)到人們的實際需求。柔性傳感器是一種利用柔性材料制備的具有超強環(huán)境適應(yīng)性的電子器件,可應(yīng)用于人體健康監(jiān)測、人體運動監(jiān)測、人機交互以及軟機器人技術(shù)等各個領(lǐng)域。近年來多種柔性力學(xué)量傳感器被研制出來,常見的有電容型、壓電型等等,其中,電容型壓力傳感器,當(dāng)受到壓力后,電極間的間距發(fā)生變化,從而檢測壓力;壓電型壓力傳感器采用壓電材料制備力敏結(jié)構(gòu)層,與柔性基底和柔性上層緊密貼合制成。

      2、其中,電容型壓力傳感器的穩(wěn)定性差,且成品的差異大;壓電型壓力傳感器,只能檢測動態(tài)壓力而不能檢測靜態(tài)壓力。


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、本申請的目的在于提供基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,能夠提供一種穩(wěn)定性較高的檢測動態(tài)壓力的柔性壓力傳感器。

      2、本申請的實施例方面提供了一種基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,包括金屬薄膜層以及設(shè)置于金屬薄膜層上的粘合層,粘合層上間隔設(shè)置多個惠斯通電橋,每個惠斯通電橋的外周設(shè)置支撐環(huán),支撐環(huán)的一端與粘合層連接,其中,金屬薄膜層用于感知壓力,惠斯通電橋用于將壓力變化量轉(zhuǎn)化為電阻變化量。

      3、作為一種可實施的方式,金屬薄膜層的厚度在5-800μm之間,惠斯通電橋由設(shè)置于粘合層上的敏感金屬層刻蝕形成,敏感金屬層的厚度在2-20μm。

      4、作為一種可實施的方式,在每個惠斯通電橋遠(yuǎn)離粘合層的一側(cè)分別鋪設(shè)保護(hù)層。

      5、作為一種可實施的方式,金屬薄膜層為不銹鋼薄膜,惠斯通電橋由設(shè)置于粘合層上的敏感金屬層刻蝕形成,敏感金屬層的材料為康銅。

      6、作為一種可實施的方式,粘合層為融合材料在預(yù)設(shè)環(huán)境中融化后固化形成。

      7、作為一種可實施的方式,敏感金屬層為包括多層,多層敏感金屬層依次放置于融合材料上。

      8、作為一種可實施的方式,融合材料為液態(tài)或者固態(tài)。

      9、作為一種可實施的方式,金屬薄膜層和敏感金屬層相互靠近的側(cè)面的粗糙度在0.8-6.3μm范圍內(nèi)。

      10、作為一種可實施的方式,多個惠斯通電橋呈行列式排布。

      11、本申請實施例的有益效果包括:

      12、本申請?zhí)峁┑幕趍cs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,包括金屬薄膜層以及設(shè)置于金屬薄膜層上的粘合層,粘合層上間隔設(shè)置多個惠斯通電橋,每個惠斯通電橋的外周設(shè)置支撐環(huán),支撐環(huán)的一端與粘合層連接,其中,金屬薄膜層用于感知壓力,惠斯通電橋用于將壓力變化量轉(zhuǎn)化為電阻變化量,使得本申請實施例的柔性壓力傳感器組件為應(yīng)變式壓力傳感器,既可以測量動態(tài)壓力,也可以測量靜態(tài)壓力;在每個惠斯通電橋的外周設(shè)置支撐環(huán)形成柔性壓力傳感器組件,支撐環(huán)的一端與柔性復(fù)合體的表面接觸,避免了金屬薄膜層和惠斯通電橋彎折過大造成損壞,且由于金屬薄膜層和惠斯通電橋的檢測原理,使得柔性壓力傳感器組件具有較高的穩(wěn)定性。本申請的柔性壓力傳感器組件制備的柔性壓力傳感器組件,為應(yīng)變式壓力傳感器,具有較高的穩(wěn)定性,且能夠檢測動態(tài)壓力。



      技術(shù)特征:

      1.基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,包括金屬薄膜層以及設(shè)置于所述金屬薄膜層上的粘合層,所述粘合層上間隔設(shè)置多個惠斯通電橋,每個所述惠斯通電橋的外周設(shè)置支撐環(huán),所述支撐環(huán)的一端與所述粘合層連接,其中,所述金屬薄膜層用于感知壓力,所述惠斯通電橋用于將壓力變化量轉(zhuǎn)化為電阻變化量。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,所述金屬薄膜層的厚度在5-800μm之間,所述惠斯通電橋由設(shè)置于所述粘合層上的敏感金屬層刻蝕形成,所述敏感金屬層的厚度在2-20μm。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,在每個所述惠斯通電橋遠(yuǎn)離所述粘合層的一側(cè)分別鋪設(shè)保護(hù)層。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,所述金屬薄膜層為不銹鋼薄膜,所述惠斯通電橋由設(shè)置于所述粘合層上的敏感金屬層刻蝕形成,所述敏感金屬層的材料為康銅。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,所述粘合層為融合材料在預(yù)設(shè)環(huán)境中融化后固化形成。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,所述敏感金屬層為包括多層,多層所述敏感金屬層依次放置于所述融合材料上。

      7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,所述融合材料為液態(tài)或者固態(tài)。

      8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,所述金屬薄膜層和所述敏感金屬層相互靠近的側(cè)面的粗糙度在0.8-6.3μm范圍內(nèi)。

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于mcs技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,其特征在于,多個所述惠斯通電橋呈行列式排布。


      技術(shù)總結(jié)
      本申請公開了一種基于MCS技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,涉及傳感器技術(shù)領(lǐng)域。本申請的基于MCS技術(shù)的柔性壓力傳感器陣,包括金屬薄膜層以及設(shè)置于金屬薄膜層上的粘合層,粘合層上間隔設(shè)置多個惠斯通電橋,每個惠斯通電橋的外周設(shè)置支撐環(huán),支撐環(huán)的一端與粘合層連接,其中,金屬薄膜層用于感知壓力,惠斯通電橋用于將壓力變化量轉(zhuǎn)化為電阻變化量。本申請?zhí)峁┑幕贛CS技術(shù)的柔性壓力傳感器陣列,能夠可靠測量平面或曲面的壓力分布,滿足不同使用環(huán)境下的需求。

      技術(shù)研發(fā)人員:谷榮祥,石陽,郭和平
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:西安中星測控有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:20240304
      技術(shù)公布日:2024/10/10
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