染毒實(shí)驗(yàn)裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種用于放射性氣體的染毒實(shí)驗(yàn)裝置,包括架體、設(shè)置在架體內(nèi)的控制裝置及設(shè)置在架體內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置,轉(zhuǎn)動(dòng)裝置由控制裝置控制,架體包括設(shè)置控制裝置的控制間和設(shè)置轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的實(shí)驗(yàn)間,轉(zhuǎn)動(dòng)裝置包括設(shè)置固定在實(shí)驗(yàn)間內(nèi)的轉(zhuǎn)軸和固定在轉(zhuǎn)軸上的轉(zhuǎn)盤,實(shí)驗(yàn)間包括第一門體和設(shè)置在第一門體上的第二門體,第二門體的一側(cè)樞接在第一門體上,且第二門體可相對第一門體轉(zhuǎn)動(dòng),第一門體向外突伸有框架部,第二門體固定在框架部上,轉(zhuǎn)盤垂直第一門體,且轉(zhuǎn)盤突伸出第一門體,第一門體和框架部圍設(shè)形成容置轉(zhuǎn)盤且突伸出第一門體部分的容置空間,第二門體可打開或者關(guān)閉容置空間,該染毒實(shí)驗(yàn)裝置當(dāng)需要取物時(shí),在增加了轉(zhuǎn)盤的暴露面積的同時(shí),在取放被測試物時(shí),可以減少對其他被測試物的干擾。
【專利說明】
染毒實(shí)驗(yàn)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種用于放射性氣體的染毒實(shí)驗(yàn)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]染毒實(shí)驗(yàn)裝置通常用在實(shí)驗(yàn)室中,用以對動(dòng)物進(jìn)行毒性氣體實(shí)驗(yàn),以往的染毒實(shí)驗(yàn)裝置在染毒時(shí)釋放的氣體具有一定的流速,這種流速會(huì)對細(xì)胞造成額外的損傷;并且氣體濃度難以控制恒定,造成實(shí)驗(yàn)誤差,另外,現(xiàn)有的染毒實(shí)驗(yàn)裝置在取放培養(yǎng)箱中染毒樣品時(shí),容易造成樣品污染物的干擾。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種減少對染毒樣品的干擾的染毒實(shí)驗(yàn)裝置。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案如下:一種染毒實(shí)驗(yàn)裝置,包括架體、設(shè)置在所述架體內(nèi)的控制裝置及設(shè)置在所述架體內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置,所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置由控制裝置控制,所述架體包括設(shè)置控制裝置的控制間和設(shè)置轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的實(shí)驗(yàn)間,所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置包括設(shè)置固定在所述實(shí)驗(yàn)間內(nèi)的轉(zhuǎn)軸和固定在轉(zhuǎn)軸上以放置被測試物的轉(zhuǎn)盤,所述實(shí)驗(yàn)間包括第一門體和設(shè)置在所述第一門體上的第二門體,所述第二門體的一側(cè)樞接在第一門體上,且所述第二門體可相對第一門體轉(zhuǎn)動(dòng),所述第一門體向外突伸有框架部,所述第二門體固定在所述框架部上,所述轉(zhuǎn)盤垂直所述第一門體,且所述轉(zhuǎn)盤突伸出所述第一門體,所述第一門體和框架部圍設(shè)形成容置所述轉(zhuǎn)盤且突伸出第一門體部分的容置空間,所述第二門體可打開或者關(guān)閉所述容置空間。
[0005]進(jìn)一步的,所述轉(zhuǎn)盤具有圓盤部和若干自所述圓盤部向外延伸形成以放置被測試物的延伸板。
[0006]進(jìn)一步的,所述延伸板為四個(gè),且均勻分布在所述圓盤部的四周。
[0007]進(jìn)一步的,所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置還包括固定在所述控制間內(nèi)的固定桿,所述轉(zhuǎn)盤為相對設(shè)置在所述固定桿兩側(cè)的兩個(gè)。
[0008]進(jìn)一步的,所述第二門體對應(yīng)轉(zhuǎn)盤設(shè)置兩個(gè)。
[0009]進(jìn)一步的,所述染毒實(shí)驗(yàn)裝置還包括驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī),所述電機(jī)由控制裝置驅(qū)動(dòng)。
[0010]進(jìn)一步的,所述架體上設(shè)置有進(jìn)氣口,所述進(jìn)氣口上設(shè)置有濾網(wǎng)。
[0011]借由上述方案,本實(shí)用新型至少具有以下優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型的染毒實(shí)驗(yàn)裝置通過設(shè)置轉(zhuǎn)盤,在實(shí)驗(yàn)間上設(shè)置第一門體和設(shè)置在第一門體上的第二門體,且該第一門體向外突伸有框架部,第二門體固定在所述框架部上,轉(zhuǎn)盤又突伸出第一門體,第一門體和框架部圍設(shè)形成容置所述轉(zhuǎn)盤且突伸出第一門體部分的容置空間,從而當(dāng)需要取物時(shí),在增加了轉(zhuǎn)盤的暴露面積的同時(shí),在取放被測試物時(shí),可以減少對其他被測試物的干擾。
[0012]上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段,并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施,以下以本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。
【附圖說明】
[0013]圖1是本實(shí)用新型氣體染毒裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0014]圖2是圖1中轉(zhuǎn)盤的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例,對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型,但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。
[0016]請結(jié)合圖1和圖2所示,本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例所示的一種染毒實(shí)驗(yàn)裝置包括架體1、設(shè)置在所述架體I內(nèi)的控制裝置(未圖示)及設(shè)置在所述架體I內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2,轉(zhuǎn)動(dòng)裝置用以放置被測試物,該被測試物可以為細(xì)胞,在本實(shí)施例中,被測試物被稱之為染毒樣品,每個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2上可放置多個(gè)染毒樣品。所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2由控制裝置控制。所述架體I包括設(shè)置控制裝置的控制間11和設(shè)置轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2的實(shí)驗(yàn)間12,所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2包括設(shè)置固定在所述實(shí)驗(yàn)間12內(nèi)的轉(zhuǎn)軸21和固定在轉(zhuǎn)軸21上的轉(zhuǎn)盤22,所述染毒樣品放置在該轉(zhuǎn)盤22上。所述實(shí)驗(yàn)間12包括第一門體13和設(shè)置在所述第一門體13上的第二門體14,所述第二門體14的一側(cè)樞接在第一門體13上,且所述第二門體14可相對第一門體13轉(zhuǎn)動(dòng),所述第一門體13向外突伸有框架部(未標(biāo)號(hào)),所述第二門體14固定在所述框架部上,所述轉(zhuǎn)盤22垂直所述第一門體13,且所述轉(zhuǎn)盤22突伸出所述第一門體13,所述第一門體13和框架部圍設(shè)形成容置所述轉(zhuǎn)盤22且突伸出第一門體13部分的容置空間(未圖示)。
[0017]具體的:所述轉(zhuǎn)盤22具有圓盤部221和若干自所述圓盤部221向外延伸形成以放置染毒樣品的延伸板222。為了便于安放染毒樣品,所述延伸板222為四個(gè),且均勻分布在所述圓盤部221的四周,每個(gè)延伸板222可根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求放置一個(gè)染毒樣品。所述第二門體14對應(yīng)轉(zhuǎn)盤22設(shè)置兩個(gè)。
[0018]在本實(shí)施例中,為了便于固定轉(zhuǎn)盤22,所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置2還包括固定在所述控制間11內(nèi)的固定桿23,所述轉(zhuǎn)盤22為相對設(shè)置在所述固定桿23兩側(cè)的兩個(gè)。
[0019]在本實(shí)施例中,進(jìn)一步的,所述染毒實(shí)驗(yàn)裝置還包括驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤22轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)(未圖示),所述電機(jī)由控制裝置驅(qū)動(dòng)。通過該電機(jī)設(shè)置,便于驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤22轉(zhuǎn)動(dòng),且可以控制轉(zhuǎn)盤22的轉(zhuǎn)動(dòng)方向和轉(zhuǎn)動(dòng)位置。
[0020]在本實(shí)施例中,所述架體I上設(shè)置有進(jìn)氣口15,所述進(jìn)氣口 15上設(shè)置有濾網(wǎng),通過在架體I的進(jìn)氣口 15上設(shè)置濾網(wǎng)16,其能夠使進(jìn)入的氣體流速降低并在實(shí)驗(yàn)間12中呈均勻分布,使細(xì)胞均勻暴露。
[0021]本實(shí)用新型的染毒實(shí)驗(yàn)裝置通過設(shè)置轉(zhuǎn)盤,在實(shí)驗(yàn)間上設(shè)置第一門體13和設(shè)置在第一門體13上的第二門體14,且該第一門體13向外突伸有框架部,第二門體14固定在所述框架部上,轉(zhuǎn)盤22又突伸出第一門體13,第一門體13和框架部圍設(shè)形成容置所述轉(zhuǎn)盤22且突伸出第一門體13部分的容置空間,從而當(dāng)需要取物時(shí),在增加了轉(zhuǎn)盤22的暴露面積的同時(shí),在取放染毒樣品時(shí),可以減少對其他染毒樣品的干擾。另外,通過在架體I的進(jìn)氣口 15上設(shè)置濾網(wǎng)16,其能夠使進(jìn)入的氣體流速降低并在實(shí)驗(yàn)間12中呈均勻分布,使細(xì)胞均勻暴露。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種染毒實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:包括架體(I)、設(shè)置在所述架體(I)內(nèi)的控制裝置及設(shè)置在所述架體(I)內(nèi)的轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(2),所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(2)由控制裝置控制,所述架體(I)包括設(shè)置控制裝置的控制間(11)和設(shè)置轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(2)的實(shí)驗(yàn)間(12),所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(2)包括設(shè)置固定在所述實(shí)驗(yàn)間(12)內(nèi)的轉(zhuǎn)軸(21)和固定在轉(zhuǎn)軸(21)上以放置被測試物的轉(zhuǎn)盤(22),所述實(shí)驗(yàn)間(12)包括第一門體(13)和設(shè)置在所述第一門體(13)上的第二門體(14),所述第二門體(14)的一側(cè)樞接在第一門體(I3)上,且所述第二門體(I4)可相對第一門體(I3)轉(zhuǎn)動(dòng),所述第一門體(13)向外突伸有框架部,所述第二門體(14)固定在所述框架部上,所述轉(zhuǎn)盤(22)垂直所述第一門體(13),且所述轉(zhuǎn)盤(22)突伸出所述第一門體(13),所述第一門體(13)和框架部圍設(shè)形成容置所述轉(zhuǎn)盤(22)且突伸出第一門體(13)部分的容置空間,所述第二門體(14)可打開或者關(guān)閉所述容置空間。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染毒實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤(22)具有圓盤部(221)和若干自所述圓盤部(221)向外延伸形成以放置被測試物的延伸板(222)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的染毒實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述延伸板(222)為四個(gè),且均勻分布在所述圓盤部(221)的四周。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染毒實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(2)還包括固定在所述控制間(11)內(nèi)的固定桿(23),所述轉(zhuǎn)盤(22)為相對設(shè)置在所述固定桿(23)兩側(cè)的兩個(gè)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的染毒實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述第二門體(14)對應(yīng)轉(zhuǎn)盤(22)設(shè)置兩個(gè)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染毒實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述染毒實(shí)驗(yàn)裝置還包括驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(22)轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī),所述電機(jī)由控制裝置驅(qū)動(dòng)。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染毒實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述架體(I)上設(shè)置有進(jìn)氣口(15),所述進(jìn)氣口(15)上設(shè)置有濾網(wǎng)(12)。
【文檔編號(hào)】G01N33/50GK205538977SQ201620121634
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年2月16日
【發(fā)明人】聶繼華, 陳志海, 張舒羽, 焦旸, 童建
【申請人】蘇州大學(xué)