專利名稱：用于處理計(jì)算機(jī)圖形的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及計(jì)算機(jī)圖形的處理，尤其涉及用于在處理計(jì)算機(jī)圖形時(shí)執(zhí)行抗鋸齒處 理的方法和設(shè)備。
背景技術(shù)：
將特別參考三維圖形的處理來描述本發(fā)明，但是如本領(lǐng)域技術(shù)人員將了解的那 樣，它同樣也適用于二維圖形的處理。正如本領(lǐng)域已知的那樣，3D圖形處理通常通過如下處理來執(zhí)行首先對(duì)場(chǎng)景進(jìn)行 劃分，以便將其顯示成多個(gè)相似的基本組分(所謂的“圖元(primitive) ”)，由此允許更容 易地執(zhí)行3D圖形處理操作。這些“圖元”通常采用的是簡(jiǎn)單多邊形的形式，例如三角形。用于待顯示的場(chǎng)景的圖元通常是由圖形處理系統(tǒng)的應(yīng)用程序接口使用圖形繪制 指令(請(qǐng)求)產(chǎn)生的，所述指令是從要求顯示圖形的應(yīng)用(例如游戲)接收的。在這個(gè)階段，每個(gè)圖元通常由一組頂點(diǎn)來定義以及被表示為一組頂點(diǎn)。圖元的每 個(gè)頂點(diǎn)都將其與代表該頂點(diǎn)的數(shù)據(jù)集(例如位置、顏色、紋理和其他屬性數(shù)據(jù))相關(guān)聯(lián)。然 后，例如，在光柵化(rasterising)和渲染(rendering)用于顯示的頂點(diǎn)(該頂點(diǎn)與一個(gè)或 多個(gè)圖元相關(guān))時(shí)使用該數(shù)據(jù)。一旦已經(jīng)生成和定義了場(chǎng)景的圖元及其頂點(diǎn)，那么它們就可以由圖形處理系統(tǒng)進(jìn) 行處理，以便例如顯示場(chǎng)景。該處理主要包括確定覆蓋待處理場(chǎng)景區(qū)域的采樣點(diǎn)陣列中的哪些采樣點(diǎn)被圖元 覆蓋，并且然后確定每個(gè)采樣點(diǎn)應(yīng)該具有的外觀(例如按照其顏色等等)以表示該采樣點(diǎn) 處的圖元。這些處理通常被分別稱為光柵化和渲染。光柵化處理確定應(yīng)該被用于圖元的采樣位置(即將被用于表示待顯示場(chǎng)景中的 圖元的采樣點(diǎn)的(x，y)位置)。該處理通常是使用圖元的頂點(diǎn)位置來完成的。然后，渲染處理推導(dǎo)出顯示采樣點(diǎn)處的圖元(即“遮蔽”每個(gè)采樣點(diǎn))所必需的數(shù) 據(jù)，例如紅、綠和藍(lán)(RGB)色值以及“阿爾法”(透明度)值。正如本領(lǐng)域已知的那樣，該處 理可以包括應(yīng)用紋理、混合采樣點(diǎn)數(shù)據(jù)值等等。(在3D圖形文獻(xiàn)中，術(shù)語“光柵化(rasterisation)”有時(shí)用于意指到采樣位置的 圖元轉(zhuǎn)換以及渲染二者)。但是，本文的“光柵化”將只用于涉及將圖元數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為采樣點(diǎn) 地址)。這些處理通常是通過將采樣點(diǎn)“表示”成離散的圖形實(shí)體來執(zhí)行的，其中該離散 的圖形實(shí)體通常被稱為“碎片(fragment)”，在所述碎片上執(zhí)行圖形處理操作(例如渲染) 是。實(shí)際上，每個(gè)采樣點(diǎn)均由碎片來表示，該碎片將被用于渲染所討論的采樣點(diǎn)處的圖元。 該“碎片”是經(jīng)過了渲染處理(渲染管線)的圖形實(shí)體。(因此，“碎片”實(shí)際上是(與其關(guān)聯(lián)的)一組如內(nèi)插到圖元的指定屏幕空間采樣 點(diǎn)的圖元數(shù)據(jù)。它還可以包括每個(gè)圖元以及其他需要在所討論的采樣點(diǎn)(碎片位置)遮蔽 圖元的狀態(tài)數(shù)據(jù)。在處理每個(gè)圖形碎片時(shí)，每個(gè)圖形碎片都可以被合理地認(rèn)為是實(shí)際上與
4場(chǎng)景的“像素”等價(jià)。)每個(gè)圖形“碎片”都可以對(duì)應(yīng)于最終顯示中的單個(gè)像素(圖像元素)(其原因在 于由于像素是最終顯示中的奇點(diǎn)，因此，在圖形處理器操作(渲染)的“碎片”與顯示 的像素之間可能存在一一映射)。但是可能出現(xiàn)這樣的情況，那就是在碎片與顯示像素 之間不存在一一對(duì)應(yīng)關(guān)系，例如在顯示最終圖像之前對(duì)經(jīng)渲染的圖像執(zhí)行諸如等比縮小 (down-scaling)之類的特定形式的后處理的情況。在處理用于顯示的圖形時(shí)(在顯示計(jì)算機(jī)生成的圖像時(shí))，所遇到的一個(gè)問題是 顯示圖像被量化成所用的顯示器(例如監(jiān)視器或打印機(jī))的離散像素位置。這樣做限制了 被顯示的圖像的分辨率，并且可能產(chǎn)生非預(yù)期的視覺偽像，例如輸出顯示設(shè)備的分辨率不 足夠高以顯示平滑線條。這些效應(yīng)通常被稱為“鋸齒效應(yīng)(aliasing)”。圖1示出了這種鋸齒效應(yīng)。圖1的左側(cè)示出所要繪制的圖像，而右側(cè)示出被顯示 的實(shí)際圖像。如可以看出的那樣，白色對(duì)象的預(yù)期平滑曲線實(shí)際上在顯示器上具有鋸齒狀 外觀。這正是鋸齒效應(yīng)。(在圖1中，每個(gè)正方形均代表顯示器的像素，并且十字形標(biāo)記代 表的是處于每個(gè)(X，y)像素位置的點(diǎn)，為該點(diǎn)確定(采樣)該像素位置的色值)。例如，圖 1中的像素A被繪制成全白，這是因?yàn)樵撓袼匚恢玫念伾蓸狱c(diǎn)落入白色對(duì)象以內(nèi)。應(yīng)該 指出，在圖1中只示出了所關(guān)注像素上的采樣十字形標(biāo)記，但在實(shí)踐中，所有像素都會(huì)被采 樣)?？梢员蝗庋劭吹降乃袖忼X效應(yīng)偽像都可以通過使用分辨率足夠高的顯示器來 去除。但是，電子顯示器和打印機(jī)的分辨率通常是有限的，并且很多圖形處理系統(tǒng)使用其他 技術(shù)來嘗試去除或減小鋸齒效應(yīng)的影響。這些技術(shù)通常被稱為抗鋸齒技術(shù)。一種已知的抗鋸齒技術(shù)被稱為超級(jí)采樣(supersample)或過采樣(oversample)。在該方案中，存在最終顯示的每個(gè)像素的多個(gè)采樣點(diǎn)(位置)，并且為每個(gè)(被覆 蓋的)單個(gè)采樣點(diǎn)(例如通過將每個(gè)采樣點(diǎn)渲染成單獨(dú)碎片)取得單獨(dú)的顏色采樣。這樣 做的效果是在渲染處理期間為被圖元覆蓋的顯示像素的每個(gè)采樣點(diǎn)取得不同的顏色采樣。這意味著為顯示器的每個(gè)像素都取得多個(gè)顏色采樣(由于為每個(gè)采樣點(diǎn)渲染了 單獨(dú)的色值，因此，一個(gè)顏色采樣對(duì)應(yīng)于像素的每個(gè)采樣點(diǎn))。然后，在顯示像素時(shí)，這多個(gè) 顏色采樣被組合成像素的單個(gè)顏色。這樣做的效果是在所討論的像素位置處平滑或平均了 來自初始圖像的色值。圖2示出的是超級(jí)采樣處理。在圖2所示的示例中，為顯示器中的每個(gè)像素確定 四個(gè)采樣點(diǎn)，并且在渲染處理期間為每個(gè)采樣點(diǎn)取得單獨(dú)的顏色采樣。(相應(yīng)地，每個(gè)這樣 的采樣實(shí)際都可以被認(rèn)為是“子像素”，其中顯示器中的每個(gè)像素均由四個(gè)這樣的子像素構(gòu) 成)。然后，指定像素的四個(gè)色值采樣(子像素)被組合(下濾波(downfilter))，以使用于 顯示器中的像素的最終顏色是為該像素取得的四個(gè)顏色采樣的顏色的恰當(dāng)平均(混合)。這樣做有下述效果平滑了被顯示的圖像，并且例如，通過在鋸齒效應(yīng)偽像周圍環(huán) 繞顏色的中間陰影來減小鋸齒效應(yīng)偽像的突出部分。在圖2中可以看到這種處理，其中像 素A現(xiàn)在具有兩個(gè)“白色”采樣和兩個(gè)“黑色”采樣，并因此在顯示圖像中被設(shè)置成是50% “白色”。以這種方式，基于例如發(fā)現(xiàn)了多少采樣落在所述邊緣的每一側(cè)來對(duì)圍繞白色對(duì)象 邊緣的像素進(jìn)行模糊，從而產(chǎn)生更平滑的邊緣。事實(shí)上，超級(jí)采樣以比將實(shí)際用于顯示的分辨率高很多的分辨率來處理屏幕圖像，并且然后在顯示圖像之前縮放和濾波(下采樣)經(jīng)過處理的圖像，以達(dá)到最終的分辨 率。這具有下述效果提供了具有減小的鋸齒效應(yīng)偽像的改進(jìn)圖像，但卻需要更高的處理能 力和/或時(shí)間，這是因?yàn)閳D形處理系統(tǒng)事實(shí)上必須處理與所存在的采樣一樣多的碎片(從 而使得例如，對(duì)4x超級(jí)采樣(即，其中為每一個(gè)顯示像素取得4個(gè)采樣)來說，處理需求比 如果沒有超級(jí)采樣將高出四倍)。因此，已經(jīng)提出了其他的抗鋸齒技術(shù)，其在仍然提供圖像質(zhì)量的某些改進(jìn)的同時(shí)， 具有比完全超級(jí)采樣低的處理需求。該技術(shù)中的一種常見技術(shù)被稱為“多點(diǎn)采樣(multi-sampling) ”。在多點(diǎn)采樣的情況下，同樣為每一個(gè)顯示像素測(cè)試多個(gè)采樣點(diǎn)，以便在將圖像光 柵化成碎片時(shí)(在光柵化階段)確定指定圖元是否覆蓋采樣點(diǎn)。由此，多點(diǎn)采樣系統(tǒng)中的 圖元的采樣點(diǎn)覆蓋是以與“超級(jí)采樣”系統(tǒng)相似的方式加以確定的(并且因此，在多點(diǎn)采樣 系統(tǒng)中，圖元的外部幾何邊緣的位置實(shí)際上仍被“超級(jí)采樣”(過采樣)了)。但是，在多點(diǎn)采樣系統(tǒng)的渲染處理中，被所討論的圖元覆蓋的指定顯示像素的所 有采樣點(diǎn)都被分配了相同的單個(gè)公共數(shù)據(jù)集(例如深度值，色值等等)(而不像超級(jí)采樣的 情況那樣每一個(gè)都具有其自己的單獨(dú)數(shù)據(jù)集)。因此，在多點(diǎn)采樣中，同樣為將構(gòu)成最終顯示的每個(gè)像素取得多個(gè)采樣，但是對(duì)于 被發(fā)現(xiàn)屬于最終圖像中的同一對(duì)象的顯示像素而言，確定單個(gè)色值，并將該單個(gè)色值應(yīng)用 到所有的采樣，而不是在渲染“像素”時(shí)為每一個(gè)采樣確定單獨(dú)的色值(如完全超級(jí)采樣系 統(tǒng)的情況那樣)。換句話說，多點(diǎn)采樣為場(chǎng)景中的指定對(duì)象的指定顯示像素計(jì)算單個(gè)色值， 該色值被應(yīng)用于(重復(fù)用于)被該對(duì)象覆蓋的顯示像素的所有采樣(子像素)(與為每個(gè) 采樣確定單獨(dú)的色值的超級(jí)采樣相反)。由于只有單個(gè)色值用于指定顯示像素的多個(gè)采樣，因此，多點(diǎn)采樣不如超級(jí)采樣 處理密集，因此可以允許比超級(jí)采樣更快的處理和性能。但是，與超級(jí)采樣相比，存在顯示 圖像的質(zhì)量的降低，這是因?yàn)殡m然對(duì)象的邊緣仍舊以較高的分辨率被采樣，但顏色卻并非 如此。盡管這樣，很多圖形處理系統(tǒng)使用多點(diǎn)采樣抗鋸齒技術(shù)，因?yàn)槎帱c(diǎn)采樣通?？梢?在經(jīng)渲染的圖像中提供足夠的(以及與根本沒有多點(diǎn)采樣或超級(jí)采樣時(shí)相比改善的)抗鋸 齒處理，而沒有完全超級(jí)采樣所承擔(dān)的數(shù)量極大的額外處理和計(jì)算負(fù)擔(dān)。在超級(jí)采樣和多點(diǎn)采樣兩方案中還可以通過為每一個(gè)顯示像素取得更多采樣來 提高抗鋸齒性能。例如，代替為每個(gè)顯示像素取得4個(gè)采樣(4x抗鋸齒)的是，也可以改為 取得16個(gè)采樣(16x抗鋸齒)。但是，這樣做的后果是顯著地增加了處理需求(如果從4x 到16x，則會(huì)增加4倍)，因?yàn)閷⑿枰幚砀嗟乃槠瑏硖幚頂?shù)量增長(zhǎng)的采樣，所以這可能未 必是理想的或可能的。

發(fā)明內(nèi)容
因此，申請(qǐng)人相信仍然存在對(duì)抗鋸齒技術(shù)的改進(jìn)，而該改進(jìn)不會(huì)具有過高的性能 損失。根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)方面，提供了一種處理用于顯示的圖形的方法，該方法包 括
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生成和渲染圖形碎片，以生成待顯示圖像的采樣點(diǎn)的已渲染圖形數(shù)據(jù)；其中被渲染的每個(gè)圖形碎片與待顯示圖像的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，并且將被用于為與所 述碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合的采樣點(diǎn)中的一個(gè)或多個(gè)生成已渲染圖形數(shù)據(jù)；以及被渲染的圖形碎片可以與包含不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)方面，提供了一種圖形處理系統(tǒng)，其包括用于生成和渲染圖形碎片以生成待顯示圖像的采樣點(diǎn)的已渲染圖形數(shù)據(jù)的裝置； 其中被渲染的每個(gè)圖形碎片與待顯示圖像的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，并且將被用于為與所 述碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合的采樣點(diǎn)中的一個(gè)或多個(gè)生成已渲染圖形數(shù)據(jù)；以及被渲染的圖形碎片可以與包含不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。在本發(fā)明中，通過渲染碎片(每個(gè)碎片均與圖像的采樣點(diǎn)集合相對(duì)應(yīng))來處理圖 像以用于顯示。然而，在本發(fā)明中，為圖像渲染的碎片可以被關(guān)聯(lián)于(對(duì)應(yīng)于和表示)包含 不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合。例如(并且如下文中將進(jìn)一步討論的那樣)，在一個(gè)優(yōu)選 實(shí)施例中，被渲染的指定碎片可以與包含圖像的4個(gè)采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，或者它 可以與包含圖像的16個(gè)采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。相應(yīng)地，本發(fā)明提供了一種方案，其中可以使用將被渲染的單個(gè)碎片來表示不同 數(shù)量的采樣點(diǎn)。該方案尤其在為了渲染指定數(shù)量的采樣點(diǎn)而需要通過渲染處理(管線)發(fā) 送的碎片數(shù)量方面提供了靈活性。例如，在每一個(gè)碎片始終與四個(gè)采樣點(diǎn)(4x采樣掩碼(sampling mask))相對(duì)應(yīng)而 實(shí)現(xiàn)16x采樣的系統(tǒng)中，將必須渲染四倍之多的碎片(如上所述，然后會(huì)承擔(dān)性能損失)。然而，在本發(fā)明中，如果例如如上所述，可以用指定碎片來表示4或16個(gè)采樣點(diǎn)， 那么作為示例，如果希望使用16x采樣，則會(huì)發(fā)現(xiàn)同一圖元覆蓋了指定的16x采樣掩碼的所 有16個(gè)采樣點(diǎn)，具有與其相關(guān)聯(lián)的16個(gè)采樣點(diǎn)集合的單個(gè)碎片可以用于渲染被覆蓋的16x 掩碼的所有16個(gè)采樣點(diǎn)，而不是必須使用四個(gè)碎片來那樣做。另一方面，當(dāng)指定的圖元沒 有覆蓋指定的16x掩碼的所有16個(gè)采樣點(diǎn)時(shí)，則16x掩碼可以改為例如使用下述碎片來加 以渲染，所述碎片中的每一個(gè)對(duì)應(yīng)于四個(gè)采樣點(diǎn)，以允許在渲染處理中反映掩碼的16個(gè)采 樣點(diǎn)的不完全覆蓋。由此，本發(fā)明尤其可以有效地允許使用增加的采樣率(抗鋸齒率等等)，而不需要 完全按比例增加下述碎片的數(shù)量，所述碎片被渲染以與增加的采樣率完全匹配。這是因?yàn)?本發(fā)明允許使用一些碎片來渲染更多數(shù)量的采樣點(diǎn)，由此避免了改為渲染更多數(shù)量的碎片 以渲染那些采樣點(diǎn)的需要。特別地，雖然對(duì)于增加的采樣率而言，本發(fā)明確實(shí)可能仍需要增 加被渲染的碎片的數(shù)量，但是與如果沒有使用本發(fā)明以及簡(jiǎn)單地按比例增長(zhǎng)被渲染碎片的 數(shù)量以獲得增加的采樣率相比，碎片數(shù)量的增加將是較小的。此外，申請(qǐng)人已經(jīng)認(rèn)識(shí)到，在本發(fā)明中，為了增加的采樣率而在待渲染碎片的數(shù)量 方面的增加在實(shí)踐中將是相對(duì)較小的，因?yàn)樵诖蠖鄶?shù)情況下，用于采樣圖像的較高采樣率 的掩碼將會(huì)完全被指定圖元所覆蓋，并因此仍舊可以使用單個(gè)碎片(但是代表了更多的采 樣點(diǎn))來加以渲染，且因此不需要對(duì)附加的碎片進(jìn)行渲染以獲得更高的采樣率。相應(yīng)地，申請(qǐng)人相信，本發(fā)明可以允許獲得更高的抗鋸齒率，而不需要顯著增加圖 形處理器的尺寸和能力，并且即使有性能降低，所述性能降低也只是相對(duì)小的。
在這里應(yīng)該了解的是，在本發(fā)明中，碎片可以與包含所使用的不同數(shù)量的采樣點(diǎn) 的采樣點(diǎn)集合動(dòng)態(tài)地相關(guān)聯(lián)。由此，例如，對(duì)于被渲染的任何指定圖像(幀)來說，為了渲 染該圖像而生成的碎片可以(優(yōu)選地)與具有不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。最 優(yōu)選的是，對(duì)于被渲染的任何指定圖元來說，用于渲染該圖元的碎片可以與具有不同數(shù)量 的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。最優(yōu)選的是，碎片可以有選擇地與具有不同數(shù)量的采樣點(diǎn) 的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，例如且優(yōu)選地，如將在下文中進(jìn)一步討論的那樣，所述關(guān)聯(lián)優(yōu)選是以 被所討論的采樣點(diǎn)的圖元覆蓋為基礎(chǔ)的。與每一個(gè)碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合可以根據(jù)需要來選擇。正如本領(lǐng)域中已知的那 樣，每一個(gè)采樣點(diǎn)集合(以及相應(yīng)地，每一個(gè)采樣點(diǎn))將表示待顯示圖像中的位置(χ，y位置)。在每一個(gè)采樣點(diǎn)集合中，采樣點(diǎn)的模式和(相對(duì))位置(采樣模式)可以根據(jù) 需要來選擇。例如，任何已知的適當(dāng)抗鋸齒采樣模式都是可以使用的，例如有序網(wǎng)格采樣 (ordered grid sampling)。最優(yōu)選的是，如本領(lǐng)域已知的那樣，使用旋轉(zhuǎn)網(wǎng)格采樣模式，因 為該模式提供了更好的采樣效果。如通常情況那樣，當(dāng)圖像將被顯示在具有顯示器或是包含多個(gè)像素的輸出的輸出 設(shè)備上時(shí)，可以與待渲染的碎片相關(guān)聯(lián)的每一個(gè)采樣點(diǎn)集合都優(yōu)選地對(duì)應(yīng)于輸出設(shè)備(例 如顯示器)的指定像素(像素位置)的采樣點(diǎn)集合，或是對(duì)應(yīng)于輸出設(shè)備(例如顯示器或 打印機(jī))的像素的一部分(例如子像素)的采樣點(diǎn)集合。在后一個(gè)方案中，多個(gè)采樣點(diǎn)集 合的群組優(yōu)選地構(gòu)成了顯示器的像素的完整的采樣點(diǎn)集合。在這些方案中，每一個(gè)碎片將 會(huì)有效地渲染輸出設(shè)備(例如顯示器或打印機(jī))的指定像素的碎片數(shù)據(jù)。在待渲染的圖形碎片可以對(duì)應(yīng)于(可以表示)的采樣點(diǎn)集合中，采樣點(diǎn)的數(shù)量可 以根據(jù)需要來選擇。例如，可能存在多個(gè)等級(jí)的采樣點(diǎn)集合，每一個(gè)等級(jí)都包含不同數(shù)量的 采樣點(diǎn)，例如包含1個(gè)采樣點(diǎn)的集合，包含4個(gè)采樣點(diǎn)的集合，包含16個(gè)采樣點(diǎn)的集合，包 含64個(gè)采樣點(diǎn)的集合等等。在特別優(yōu)選的實(shí)施例中，可以與圖形碎片相對(duì)應(yīng)的每一個(gè)采樣 點(diǎn)集合都包含多個(gè)采樣點(diǎn)。優(yōu)選地，圖形碎片可以與4或16采樣點(diǎn)的集合相關(guān)聯(lián)。在特別優(yōu)選的實(shí)施例中，僅存在可以與碎片相關(guān)聯(lián)的兩個(gè)不同的采樣點(diǎn)數(shù)量(等 級(jí))集合。最優(yōu)選的是，這些集合是4采樣點(diǎn)集合和16采樣點(diǎn)的集合。優(yōu)選地，在每個(gè)不同編號(hào)的采樣點(diǎn)集合中的采樣點(diǎn)的數(shù)量和層級(jí)(hierarchy)中 的其直接相鄰的采樣點(diǎn)集合(或多個(gè)集合)中的采樣點(diǎn)數(shù)量與同一乘數(shù)的乘積相關(guān)。優(yōu)選 地，每個(gè)集合具有是緊接著該集合且編號(hào)較低的相鄰集合的采樣點(diǎn)的四倍的采樣點(diǎn)。同樣，可以與碎片相對(duì)應(yīng)的每個(gè)較小的采樣點(diǎn)集合優(yōu)選地對(duì)應(yīng)于或表示較大的采 樣點(diǎn)集合的特定部分或子區(qū)域，例如較大的采樣點(diǎn)集合的特定行或列。在特別優(yōu)選的該方 案中，每個(gè)較小的采樣點(diǎn)集合都表示且對(duì)應(yīng)于其緊挨著的較大相鄰采樣點(diǎn)集合的四分之一 或一個(gè)象限(quadrant)。由此，例如，當(dāng)指定的碎片可以與16采樣點(diǎn)集合或是4采樣點(diǎn)集 合相關(guān)聯(lián)時(shí)，每一個(gè)4采樣點(diǎn)集合都可以優(yōu)選地用于表示16采樣點(diǎn)集合的四分之一或是一 個(gè)象限。在特別優(yōu)選的實(shí)施例中，可以與碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合中的每個(gè)都對(duì)應(yīng)于采樣 掩碼(抗鋸齒掩碼(mask))或是此類掩碼的一部分，該掩碼可以被并且旨在被應(yīng)用于將要 在所討論的圖形處理系統(tǒng)中加以渲染的圖像。正如本領(lǐng)域中知道的那樣，在將對(duì)圖像進(jìn)行渲染以顯示時(shí)，通常，表示采樣點(diǎn)集合的預(yù)定義采樣掩碼將被重復(fù)地應(yīng)用于圖像，以對(duì)圖像 進(jìn)行采樣。典型地并且優(yōu)選地，采樣掩碼的每一個(gè)應(yīng)用將對(duì)應(yīng)于預(yù)期的輸出設(shè)備(例如顯 示器或打印機(jī))的指定輸出像素。因此，例如優(yōu)選地，將與16x采樣(例如并且優(yōu)選地，多點(diǎn)采樣)掩碼對(duì)應(yīng)的16采 樣點(diǎn)集合以及可與4x采樣掩碼或是16x采樣掩碼的四分之一對(duì)應(yīng)的4采樣點(diǎn)集合可以與 碎片相關(guān)聯(lián)。因此，在特別優(yōu)選的實(shí)施例中，指定圖形碎片可以被關(guān)聯(lián)于(并且用于渲染)采樣 掩碼(或是抗鋸齒掩碼)的所有采樣點(diǎn)，所述采樣掩碼(或是抗鋸齒掩碼)將被應(yīng)用于待 渲染的圖像，或者所述指定圖形碎片可以關(guān)聯(lián)于(并且用于渲染)采樣掩碼的采樣點(diǎn)的子 集，所述采樣掩碼將被應(yīng)用于待渲染的圖像。換句話說，優(yōu)選地，采樣掩碼到圖像的指定應(yīng) 用可以使用單個(gè)碎片(其表示整個(gè)采樣掩碼)、或者通過使用一個(gè)或多個(gè)碎片(其表示采樣 掩碼的子集)或是通過此類碎片的組合而被渲染。同樣，可以優(yōu)選地使用對(duì)應(yīng)于整個(gè)采樣掩碼的碎片和/或使用對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的 特定子區(qū)域或部分(諸如對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的行、列，或者優(yōu)選地采樣掩碼的四分之一或一 象限)的碎片來渲染采樣掩碼的指定實(shí)例。應(yīng)該了解的是，在這些方案中，本發(fā)明實(shí)際會(huì)允許諸如16x掩碼之類的指定采樣 掩碼(例如多點(diǎn)采樣掩碼)由單個(gè)碎片來表示并且作為單個(gè)碎片而被處理，或者作為多個(gè) 碎片而被處理(例如被劃分成一個(gè)或多個(gè)用于渲染的較小碎片)。實(shí)際上，采樣掩碼可以 以兩個(gè)(或更多)不同的等級(jí)來表示，以便進(jìn)行渲染，從而使得，例如，如果整個(gè)掩碼都被覆 蓋，則其可以被作為單個(gè)碎片(在一“級(jí)”)來渲染，但是如果其僅被部分覆蓋，那么例如， 它可以被作為一個(gè)或多個(gè)較大和/或較小的“補(bǔ)片(patch)，，(被劃分成用于渲染的較小補(bǔ) 片)來渲染，例如該渲染是使用與較少數(shù)量的采樣點(diǎn)(在較低的等級(jí))相關(guān)聯(lián)的碎片來進(jìn) 行的。如上所述，這是有利的。由此，根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)方面，提供了一種在圖形處理系統(tǒng)中處理用于顯示的 圖形的方法，在該圖形處理系統(tǒng)中，包含采樣點(diǎn)集合的采樣掩碼將被應(yīng)用于待顯示的圖像， 以便對(duì)待顯示的圖像進(jìn)行采樣，并且其中使用單個(gè)碎片或使用多個(gè)碎片，可以渲染與采樣掩碼到圖像的指定應(yīng)用相對(duì)應(yīng)的 采樣點(diǎn)集合，從而為該采樣點(diǎn)集合生成已渲染圖形數(shù)據(jù)。根據(jù)本發(fā)明的第四個(gè)方面，提供了一種圖形處理系統(tǒng)，其中包含采樣點(diǎn)集合的采 樣掩碼將被施加于待顯示的圖像，以便對(duì)待顯示的圖像進(jìn)行采樣，并且其中使用單個(gè)碎片或使用多個(gè)碎片，可以渲染與采樣掩碼到圖像的指定應(yīng)用相對(duì)應(yīng)的 采樣點(diǎn)集合，從而為該采樣點(diǎn)集合生成已渲染圖形數(shù)據(jù)。同樣，根據(jù)本發(fā)明的第五個(gè)方面，提供了一種在圖形處理系統(tǒng)中處理用于顯示的 圖像的方法，該方法包括將包含采樣點(diǎn)集合的采樣掩碼應(yīng)用于待顯示圖像，以對(duì)待顯示圖像進(jìn)行采樣；以 及生成和渲染圖形碎片，以便生成用于顯示的圖像的采樣點(diǎn)的已渲染碎片數(shù)據(jù)；其 中被渲染的每一個(gè)碎片可以與對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合、或者對(duì)
9應(yīng)于采樣掩碼的采樣點(diǎn)的子集的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。根據(jù)本發(fā)明的第六個(gè)方面，提供了一種圖形處理系統(tǒng)，包括用于將包含采樣點(diǎn)集合的采樣掩碼應(yīng)用于待顯示圖像，以對(duì)待顯示圖像進(jìn)行采樣 的裝置；以及用于生成和渲染圖形碎片，以生成用于顯示的圖像的采樣點(diǎn)的已渲染碎片數(shù)據(jù)的 裝置；以及用于將被渲染的每一個(gè)碎片與對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合、或者 對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的采樣點(diǎn)的子集的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)的裝置。如本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)了解的那樣，當(dāng)恰當(dāng)時(shí)(as appropriate)，本發(fā)明的這些 方面和實(shí)施例可以并且優(yōu)選地包括本文所描述的本發(fā)明的任何一個(gè)或多個(gè)或所有優(yōu)選和 可選的特征。因此例如，抗鋸齒掩碼優(yōu)選包含16個(gè)采樣點(diǎn)，并且優(yōu)選地可以使用與16或是 4個(gè)采樣點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的碎片來進(jìn)行渲染。優(yōu)選的，可以使用表示整個(gè)掩碼的碎片或是使用表示采樣掩碼的特定子區(qū)域或部 分的碎片來渲染抗鋸齒掩碼。最優(yōu)選地，可以使用表示所述掩碼的所有采樣點(diǎn)的單個(gè)碎片來渲染所應(yīng)用的采樣 掩碼的指定實(shí)例，或者可以使用與所述掩碼的較小部分或子區(qū)域(例如四分之一或象限) 相對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)碎片來渲染所應(yīng)用的采樣掩碼的指定實(shí)例，或者可以既使用表示所述 掩碼的所有采樣點(diǎn)的碎片又使用作為與采樣掩碼的較小部分或子區(qū)域相對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多 個(gè)碎片來渲染所應(yīng)用的采樣掩碼的指定實(shí)例。雖然在本發(fā)明中碎片可以與包含不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，但是典 型地且優(yōu)選地，在使用本發(fā)明時(shí)，對(duì)于所有不同編號(hào)(numbered)的采樣點(diǎn)集合來說，無論 每一個(gè)集合中有多少個(gè)采樣點(diǎn)，在可以與碎片相關(guān)聯(lián)的不同編號(hào)的采樣點(diǎn)集合中的單獨(dú)的 采樣點(diǎn)將始終處于相同的采樣分辨率。因此，例如，如果將16x采樣掩碼應(yīng)用于圖像，那么本發(fā)明將例如使用一個(gè)與16個(gè) 采樣點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的碎片來渲染該掩碼的所有16個(gè)點(diǎn)，或者例如使用一個(gè)或多個(gè)碎片(假定該 一個(gè)或多個(gè)碎片中的每一個(gè)都對(duì)應(yīng)于所述掩碼的四個(gè)采樣點(diǎn))來渲染所述掩碼的采樣點(diǎn)。 但是，每個(gè)集合的單獨(dú)的采樣點(diǎn)自身將始終是每一個(gè)均表示相同的采樣分辨率；只有指定 碎片可以用于渲染那些采樣點(diǎn)中的更多或更少的采樣點(diǎn)。由此，在特別優(yōu)選的實(shí)施例中，可以與本發(fā)明中的碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合中的 采樣點(diǎn)的每一個(gè)均表示被采樣的圖像中的相同采樣分辨率。在本發(fā)明中，指定圖形碎片可以與包含不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。 同樣，例如可以使用單個(gè)碎片、或使用多個(gè)碎片、和/或使用表示采樣掩碼的不同子部分的 碎片來處理指定的采樣掩碼。因此，將與一個(gè)或多個(gè)碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)的數(shù)量可以在使 用中動(dòng)態(tài)地改變。當(dāng)對(duì)指定圖像進(jìn)行處理以便顯示時(shí)，這可以優(yōu)選地被選擇性地進(jìn)行。由此，本發(fā)明優(yōu)選地包括用于選擇將與待渲染的碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合的步驟 或裝置。同樣，本發(fā)明優(yōu)選包括下述步驟或裝置，所述步驟或裝置用于有選擇地處理應(yīng)用 于待顯示圖像的采樣掩碼的采樣點(diǎn)集合作為代表采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)的單個(gè)碎片、或者 作為每一個(gè)都代表采樣掩碼的采樣點(diǎn)的子集的一個(gè)或多個(gè)碎片、或者作為代表采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)的碎片的組合以及每一個(gè)都代表采樣掩碼的采樣點(diǎn)的子集的一個(gè)或多個(gè)碎片 的組合。由此，在特別優(yōu)選的實(shí)施例中，本發(fā)明包括下述步驟或裝置，所述步驟或裝置用于 有選擇地將被渲染的每個(gè)碎片與對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合或?qū)?yīng)于采 樣掩碼的采樣點(diǎn)的子集的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。選擇將什么采樣點(diǎn)集合與給定碎片相關(guān)聯(lián)以及選擇如何處理采樣掩碼的給定實(shí) 例(instance)優(yōu)選地基于由正被處理(采樣)的圖元對(duì)采樣點(diǎn)集合和/或采樣掩碼的覆
至
ΓΤΠ ο由此，例如并且優(yōu)選地，如果給定采樣掩碼(采樣點(diǎn)集合)完全被圖元所覆蓋，那 么優(yōu)選地使用與采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的單個(gè)碎片來對(duì)其進(jìn)行渲染。但是，如果采 樣掩碼沒有完全由被采樣的圖元覆蓋，則可以改為例如將所述采樣掩碼處理為一個(gè)或多個(gè) 碎片，所述一個(gè)或多個(gè)碎片中的每一個(gè)都對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的子補(bǔ)片(sub-patch)。由此，在特別優(yōu)選的實(shí)施例中，本發(fā)明包括下述步驟或裝置，所述步驟或裝置用于 確定由將被渲染的圖元對(duì)采樣點(diǎn)集合的覆蓋，以及根據(jù)所確定的由被采樣的圖元對(duì)采樣點(diǎn) 的覆蓋來選擇將與將被渲染的碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)的數(shù)量。同樣，本發(fā)明優(yōu)選地包括下述步驟或裝置，所述步驟或裝置用于確定由將被渲染 的圖元對(duì)包括采樣點(diǎn)集合的采樣掩碼的覆蓋，并且根據(jù)由將被渲染的圖元對(duì)采樣掩碼的覆 蓋來將對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的采樣點(diǎn)集合有選擇地渲染作為對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)的 單個(gè)碎片，或者作為對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的采樣點(diǎn)的子集的一個(gè)或多個(gè)碎片，或者作為其組合。由此，在特別優(yōu)選實(shí)施例中，本發(fā)明包括用于通過下述方式處理待顯示圖像的圖 形圖元的步驟或裝置，所述方式為為多采樣點(diǎn)集合的每一個(gè)采樣點(diǎn)確定圖形圖元是否覆蓋了所述采樣點(diǎn)；以及如果圖元覆蓋了采樣點(diǎn)集合的所有采樣點(diǎn)，那么生成對(duì)應(yīng)于將被渲染的多采樣點(diǎn) 集合的單個(gè)圖形碎片，從而為采樣點(diǎn)生成渲染碎片數(shù)據(jù)；或者如果圖元沒有覆蓋采樣點(diǎn)集合的所有采樣點(diǎn)，那么有選擇地生成一個(gè)或多個(gè)與用 于渲染的采樣點(diǎn)集合的全部采樣點(diǎn)或采樣點(diǎn)的子集相關(guān)聯(lián)的碎片，從而為采樣點(diǎn)生成渲染 碎片數(shù)據(jù)。應(yīng)當(dāng)理解，盡管在本發(fā)明運(yùn)作的很多情況下碎片所對(duì)應(yīng)于的采樣點(diǎn)集合將完全由 正被采樣的對(duì)象(例如圖元)覆蓋，然而這并不總是這樣的情況，并且如果是那樣的話，僅 有一些而不是所有的與碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)將被例如所討論的圖元覆蓋。在后者的情況 下，正如本領(lǐng)域所已知的那樣，碎片的渲染碎片數(shù)據(jù)應(yīng)當(dāng)用于那些被(圖元)覆蓋的采樣 點(diǎn)，而不應(yīng)當(dāng)用于那些沒有被(圖元)覆蓋的采樣點(diǎn)(因?yàn)槟切┎蓸狱c(diǎn)實(shí)際上會(huì)被例如圖 像的另一個(gè)圖元覆蓋)。這將例如沒有必要為那些沒有被覆蓋的采樣位置在渲染碎片數(shù)據(jù) 陣列中存儲(chǔ)渲染碎片數(shù)據(jù)。由此，在一個(gè)特別優(yōu)選實(shí)施例中，每個(gè)圖形碎片已經(jīng)與其數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)，所述數(shù)據(jù)指 示碎片對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合中的哪些采樣點(diǎn)被(例如，并且優(yōu)選地，正被采樣的圖元)覆蓋， 即，事實(shí)上，碎片正被用于渲染碎片所對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合中的哪些采樣點(diǎn)。然后，系統(tǒng)優(yōu)選 地運(yùn)行從而為所指示的被覆蓋的采樣位置而不是為剩余的與碎片相關(guān)聯(lián)的采樣位置在碎 片數(shù)據(jù)陣列中存儲(chǔ)渲染碎片數(shù)據(jù)。
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指示碎片正被用于渲染哪些被覆蓋的采樣點(diǎn)的信息優(yōu)選地與下述碎片的碎片數(shù) 據(jù)相關(guān)聯(lián)或是下述碎片的碎片數(shù)據(jù)的一部分，所述碎片通過渲染器(例如碎片的阿爾法值 和RGB)。優(yōu)選地，對(duì)于與碎片相關(guān)聯(lián)的采樣位置集合的每個(gè)采樣位置，以覆蓋掩碼的形式指 示采樣位置是否被覆蓋，實(shí)際上也就是碎片是否正被用于渲染那個(gè)采樣點(diǎn)(即，是否應(yīng)當(dāng) 為那個(gè)采樣點(diǎn)存儲(chǔ)它的數(shù)據(jù))。優(yōu)選地，這個(gè)覆蓋掩碼具有代表采樣位置的位圖的形式。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)這個(gè)方案是一種將給定碎片與適當(dāng)?shù)牟蓸狱c(diǎn)相關(guān)聯(lián)的非常方便的方式。在這些方案中，雖然將可以單獨(dú)地用與碎片相關(guān)聯(lián)的覆蓋信息來指定每個(gè)采樣位 置的覆蓋(例如，采用16-位置的覆蓋掩碼用于對(duì)應(yīng)于16個(gè)采樣點(diǎn)的集合的碎片，以及采 用4-位置的覆蓋掩碼用于對(duì)應(yīng)于4個(gè)采樣點(diǎn)的集合的碎片)，但是在優(yōu)選實(shí)施例中，覆蓋信 息(掩碼)能夠(有選擇地)共同地(collectively)指示多個(gè)采樣位置的覆蓋(優(yōu)選地 采用單個(gè)位)。這允許使用較小的覆蓋掩碼等，即使碎片對(duì)應(yīng)于更多采樣位置。最優(yōu)選地，每個(gè)碎片與相同大小的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)(根據(jù)采樣位置的數(shù)量，覆蓋 掩碼能夠指示是否被覆蓋)，而不管碎片可以表示多少實(shí)際采樣位置。換句話說，根據(jù)在與 所討論的碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合中有多少采樣點(diǎn)，與碎片一起使用的覆蓋信息(掩碼) 優(yōu)選地具有固定數(shù)量的位置(例如，并且優(yōu)選地，4)，其能夠指示是否被覆蓋，并且每個(gè)這 樣的位置表示一個(gè)或者多個(gè)采樣點(diǎn)。在一個(gè)這樣的特別優(yōu)選的實(shí)施例中，每個(gè)碎片使其與表示4個(gè)可能的采樣位置的 覆蓋信息(覆蓋掩碼)相關(guān)聯(lián)，并且覆蓋掩碼的每個(gè)這樣的位置能夠表示單個(gè)采樣點(diǎn)(如 果碎片與4個(gè)采樣點(diǎn)的集合相關(guān)聯(lián))或者4個(gè)采樣點(diǎn)(如果碎片與16個(gè)采樣點(diǎn)的集合相 關(guān)聯(lián))。我們相信這樣的方案對(duì)它們本身來說會(huì)是新的并且有益的。由此，根據(jù)本發(fā)明的第七個(gè)方面，提供了一種處理顯示的圖形的方法，包括將待渲染的圖形碎片與覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，所述覆蓋掩碼用于指示每個(gè)碎片正被用 于渲染的被覆蓋的采樣位置；其中每個(gè)覆蓋掩碼具有多個(gè)位置，所述多個(gè)位置中的每個(gè)能夠用于指示采樣點(diǎn)是否被 覆蓋；以及能夠?qū)⑺槠羞x擇地與其中覆蓋掩碼中的每個(gè)這樣的位置表示圖像的第一數(shù)量 的采樣點(diǎn)的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，或者與其中覆蓋掩碼中的每個(gè)這樣的位置表示圖像的第二、 不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)。根據(jù)本發(fā)明的第八方面，提供一種圖形處理系統(tǒng)，包括用于將待渲染的圖形碎片與覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)的裝置，所述覆蓋掩碼用于指示每個(gè) 碎片正被用于渲染的被覆蓋的采樣位置；其中每個(gè)覆蓋掩碼具有多個(gè)位置，所述多個(gè)位置中的每個(gè)能夠用于指示采樣點(diǎn)是否被 覆蓋；以及能夠?qū)⑺槠羞x擇地與其中覆蓋掩碼中的每個(gè)這樣的位置表示圖像的第一數(shù)量 的采樣點(diǎn)的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，或者與其中覆蓋掩碼中的每個(gè)這樣的位置表示圖像的第二、 不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員所領(lǐng)會(huì)到的那樣，如果適合的話，本發(fā)明的這些方面和實(shí)施 例能夠并且優(yōu)選地包含在此描述的本發(fā)明的優(yōu)選和可選的特征中的任意一個(gè)、或多個(gè)或全部。由此，例如，每個(gè)覆蓋掩碼位置能夠優(yōu)選地表示一個(gè)或4個(gè)采樣點(diǎn)。同樣地，覆蓋掩碼 優(yōu)選地具有4位置位圖的形式。在對(duì)所有的碎片使用相同的覆蓋掩碼結(jié)構(gòu)的情況下，無論碎片表示多少采樣位 置，都優(yōu)選在覆蓋掩碼(信息)中的每個(gè)位置表示一個(gè)對(duì)應(yīng)的位置或者采樣點(diǎn)集合中的位 置集合。由此，例如，在使用4-位置覆蓋掩碼、以及可將碎片與4或16個(gè)采樣點(diǎn)相關(guān)聯(lián)的情 況下，覆蓋掩碼中的每個(gè)位置當(dāng)用于16采樣點(diǎn)碎片時(shí)，優(yōu)選地表示對(duì)應(yīng)于該位置的16-采 樣點(diǎn)集合的4個(gè)采樣點(diǎn)的四分之一(quarter)或者象限(quadrant)。除了與給定碎片所對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)的覆蓋有關(guān)的信息之外，在本發(fā)明中還可能是必 要的是提供指示例如碎片所對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合的大小和/或在例如碎片所對(duì)應(yīng)的給定采 樣掩碼內(nèi)的子集(子位置)的信息。可以按照所期望的，例如通過例如采用在現(xiàn)有碎片數(shù) 據(jù)字段中可獲得的備用容量(spare capacity)再次將信息與所討論的碎片相關(guān)聯(lián)來提供 iMin 息。盡管已經(jīng)特別參考表示16x采樣掩碼及此種掩碼的1/4的碎片的使用描述了以上 方案，但是當(dāng)然其他方案也將是可能的，并且在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中其他方案被使用。如果需要，例如，可以對(duì)碎片使用4-位(bit)位置覆蓋掩碼來以不同的方式表示 16x采樣掩碼。例如，在覆蓋掩碼中的每一位位置(bit position)不需要表示16x掩碼的 象限，但是能夠例如表示16x掩碼的行或列、或一些其他部分。具有多于一個(gè)等級(jí)的采樣掩碼的子劃分也將是可能的(并且在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例 中，這被實(shí)施)，以至于，例如，系統(tǒng)可以使用64x采樣掩碼(其然后能被表示為64x “補(bǔ)片 (patch)”)作為一個(gè)或多個(gè)16x “子補(bǔ)片”和/或作為一個(gè)或多個(gè)4x “子補(bǔ)片”等等。僅 在一個(gè)方向上實(shí)施任意采樣掩碼子劃分同樣也將是可能的(并且在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，這 被實(shí)施)，以至于如果需要，則會(huì)具有例如32x和/或8x “子補(bǔ)片”。同時(shí)，例如，可以定義指示沒有(“0”)覆蓋的覆蓋掩碼作為表示替代的另一個(gè)覆 蓋模式(代替0覆蓋)，諸如對(duì)應(yīng)于覆蓋掩碼的不同形式，其中，可能就是這樣，在實(shí)踐中 從來不會(huì)想過將具有零覆蓋的碎片發(fā)送通過渲染處理(以至于覆蓋“0”掩碼實(shí)質(zhì)上就是 “備用”覆蓋掩碼值)。將會(huì)領(lǐng)會(huì)到的是，例如，在本發(fā)明中，所應(yīng)用的采樣掩碼的給定實(shí)例可以例如被渲 染成為表示掩碼的所有采樣點(diǎn)的單個(gè)碎片，或者可以例如被渲染成一個(gè)或多個(gè)對(duì)應(yīng)于掩碼 的較小部分的碎片，或者是兩者的結(jié)合。因此，可以期望的是，確保為相關(guān)的采樣點(diǎn)生成相 同的渲染數(shù)據(jù)值(例如，合成色值)，而不管是否利用對(duì)應(yīng)于整個(gè)掩碼的單個(gè)碎片來渲染 “掩碼”。由此，在優(yōu)選實(shí)施例中，碎片的處理被配置從而使得能夠(并且將)為每個(gè)相應(yīng)的 采樣點(diǎn)生成相同的渲染碎片數(shù)據(jù)值，而不管在與用于渲染采樣點(diǎn)的碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集 合中的采樣點(diǎn)的數(shù)量(例如，并且優(yōu)選地，不管是否利用單個(gè)碎片或者作為一個(gè)或多個(gè)子 補(bǔ)片來渲染采樣掩碼的給定實(shí)例)。由此，在優(yōu)選實(shí)施例中，如果質(zhì)心映射被禁用，那么對(duì)每個(gè)碎片使用相同的重心坐 標(biāo)，而無論有多少采樣點(diǎn)在與碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合中(也就是說，以至于，尤其是，包 含比全采樣掩碼(即，其中采用較小“補(bǔ)片”來處理采樣掩碼)少的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相 關(guān)聯(lián)的碎片使用相同的重心坐標(biāo)作為表示全采樣掩碼的碎片)。這會(huì)具有如下效果每個(gè)較小“補(bǔ)片”碎片的紋理坐標(biāo)將與當(dāng)單個(gè)碎片用于采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)時(shí)相同。實(shí)際上， 這還會(huì)具有加速處理的效果，因?yàn)榧y理緩存會(huì)經(jīng)歷更多的點(diǎn)擊數(shù)(hits)。另一方面，如果允許質(zhì)心映射，那么優(yōu)選地將質(zhì)心映射單獨(dú)地應(yīng)用于每個(gè)對(duì)應(yīng)于 采樣掩碼的子集(子補(bǔ)片)的碎片。另外一個(gè)事實(shí)是一些圖形處理器渲染特定群組中(例如2x2組中)的碎片，并且 要求特定的組排列或順序，以達(dá)到例如生成諸如用于導(dǎo)出派生物(derivatives)的數(shù)據(jù)以 用于渲染處理的目的。在這種情況下，其中渲染每一個(gè)都對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的子集的碎片，于 是必要時(shí)，優(yōu)選地在適當(dāng)?shù)娜航M(例如，2x2組)中通過渲染處理來處理碎片，其中每個(gè)群組 例如在組中的適當(dāng)位置中例如包括表示來自每個(gè)相應(yīng)的原始采樣掩碼的采樣點(diǎn)的碎片，以 便保存正確的數(shù)據(jù)(例如派生物生成結(jié)果)。可替換地或附加地，待渲染的一個(gè)或多個(gè)碎片上可以包括附加信息(數(shù)據(jù))(例如 通過將該數(shù)據(jù)放置在待渲染碎片的冗余采樣點(diǎn)位置中)以允許當(dāng)渲染碎片時(shí)仍然能導(dǎo)出 正被渲染的碎片所需的數(shù)據(jù)，諸如派生物，其可能依賴于其他碎片或采樣掩碼應(yīng)用等。可以以任意適當(dāng)?shù)暮退谕姆绞絹韴?zhí)行本發(fā)明中的碎片的產(chǎn)生和渲染，并且本 發(fā)明中的碎片的產(chǎn)生和渲染可以包含例如任意適當(dāng)?shù)暮退谕墓鈻呕?rasterising) 以及然后是渲染處理。例如，該渲染處理可以包括碎片著色(fragmentshading)、混合、紋理 映射等等。同樣，可以以任意適當(dāng)?shù)暮退谕姆绞絹韴?zhí)行給單個(gè)或多個(gè)碎片等“分配”采樣 掩碼。優(yōu)選地，這作為光柵化處理的一部分或者在光柵化之后，但在碎片進(jìn)入“著色”(渲 染)管線之前執(zhí)行，因?yàn)檫@將會(huì)變得更方便。正如本領(lǐng)域所已知的那樣，為每個(gè)碎片和采樣點(diǎn)確定和存儲(chǔ)的渲染碎片數(shù)據(jù)應(yīng)當(dāng) 被存儲(chǔ)在適當(dāng)?shù)牟蓸訑?shù)據(jù)陣列中。這個(gè)陣列應(yīng)當(dāng)，正如本領(lǐng)域知曉的那樣，表示例如采樣位 置的二維陣列，其之后能被適當(dāng)?shù)靥幚硪岳顼@示像素的2D陣列。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員所領(lǐng)會(huì)到的那樣，本發(fā)明比如以16x采樣而不是4x采樣來用 于處理圖像，這將會(huì)導(dǎo)致渲染碎片數(shù)據(jù)4倍于采樣位置?？紤]到這個(gè)，簡(jiǎn)單地增加渲染碎片數(shù)據(jù)陣列的大小將會(huì)是可能的。然而，在一個(gè)優(yōu) 選實(shí)施例中，其中采用了較高的采樣率，以壓縮的形式存儲(chǔ)渲染碎片數(shù)據(jù)。這能夠避免增加 渲染碎片數(shù)據(jù)陣列大小的需求，但是仍然不應(yīng)當(dāng)對(duì)輸出圖像質(zhì)量太有害，因?yàn)閴嚎s將會(huì)處 于子顯示像素等級(jí)并且所以任意壓縮贗像將僅會(huì)非常少地繼承顯示像素等級(jí)。在這里我們應(yīng)當(dāng)注意，正如從以上能夠領(lǐng)會(huì)到的那樣，本發(fā)明涉及產(chǎn)生和渲染碎 片以便為各個(gè)采樣點(diǎn)產(chǎn)生渲染的圖形數(shù)據(jù)(而不是，例如為了顯示該數(shù)據(jù)而讀取已經(jīng)生成 的采樣數(shù)據(jù)的處理)。于是，正如本領(lǐng)域所已知的那樣，如此生成的渲染數(shù)據(jù)會(huì)如上所述地 被存儲(chǔ)在諸如區(qū)塊(tile)和/或幀緩沖器之類的適當(dāng)?shù)木彌_器或采樣數(shù)據(jù)陣列中，用于隨 后向顯示設(shè)備供應(yīng)。正如本領(lǐng)域所已知的那樣，如果需要，可能會(huì)存在以固定或以可變形式 的、從采樣緩沖器到幀緩沖器和/或輸出顯示的下采樣。將領(lǐng)會(huì)到的是，因?yàn)榇@示圖像通常會(huì)由多個(gè)圖元組成，所以在實(shí)踐中將會(huì)為組 成圖像的每個(gè)圖元重復(fù)本發(fā)明的方法，從而使得最終為顯示整個(gè)圖像(或者，例如在基于 區(qū)塊的渲染系統(tǒng)中的圖像的相關(guān)部分)所需的圖像的每個(gè)采樣點(diǎn)生成了適當(dāng)?shù)匿秩舅槠?數(shù)據(jù)集合，然后其數(shù)據(jù)可以例如被下采樣用于顯示。優(yōu)選地，在被采樣的整個(gè)圖像上應(yīng)用相
14同大小的采樣掩碼?？梢詫⒔o定的圖形處理器配置為一直以本發(fā)明的方式來運(yùn)行。然而，在優(yōu)選實(shí)施 例中，方案是這樣，以使得能夠可選擇地將圖形處理器設(shè)置為以本發(fā)明的方式來運(yùn)行。最優(yōu)選地，圖形處理器能夠以本發(fā)明的方式來運(yùn)行，或者能夠采用每個(gè)碎片的固 定的采樣點(diǎn)集合來渲染圖像。例如，在一個(gè)特別優(yōu)選實(shí)施例中，可以以本發(fā)明的方式運(yùn)行的 圖形處理器能夠被可選擇地配置為采用4x采樣掩碼(該情況下將不使用本發(fā)明)或者采 用16x采樣掩碼(在該情況下使用本發(fā)明)來處理顯示的圖像。最優(yōu)選地，能夠通過正調(diào)用圖形處理的應(yīng)用程序來設(shè)置這些不同的操作模式。于 是，這將允許例如應(yīng)用程序開發(fā)者在比如“普通”4x多點(diǎn)采樣或采用本發(fā)明的16x多點(diǎn)采樣 之間進(jìn)行選擇。事實(shí)上，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于其不需要對(duì)處理器的硬件做出明顯的改變就便 利了采用不同的多點(diǎn)采樣等等、速率。在一個(gè)特別優(yōu)選實(shí)施例中，在單個(gè)圖形處理平臺(tái)上實(shí)施本發(fā)明的各種功能，所述 圖形處理平臺(tái)產(chǎn)生并輸出被寫到顯示設(shè)備的幀緩沖器的數(shù)據(jù)。本發(fā)明適用于任意形式或配置的渲染器，諸如具備“管線”布置的渲染器(在這種 情況下，渲染器將具有渲染管線的形式)。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，這被應(yīng)用于硬件圖形渲染 管線。例如，并且優(yōu)選地，通過合適的功能單元、處理邏輯、處理器、電路、處理電路、微處理 器裝置等等，能夠按照期望來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的各種功能和元件等。盡管本發(fā)明特別適用于采用延遲模式渲染的圖形渲染器并且尤其是基于區(qū)塊的 渲染器，但是本發(fā)明適用于所有形式的渲染，諸如即時(shí)模式渲染、延遲模式渲染、基于區(qū)塊 的渲染等等。就像將會(huì)從以上所領(lǐng)會(huì)到的那樣，盡管不是排他地，但是本發(fā)明特別適用于3D圖 形處理器和處理設(shè)備，并且相應(yīng)地?cái)U(kuò)展到3D圖形處理器和3D圖形處理平臺(tái)，所述3D圖形 處理平臺(tái)包括根據(jù)在此描述的本發(fā)明的任意一個(gè)或多個(gè)方面的裝置或者根據(jù)在此描述的 本發(fā)明的任意一個(gè)或多個(gè)方面進(jìn)行操作的裝置。關(guān)于執(zhí)行以上所討論的特定功能所必需的 任意硬件的問題，此種3D圖形處理器另外可以包括3D圖形處理器所包括的任意一個(gè)或多 個(gè)或者所有的通用的功能單元等等。同樣地，本發(fā)明擴(kuò)展到2D圖形處理器和2D圖形處理。本領(lǐng)域技術(shù)人員同樣將領(lǐng)會(huì)到，本發(fā)明的所有實(shí)施例和所描述的方面可以，并且 優(yōu)選地，酌情包括在此描述的任意一個(gè)或多個(gè)或者所有的優(yōu)選和可選特征。至少部分地采用軟件(例如計(jì)算機(jī)程序)，可以實(shí)施根據(jù)本發(fā)明的方法。于是我們 將會(huì)看到，當(dāng)從更進(jìn)一步的方面看時(shí)，本發(fā)明提供了當(dāng)被安裝在數(shù)據(jù)處理裝置中時(shí)特別適 于執(zhí)行在此描述的方法的計(jì)算機(jī)軟件、包含當(dāng)程序組件在數(shù)據(jù)處理裝置上運(yùn)行時(shí)用于執(zhí)行 在此描述的方法的計(jì)算機(jī)軟件代碼部分的計(jì)算機(jī)程序組件，以及包含適于當(dāng)程序在數(shù)據(jù)處 理系統(tǒng)上運(yùn)行時(shí)執(zhí)行方法或在此描述的方法的所有步驟的代碼裝置的計(jì)算機(jī)程序。數(shù)據(jù)處 理器可以是微處理器系統(tǒng)、可編程FPGA(現(xiàn)場(chǎng)可編程門陣列)等等。本發(fā)明還擴(kuò)展到包含此種軟件的計(jì)算機(jī)軟件載體，當(dāng)利用該種軟件操作包含數(shù)據(jù) 處理裝置的圖形處理器、渲染器或微處理器系統(tǒng)時(shí)引起所述數(shù)據(jù)處理裝置、所述處理器、渲 染器或系統(tǒng)協(xié)力來執(zhí)行本發(fā)明方法的步驟。此種計(jì)算機(jī)軟件載體可以是物理存儲(chǔ)介質(zhì)(例 如ROM芯片、CD ROM或磁盤)，或者可能是一種信號(hào)(例如電線上的電信號(hào)、光信號(hào)或者無線信號(hào)(例如到衛(wèi)星等))。將會(huì)更進(jìn)一步地領(lǐng)會(huì)到，并不是本發(fā)明的方法的所有步驟都必須由計(jì)算機(jī)軟件來 執(zhí)行，并且由此，從更寬泛的方面來看，本發(fā)明提供了計(jì)算機(jī)軟件以及在計(jì)算機(jī)軟件載體上 安裝的、用于執(zhí)行在此提出的方法的至少一個(gè)步驟的該軟件。因此，本發(fā)明可以適于被體現(xiàn)為用于與計(jì)算機(jī)系統(tǒng)一起使用的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。 該實(shí)施方式可以包含一系列固定在有形介質(zhì)上(例如計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，例如磁碟、CD-ROM、 ROM或硬盤)的計(jì)算機(jī)可讀指令，或者經(jīng)由調(diào)制解調(diào)器或其他接口設(shè)備經(jīng)過有形介質(zhì)(包括 但不限于光或模擬通信線路)或采用無線技術(shù)的無形事物(包括但不限于微波、紅外線或 其他傳輸技術(shù))可傳輸至計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)可讀指令。該計(jì)算機(jī)可讀指令序列體現(xiàn)了在 此先前描述的全部或部分功能。本領(lǐng)域技術(shù)人員將領(lǐng)會(huì)到，可以以大量的用于與很多計(jì)算機(jī)體系結(jié)構(gòu)或操作系統(tǒng) 一起使用的編程語言來編寫這樣的計(jì)算機(jī)可讀指令。更進(jìn)一步，可以采用任意的現(xiàn)在的或 將來的存儲(chǔ)技術(shù)來存儲(chǔ)這樣的指令，所述存儲(chǔ)技術(shù)包括但并不限于半導(dǎo)體、磁的或光的，或 者可以采用任意的現(xiàn)在的或?qū)淼耐ㄐ偶夹g(shù)來傳輸這樣的指令，所述通信技術(shù)包括但并不 限于光的、紅外線或微波?？梢灶A(yù)期的是，這樣的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品可以作為具有附隨的印刷 或電子文檔的可移動(dòng)介質(zhì)(例如，收縮包裝軟件)發(fā)布、被預(yù)先裝載在計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中(例 如，在系統(tǒng)ROM或固定盤上)或者從服務(wù)器或電子公告板通過網(wǎng)絡(luò)(例如，因特網(wǎng)或萬維 網(wǎng))發(fā)布。


僅通過示例的方式并且參考附圖來描述本發(fā)明的多個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，在附圖中圖1示意性地示出了鋸齒效應(yīng)；圖2示意性地示出了超級(jí)采樣抗鋸齒技術(shù)；圖3示意性地示出了待顯示的圖像；圖4示出了示范性的用于本發(fā)明實(shí)施例中的采樣模式；圖5示出了可以根據(jù)本發(fā)明操作的圖形處理平臺(tái)的實(shí)施例；圖6示出了圖3的像素的放大圖；圖7圖解說明了與在本發(fā)明實(shí)施中將要渲染的碎片相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)；圖8示意性地示出了本發(fā)明實(shí)施例中的、碎片與不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的集合的關(guān) 聯(lián)；圖9圖解說明了與在本發(fā)明實(shí)施例中將要渲染的碎片相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)；以及圖10和11示意性地示出了本發(fā)明的更進(jìn)一步優(yōu)選的方案。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在，將會(huì)在處理顯示的3D圖形的情況下說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。然而，正如 本領(lǐng)域技術(shù)人員將領(lǐng)會(huì)到的那樣，本發(fā)明不限于處理3D圖形并且還有其他的應(yīng)用。正如本領(lǐng)域所已知的那樣，且如上所述，當(dāng)將要顯示3D圖形圖像時(shí)，其首先通常 被定義為一系列圖元(多邊形)，該圖元然后被依次劃分(光柵化)為圖形碎片用于圖形渲 染。在普通的3D圖形渲染操作期間，渲染器會(huì)修改與每個(gè)碎片相關(guān)的(例如)色彩(紅、
16綠和藍(lán)，RGB)和透明度(阿爾法，a)數(shù)據(jù)，以使碎片能夠被正確地顯示。一旦碎片已經(jīng)完全 經(jīng)過渲染器，則在存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)它們的相關(guān)聯(lián)數(shù)據(jù)值，為輸出用于顯示作準(zhǔn)備。特別地，本發(fā)明涉及當(dāng)顯示圖形圖像時(shí)使抗鋸齒操作更為便利。正如本領(lǐng)域所已 知的那樣，通過得到待顯示圖像的多個(gè)采樣并且然后將那些采樣下采樣到顯示的輸出分辨 率來實(shí)施抗鋸齒。示意性地示出了在本實(shí)施例中采用的基本抗鋸齒方案的圖3示出了采樣掩碼34 到待顯示圖像的重復(fù)應(yīng)用。采樣掩碼34的每個(gè)應(yīng)用對(duì)應(yīng)于圖像的像素，就像它將被顯示那 樣。正如本領(lǐng)域所已知的那樣，每個(gè)采樣掩碼包括采樣點(diǎn)集合，所述采樣點(diǎn)集合將用 于采樣所討論的輸出像素的圖像，并且相應(yīng)地確定在最終的顯示上將如何顯示像素。在本實(shí)施例中，采樣掩碼34的每一個(gè)實(shí)例可以取16個(gè)采樣點(diǎn)或可以取圖像的4 個(gè)采樣點(diǎn)。示出了這些采樣掩碼的展開圖的圖4圖解說明了這一點(diǎn)。圖4示出了 2個(gè)16x采樣掩碼37、38，它們中的每一個(gè)都表示16個(gè)采樣位置35的 陣列。第一掩碼37具有采樣位置35的有序柵格，而第二掩碼38具有采樣位置的旋轉(zhuǎn)的柵 格。圖4還示出了兩個(gè)對(duì)應(yīng)的4x采樣掩碼39 (具有有序的柵格)、34 (具有旋轉(zhuǎn)的柵格)， 其每一個(gè)都表示4個(gè)采樣位置36的集合。正如將會(huì)在以下進(jìn)一步討論的那樣，在本實(shí)施例中，可以采用圖4中示出的4x采 樣掩碼中的任一個(gè)或16x采樣掩碼中的任一個(gè)來處理圖像。圖3還示出了以單個(gè)圖元32的形式覆蓋在采樣掩碼陣列30上的圖像。(將領(lǐng) 會(huì)到的是，為了簡(jiǎn)便起見，在圖3中將圖像顯示為包含單個(gè)圖元，并且如本領(lǐng)域所已知的那 樣，在實(shí)踐中圖像可以、并且通常會(huì)包含很多重疊、圖元)。正如可以從圖3看到的那樣，圖 元32完全地疊加在采樣掩碼陣列30中的某些采樣掩碼上面，但僅穿過其他采樣掩碼的某 些的部分。實(shí)質(zhì)上，為了處理圖像的圖元32，渲染系統(tǒng)將在光柵化階段確定每個(gè)采樣掩碼應(yīng) 用的每個(gè)采樣點(diǎn)集合中的哪些采樣點(diǎn)被圖元32覆蓋，并且然后為那些被覆蓋的采樣點(diǎn)渲 染和存儲(chǔ)數(shù)據(jù)，以使得圖元32的圖像能被適當(dāng)?shù)仫@示在顯示設(shè)備上?，F(xiàn)在將參考圖5來描述在本實(shí)施例中以這種方式處理圖元32的圖像以用于顯示， 圖5示意性地示出了能夠根據(jù)本發(fā)明操作的3D圖形處理平臺(tái)的實(shí)施例。在圖5中示出的 3D圖形處理平臺(tái)是基于區(qū)塊的渲染器，雖然如本領(lǐng)域技術(shù)人員將領(lǐng)會(huì)到的那樣，可以采用 其他的渲染裝置(并且事實(shí)上，本發(fā)明還可以同等地用于二維圖形處理)。在圖5中示出的圖形處理平臺(tái)包括光柵化器(raSteriSer)50，其接收用于渲染的 圖形圖元，以及將圖元數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為用于渲染圖元的具有適當(dāng)位置的圖形碎片。之后，還有具有渲染管線形式的渲染器51，其接收來自光柵化器50的用于渲染的 圖形碎片，并且對(duì)那些圖形碎片應(yīng)用多個(gè)渲染操作(例如紋理映射、霧化、混合等等)，來為 碎片的顯示生成適當(dāng)?shù)乃槠瑪?shù)據(jù)。在渲染管線的區(qū)塊緩沖器52中存儲(chǔ)來自渲染器51的渲 染碎片數(shù)據(jù)以用于隨后的處理。正如本領(lǐng)域所已知的那樣，區(qū)塊緩沖器(tile buffer) 52存儲(chǔ)表示待顯示圖像的 部分的碎片數(shù)據(jù)陣列。一旦處理完每個(gè)區(qū)塊，它的數(shù)據(jù)將會(huì)被輸出至適當(dāng)?shù)拇鎯?chǔ)器，并且之 后處理下一個(gè)區(qū)塊，諸如此類，直到已經(jīng)處理了足夠的區(qū)塊來顯示整個(gè)圖像。
在本實(shí)施例中，提供了 3個(gè)區(qū)塊緩沖器52。每個(gè)區(qū)塊緩沖器以32x32陣列(即， 對(duì)應(yīng)于待顯示圖像中的采樣位置的32x32陣列)存儲(chǔ)它的碎片數(shù)據(jù)。這些區(qū)塊緩沖器可以 作為獨(dú)立的緩沖器被提供，或者實(shí)際上可以全部是同一個(gè)較大的緩沖器的部分。它們位于 (局部于)圖形處理平臺(tái)(芯片)上。正如本領(lǐng)域所已知的那樣，將來自區(qū)塊緩沖器52的數(shù)據(jù)輸入至下采樣單元53，并 且從那里輸出至顯示設(shè)備55的幀緩沖器54(其可能不在圖形處理平臺(tái)本身上)以用于在 顯示設(shè)備55上顯示。顯示設(shè)備55可以包含，例如包含像素陣列的顯示器(諸如計(jì)算機(jī)監(jiān) 視器或打印機(jī))。下采樣單元53對(duì)存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器中的碎片數(shù)據(jù)進(jìn)行下采樣以達(dá)到顯示設(shè)備55 的適當(dāng)分辨率(即，從而使得產(chǎn)生對(duì)應(yīng)于顯示設(shè)備像素的像素?cái)?shù)據(jù)陣列)。由此，例如，每個(gè)32x32數(shù)據(jù)位置區(qū)塊緩沖器將對(duì)應(yīng)于待顯示圖像中的16x16像素 陣列，其中在區(qū)塊緩沖器和顯示幀緩沖器之間采用4x下采樣(因?yàn)樵谶@種情況下每個(gè)像素 實(shí)際上會(huì)具有4個(gè)與其相關(guān)的采樣點(diǎn))。在這個(gè)實(shí)施例中，采用三個(gè)區(qū)塊緩沖器中的兩個(gè)來為每個(gè)采樣點(diǎn)存儲(chǔ)色彩(紅、 綠、藍(lán))值(采用一個(gè)區(qū)塊緩沖器用于這個(gè)目的也是可能的，但是優(yōu)選地是兩個(gè))，并且采 用一個(gè)區(qū)塊緩沖器來為每個(gè)采樣點(diǎn)存儲(chǔ)Z(深度)值和模板值。當(dāng)然，其他的方案也是可以 的。在本實(shí)施例中，不是為區(qū)塊緩沖器52中的每個(gè)單獨(dú)的采樣(數(shù)據(jù))位置(即，為 每個(gè)單獨(dú)的采樣點(diǎn))渲染分別的碎片，而是為多個(gè)采樣點(diǎn)的集合渲染一個(gè)碎片。首先將描述這個(gè)處理，其中對(duì)所要顯示的圖像應(yīng)用具有4個(gè)采樣位置的采樣掩碼 (即，4x采樣掩碼)。在這種情況下，為對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的給定應(yīng)用的每個(gè)4個(gè)采樣點(diǎn)集合渲染一個(gè)碎 片。換句話說，一次采用單個(gè)碎片來一起渲染采樣掩碼(并且相應(yīng)地圖像中的像素)的給 定應(yīng)用的采樣點(diǎn)集合的所有4個(gè)采樣點(diǎn)。然后，一旦已對(duì)碎片渲染，就將渲染碎片數(shù)據(jù)以多個(gè)備份存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器52中 的適當(dāng)采樣位置中，以便為采樣掩碼的每個(gè)單獨(dú)采樣位置提供獨(dú)立的碎片數(shù)據(jù)集合。由此，在本示例中，考慮到包含圖3中所示圖元32的圖像，光柵化器50將從圖形 處理系統(tǒng)接收那個(gè)圖元，并且之后確定圖像的哪些采樣點(diǎn)集合(即，事實(shí)上在陣列30中的 采樣掩碼34的哪些應(yīng)用)包括被圖元32覆蓋的采樣點(diǎn)。(這可以以本領(lǐng)域已知的任意適 當(dāng)方式來執(zhí)行)。然后，光柵化器50將會(huì)為被發(fā)現(xiàn)包括被圖元32覆蓋的采樣點(diǎn)的采樣掩碼 的每個(gè)應(yīng)用生成碎片。之后，其將傳送那些碎片到渲染器51中以用于渲染。圖7示意性地示出了數(shù)據(jù)70，該數(shù)據(jù)在每個(gè)碎片被渲染之前被為每個(gè)碎片生成并 通過渲染器51。如在圖7中示出的那樣，與每個(gè)碎片相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)包括，尤其是，碎片的X， y位置71 (其表示在碎片所對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合(采樣掩碼的應(yīng)用)的圖像中的χ，y位置 (實(shí)際上在圖像中的相關(guān)像素的本實(shí)施例中)，連同必需的每碎片數(shù)據(jù)72(例如碎片的色彩 (RGB)、透明度(阿爾法)、深度(Z)以及模板值)。正如本領(lǐng)域所已知的，這個(gè)每碎片(per fragment)數(shù)據(jù)72被渲染器51的渲染單元使用并且適當(dāng)?shù)匦薷囊蕴峁┧槠乃槠瑪?shù)據(jù)的 輸出集合，其之后被存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器52中。與碎片相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)70還包括具有表示在碎片所對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合(采樣掩碼)
18內(nèi)的每個(gè)采樣位置的、位陣列形式的覆蓋掩碼73。如果在光柵化階段發(fā)現(xiàn)對(duì)應(yīng)的采樣位置 被所討論的圖元覆蓋，則將位陣列覆蓋掩碼73中的每個(gè)位置設(shè)置為“1”；如果采樣位置沒 有被所討論的圖元覆蓋，則設(shè)為“0”。這允許渲染處理知道與給定碎片相關(guān)聯(lián)的哪些采樣點(diǎn) 實(shí)際上被所討論的圖元32覆蓋，從而使得渲染處理可以確保僅為被圖元所覆蓋的采樣點(diǎn) 利用(和例如存儲(chǔ))碎片的渲染碎片數(shù)據(jù)。這是必要的，因?yàn)檎鐝膱D3可以看到的那樣并不是用于采樣掩碼34的應(yīng)用的 采樣點(diǎn)集合的所有采樣點(diǎn)都會(huì)必然被圖元覆蓋。例如，正如在圖6 (其示出了與所要渲染的圖元32相關(guān)的、圖3中的采樣掩碼應(yīng)用 (像素)33的采樣點(diǎn)集合的放大視圖)中所描述的那樣，可以看出就采樣掩碼33的4個(gè)采 樣點(diǎn)的集合來說，圖元32覆蓋了采樣點(diǎn)43和44，但是該圖元沒有覆蓋采樣點(diǎn)45和46。因此，光柵化器50將為采樣掩碼33的采樣位置集合生成用于渲染的碎片，因?yàn)槟?個(gè)采樣位置集合包括兩個(gè)被圖元32覆蓋的采樣位置43、44。然而，由于圖元32僅覆蓋了采 樣位置43、44，所以應(yīng)當(dāng)針對(duì)那些采樣位置而不是針對(duì)采樣位置45和46來將渲染碎片數(shù)據(jù) 僅存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器52中。因此，針對(duì)圖6中示出的采樣掩碼(像素)33的采樣位置集合，光柵化器將生成 “0101”形式的覆蓋掩碼73(如在圖7中所示出的那樣)以指示碎片70正在渲染采樣位置 43和44，但是該碎片并沒有在渲染采樣位置45和46 (因?yàn)閳D元32沒有覆蓋它們)。由此，當(dāng)光柵化器50接收到用于渲染的圖元32時(shí)，它會(huì)首先確定陣列30的哪些 采樣點(diǎn)集合(采樣掩碼)包括被圖元32覆蓋的采樣點(diǎn)，并且為那些采樣點(diǎn)集合的每一個(gè)生 成碎片，所述碎片使其自己與圖7中所示出形式的數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)。之后，每個(gè)碎片將被依次通過渲染器51以用于渲染。在本實(shí)施例中，發(fā)送碎片至 渲染器51以用于以2x2碎片的塊進(jìn)行渲染，即，從而使得渲染引擎有效地以4碎片塊、2碎 片寬乘2碎片高來處理碎片。當(dāng)然，其他的方案(例如在渲染器中逐一地處理碎片)也是 可以的。正如本領(lǐng)域已知的那樣，渲染器51將在它所接收的碎片上執(zhí)行渲染操作。例如， 這些渲染操作會(huì)包括修改碎片的色彩(RGB)和透明度(A)值來為每個(gè)碎片提供最后的渲染 碎片數(shù)據(jù)。在本實(shí)施例中，渲染器51包括紋理映射階段，所述階段基于與每個(gè)碎片相關(guān)聯(lián) 的紋理位置數(shù)據(jù)(s，t)(這在圖7中并未示出)來執(zhí)行紋理映射處理。在本實(shí)施例中，根據(jù)共同地將碎片用于渲染的被覆蓋采樣點(diǎn)在圖像中的定位(位 置)，來選擇在圖像中的、紋理映射處理用以確定將被應(yīng)用于碎片的紋理(色彩)的位置， 即，采用“加權(quán)的”紋理采樣位置。當(dāng)然，其他的紋理采樣位置方案也是可以的。例如，可以簡(jiǎn)單地在所討論的采樣圖 案(sampling pattern)的中心執(zhí)行全紋理查找(all texture look-ups)。這里將領(lǐng)會(huì)到，因?yàn)槊總€(gè)碎片都經(jīng)歷了單個(gè)紋理查找，所以在本實(shí)施例中與每個(gè) 碎片相對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合會(huì)共同經(jīng)歷單個(gè)紋理查找(即，對(duì)與碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合的 所有采樣點(diǎn)使用紋理操作)，即，以多點(diǎn)采樣的方式來有效地處理采樣點(diǎn)集合。一旦碎片已被渲染，它們的數(shù)據(jù)需要被適當(dāng)?shù)卮鎯?chǔ)在區(qū)塊緩沖器52中。依據(jù)本 實(shí)施例，將每個(gè)所渲染碎片的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器陣列中的適當(dāng)?shù)囊粋€(gè)或多個(gè)采樣位置 中，正如與每個(gè)碎片相關(guān)聯(lián)的覆蓋掩碼73所指示的那樣。由此，在圖7中所示例的碎片70的情況下，例如，將該碎片的渲染數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器52中的兩個(gè)采樣位置中，而不是 在其他的、與碎片70相關(guān)聯(lián)的兩個(gè)采樣位置中。如上所述，存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器52中的碎片數(shù)據(jù)包含每個(gè)采樣位置的色彩(RGB)、 透明度(A)、深度(Z)和模板值。可以以任意適合的形式來存儲(chǔ)該數(shù)據(jù)。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員將領(lǐng)會(huì)到的那樣，將被存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器中的新渲染碎片數(shù) 據(jù)可以并且通常會(huì)需要與已經(jīng)存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器中的數(shù)據(jù)混合，正如本領(lǐng)域所知的那樣。 由此，在采用給定碎片來共同渲染多于一個(gè)采樣位置的情況下(即，從而使得來自碎片的 數(shù)據(jù)將被存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器中的多個(gè)采樣位置中)，于是應(yīng)當(dāng)以適當(dāng)?shù)姆绞絹韴?zhí)行這個(gè)混 合操作以達(dá)到此，即，將新渲染碎片數(shù)據(jù)適當(dāng)?shù)鼗旌系絽^(qū)塊緩沖器中的每個(gè)適當(dāng)?shù)牟蓸游?置中。由此，例如，可以例如以適當(dāng)?shù)亍安⑿械摹狈绞絹韴?zhí)行混合操作以將渲染碎片數(shù)據(jù)混 合到多個(gè)、并行的區(qū)塊緩沖器中。一旦對(duì)所有涉及圖元32的碎片完成這個(gè)處理，之后就可以對(duì)圖像的接下來的圖 元重復(fù)這個(gè)處理(因?yàn)?，如上所述，圖像通常將會(huì)由多個(gè)圖元而不僅是單個(gè)圖元32構(gòu)成)。 對(duì)圖像的所有圖元重復(fù)上述處理，直到區(qū)塊緩沖器52已經(jīng)將適當(dāng)?shù)臄?shù)據(jù)存儲(chǔ)在每一個(gè)它 們的采樣位置中。之后，正如本領(lǐng)域所知的那樣，可以將區(qū)塊緩沖器中存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)輸出至下采樣單 元53以用于下采樣以及接下來向幀緩沖器54輸出以用于顯示?？梢砸匀我膺m合的方式來 實(shí)施這個(gè)下采樣。在本實(shí)施例中，采用數(shù)據(jù)的線性混合來下采樣它。然而，如果期望，其他 的方案也是可行的。在這個(gè)方案中，下采樣單元53將提供4x下采樣采樣操作，即，以使存儲(chǔ)在區(qū)塊緩 沖器52中的4個(gè)數(shù)據(jù)條目(即2x2采樣位置)將被下采樣為幀緩沖器54的單個(gè)輸出數(shù)據(jù) 值(像素)。這是下采樣單元53的普通操作模式，因?yàn)樗鼤?huì)獲取對(duì)應(yīng)于為輸出圖像的每個(gè) 像素(如圖3中所示)獲取的4個(gè)采樣的4個(gè)采樣值(因?yàn)檎谑褂?x采樣掩碼)，并且 將其下采樣成單個(gè)值。在這個(gè)方案中，相應(yīng)地將會(huì)將32x32陣列區(qū)塊緩沖器52下采樣為 (并且對(duì)應(yīng)于)幀緩沖器54中的16x16像素陣列。如果需要，下采樣單元53還可以對(duì)其輸出至幀緩沖器54的數(shù)據(jù)應(yīng)用適當(dāng)?shù)馁ゑR 校正，或者這可以例如作為碎片著色操作來執(zhí)行，或以任何其他適合的和所期望的方式來 執(zhí)行。在待顯示的圖像包含多個(gè)、重疊的圖元的情況下，正如本領(lǐng)域所知的那樣，對(duì)于渲 染處理而言還必要的是確定事實(shí)上是否會(huì)在給定的采樣點(diǎn)處實(shí)際地看到任何給定的圖 元。在本實(shí)施例中，正如本領(lǐng)域所知的那樣，當(dāng)渲染碎片時(shí)通過為碎片比較深度(Z)值來 執(zhí)行這一點(diǎn)。特別地，當(dāng)要渲染新的碎片時(shí)，將與該碎片相關(guān)聯(lián)的深度(Z)值與碎片所對(duì)應(yīng) 的、已經(jīng)為區(qū)塊緩沖器52中的采樣位置存儲(chǔ)的碎片數(shù)據(jù)的深度值進(jìn)行比較，并且如果該比 較指示將看不見新的碎片，那么將不會(huì)再進(jìn)一步處理新的碎片。另一方面，如果深度值的比 較指示事實(shí)上在區(qū)塊緩沖器52中的當(dāng)前存儲(chǔ)碎片的地方可以看見新的碎片，則渲染新的 碎片，并且它的渲染碎片數(shù)據(jù)被存儲(chǔ)以取代區(qū)塊緩沖器52中的適當(dāng)采樣位置的現(xiàn)有數(shù)據(jù)。以上描述了當(dāng)對(duì)待顯示圖像應(yīng)用4x采樣掩碼時(shí)，本實(shí)施例的操作。然而，如上所 述，在本實(shí)施例中，當(dāng)采樣待顯示圖像時(shí)還可以采用16x采樣掩碼?，F(xiàn)在將描述當(dāng)采用16x 采樣掩碼時(shí)，本實(shí)施例的操作。
在本實(shí)施例中，當(dāng)采用16x采樣掩碼來采樣圖像時(shí)，圖形處理器的操作實(shí)質(zhì)上與 如上所述的采用4x采樣掩碼的情況相同。由此，對(duì)圖像應(yīng)用采樣掩碼、獲取采樣、生成并渲 染碎片，從而為每個(gè)被覆蓋的采樣位置生成渲染碎片數(shù)據(jù)，以及適當(dāng)?shù)貙?duì)所渲染的采樣進(jìn) 行下采樣，以提供輸出像素用于顯示。由此，若無其他的指示，當(dāng)采用16x采樣掩碼時(shí)圖形處理系統(tǒng)的操作與采用4x采 樣掩碼時(shí)的操作是相同的。因此，下面的描述將著眼于上述兩種操作模式之間的區(qū)別。在本實(shí)施例中當(dāng)采用16x采樣掩碼時(shí)在操作上的關(guān)鍵區(qū)別在于給定碎片在被渲 染時(shí)可以與16x采樣掩碼的給定應(yīng)用的所有16個(gè)采樣位置相關(guān)聯(lián)，或者它可以僅與16x采 樣掩碼的4個(gè)采樣位置相關(guān)聯(lián)。特別地，為了將它的采樣點(diǎn)與將被渲染的碎片相關(guān)聯(lián)，16x采樣掩碼可以被劃分為 2級(jí)層級(jí)，即第一級(jí)和第二級(jí)，在第一級(jí)中，碎片與16x采樣掩碼的所有16個(gè)采樣點(diǎn)相關(guān)聯(lián)， 在第二級(jí)中，碎片僅與16x采樣掩碼的4個(gè)采樣點(diǎn)相關(guān)聯(lián)。于是，正如以上所述的那樣，其效果在于，對(duì)于采樣掩碼的任意給定應(yīng)用，例如，如 果正被采樣的圖元完全覆蓋了采樣掩碼，那么可以采用對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的所有16個(gè)采樣 點(diǎn)的單個(gè)碎片來渲染采樣掩碼，反之，如果圖元僅僅是部分地覆蓋采樣掩碼，那么例如，其 可以被細(xì)分為更小的補(bǔ)片并采用單獨(dú)的碎片來渲染它，所述補(bǔ)片中的每一個(gè)對(duì)應(yīng)于16x采 樣掩碼的4個(gè)采樣位置。由此，將完全被覆蓋的采樣掩碼渲染為單個(gè)碎片，而部分被覆蓋的 采樣掩碼可能最終成為1到4個(gè)碎片。在光柵化階段，圖形處理器確定由經(jīng)采樣(光柵化)的圖元(圖像)對(duì)采樣掩碼 的每個(gè)應(yīng)用的覆蓋，并且之后基于由經(jīng)采樣的圖元對(duì)16x采樣掩碼的采樣位置的覆蓋，來 可選擇地將每個(gè)采樣掩碼應(yīng)用的采樣位置處理和渲染為對(duì)應(yīng)于采樣掩碼的所有16個(gè)采樣 位置的單個(gè)碎片，或者處理和渲染為對(duì)應(yīng)于16x采樣掩碼的4個(gè)采樣位置的一個(gè)或多個(gè)碎 片，或者處理和渲染為對(duì)應(yīng)于所有16個(gè)采樣位置的碎片和對(duì)應(yīng)于4個(gè)采樣位置的一個(gè)或多 個(gè)碎片的組合。圖8描述了這個(gè)處理并且示出了 16x采樣掩碼的給定應(yīng)用的不同覆蓋的實(shí)例，以 及與待渲染碎片相關(guān)聯(lián)的對(duì)應(yīng)采樣點(diǎn)“補(bǔ)片”來渲染采樣掩碼的采樣位置。在圖8中，等級(jí)“0”的輸出補(bǔ)片表示與16x采樣掩碼的所有16個(gè)采樣位置相關(guān)聯(lián) 的碎片。等級(jí)“1”的輸出補(bǔ)片表示與16x采樣掩碼的4個(gè)采樣位置相關(guān)聯(lián)的碎片。正如在 圖8中所示出的那樣，在本實(shí)施例中，每個(gè)等級(jí)1(4個(gè)采樣位置)的碎片對(duì)應(yīng)于16x采樣掩 碼的特定象限。由此，正如圖8中的第一個(gè)實(shí)例80所示出的那樣，如果正被采樣的圖元完全覆蓋 了 16x采樣掩碼81，那么將采樣掩碼渲染為單個(gè)等級(jí)0的輸出補(bǔ)片，S卩，渲染為對(duì)應(yīng)于采樣 掩碼81的所有16個(gè)采樣點(diǎn)的單個(gè)碎片82。在這種情況下，正如在圖8中所示出的那樣，因 為所有采樣位置均被覆蓋，所以將碎片82表示為其所有采樣位置被覆蓋。在圖8中示出的第二個(gè)實(shí)例83中，覆蓋了 16x采樣掩碼84的下半部。在這種情 況下，可以采用對(duì)應(yīng)于采樣掩碼84的所有16個(gè)采樣點(diǎn)的單個(gè)等級(jí)0的碎片85來再次渲染 采樣掩碼84，但是在這種情況下，如圖8中所示，與碎片85相關(guān)聯(lián)的覆蓋信息指示僅覆蓋采 樣掩碼的下半部。圖8中的實(shí)例86示出了類似的情況，但是在這種情況下，覆蓋了 16x采樣掩碼87
21的右側(cè)。在這種情況下，再次將采樣掩碼渲染為對(duì)應(yīng)于采樣掩碼87的所有16個(gè)采樣點(diǎn)的 單個(gè)碎片88，但是與碎片88相關(guān)聯(lián)的覆蓋信息指示覆蓋采樣掩碼的右半部分。在圖8中示出的下一個(gè)實(shí)例90中，再次部分地覆蓋16x采樣掩碼89，但是在這種 情況下，覆蓋是這樣的沒有完全覆蓋采樣掩碼89的四分之一(象限)。在這種情況下，通 過產(chǎn)生兩個(gè)等級(jí)1的碎片91、92來相應(yīng)地渲染采樣掩碼89，所述碎片中的每一個(gè)對(duì)應(yīng)于被 覆蓋的采樣位置所位于的采樣掩碼89的各個(gè)下四分之一(lower quarter)的4個(gè)采樣點(diǎn)。 碎片91對(duì)應(yīng)于四分之一 93，而碎片92對(duì)應(yīng)于四分之一 94。這里不需要生成用于渲染采樣 掩碼89的上半部分的碎片，因?yàn)椴蓸友诖a的該部分沒有被覆蓋。在圖8中的實(shí)例95示出了另一種情況，其中采樣掩碼96被部分地覆蓋。在這種情況下，除了采樣掩碼96的上部左側(cè)四分之一之外的所有部分均被完全 覆蓋，并且因此可以采用適當(dāng)?shù)牡燃?jí)0(即，16個(gè)采樣點(diǎn))的碎片97來渲染那些采樣位置， 正如在圖8中所示出的那樣。然后，采用單個(gè)等級(jí)1 (4個(gè)采樣點(diǎn))的碎片98來渲染被部分覆蓋的采樣掩碼97 的上部左側(cè)四分之一。再次，可以從圖8看到與碎片97、98相關(guān)聯(lián)的覆蓋信息指示對(duì)應(yīng)于 碎片的哪些采樣位置被圖元覆蓋。(此處應(yīng)當(dāng)注意到，采用圖8中的被覆蓋采樣位置的不同陰影來圖解說明用于渲 染那些采樣位置的不同的碎片等級(jí)。它并不表示由不同的圖元覆蓋采樣位置。)圖8中的實(shí)例99示出了 16x采樣掩碼100的下部右側(cè)四分之一被完全覆蓋，但是 剩余的其他四分之一僅被部分地覆蓋的情況。在這種情況下，采用等級(jí)0(16個(gè)采樣位置) 的碎片101來渲染采樣掩碼100以渲染采樣掩碼100的下部右側(cè)四分之一的采樣位置，以 及采用三個(gè)等級(jí)1(4個(gè)采樣點(diǎn))的碎片102、103和104來渲染采樣掩碼100以渲染采樣掩 碼100的剩余的其他四分之一。圖8中的實(shí)例105再次示出了不同的情況，其中部分地覆蓋16x采樣掩碼106。在 這種情況下，沒有覆蓋采樣掩碼106的下部左側(cè)四分之一，但是剩余的其他四分之一包含 了被覆蓋的采樣點(diǎn)。通過生成三個(gè)等級(jí)1(4個(gè)采樣點(diǎn))的、對(duì)應(yīng)于包含被覆蓋采樣位置的 各個(gè)四分之一的碎片107、108和109來渲染這種情況。最后，圖8中的實(shí)例110示出了下述情況，其中完全覆蓋了 16x采樣掩碼111的右 上和左下四分之一，而其他四分之一僅被部分地覆蓋。在這種情況下，采用等級(jí)0(16個(gè)采 樣位置)的碎片112來渲染采樣掩碼111，以渲染采樣掩碼111的右上和左下四分之一的采 樣位置，以及采用兩個(gè)等級(jí)1 (4個(gè)采樣位置)的碎片113、114來渲染采樣掩碼111，以渲染 16x采樣掩碼111的其他四分之一的被覆蓋采樣位置。正如在圖8中所示出的那樣，如上所述的關(guān)于4x采樣掩碼的使用，為每個(gè)碎片指 示出所述碎片所對(duì)應(yīng)的哪些采樣位置被覆蓋是必要的。這通過如上所述及在圖7中示出的 那樣采用與每個(gè)碎片相關(guān)聯(lián)的覆蓋掩碼來完成。圖9圖解說明了這點(diǎn)。由此，例如，正如在圖9中所示出的那樣，對(duì)于對(duì)應(yīng)于16x采樣掩碼并被完全覆蓋 的碎片82而言，當(dāng)被渲染時(shí)，該碎片與覆蓋掩碼“1111”相關(guān)聯(lián)。同樣地，被部分覆蓋的碎 片85 (其表示全16x采樣掩碼)具有覆蓋掩碼“0011”，以指示采樣掩碼的下半部被覆蓋，以 及碎片88 (其也表示全16x采樣掩碼)具有作為它的覆蓋掩碼“0101”，以指示采樣掩碼的右半部被覆蓋。應(yīng)當(dāng)注意到，在這些實(shí)例的每一個(gè)中，盡管碎片表示且被用于渲染16x采樣掩碼 的全部16個(gè)采樣點(diǎn)，但是僅存在由與每個(gè)碎片相關(guān)聯(lián)的覆蓋掩碼73表示的4個(gè)覆蓋位置。 每個(gè)相應(yīng)的覆蓋掩碼位置實(shí)際上相應(yīng)地指示是否覆蓋了采樣掩碼的四分之一(象限)， 即，4個(gè)采樣點(diǎn)。為了考慮到這種可能性，覆蓋掩碼73中的給定位置實(shí)際上可以對(duì)應(yīng)于4個(gè)采樣位 置，每個(gè)碎片將其與指示字段120的等級(jí)或?qū)蛹?jí)相關(guān)聯(lián)，所述字段120被設(shè)置為“0”以指示 等級(jí)0的碎片，即，表示覆蓋掩碼的全部16個(gè)采樣點(diǎn)的碎片(并且相應(yīng)地用于其每個(gè)覆蓋 掩碼73位置表示采樣掩碼的四分之一的四個(gè)采樣點(diǎn))，或者設(shè)置為“1”以指示碎片是僅對(duì) 應(yīng)于4個(gè)采樣點(diǎn)的等級(jí)1的碎片(并且相應(yīng)地用于其在覆蓋掩碼73中的每個(gè)位置表示單 個(gè)采樣點(diǎn))。在碎片82、85和88的情況下，正如在圖9中所示出的那樣，將這個(gè)層級(jí)字段120 設(shè)置為“0”，以指示它們是對(duì)應(yīng)于且被用于渲染采樣掩碼的全部16個(gè)采樣點(diǎn)的等級(jí)0的碎 片。圖9還示出了圖8的碎片91和92的碎片數(shù)據(jù)。在這種情況下，因?yàn)樵撍槠南?半部被覆蓋，所以碎片91具有覆蓋掩碼“0011”，以及碎片92具有覆蓋掩碼“0111”。這些 碎片中的每一個(gè)還將它的層級(jí)字段120設(shè)置為“ 1 ”，以指示它們是等級(jí)1的碎片，即，碎片僅 對(duì)應(yīng)于4個(gè)采樣位置。最后，圖9還示出了被生成用于渲染圖8中示出的采樣掩碼111的碎片。在這種 情況下，正如以上所描述的那樣，存在第一、等級(jí)0的16采樣點(diǎn)碎片112，其具有覆蓋掩碼 “0110”及等級(jí)字段“0”，并且然后是兩個(gè)等級(jí)1的碎片(每一個(gè)對(duì)應(yīng)于4個(gè)采樣點(diǎn))113和 114，分別具有采樣掩碼“0001 ”和“ 1000”，并且它們的等級(jí)字段120設(shè)置為“ 1 ”?？梢钥吹剑谶@個(gè)實(shí)施例中，配置碎片數(shù)據(jù)的方式允許采用4-位覆蓋掩碼，即使 碎片可以對(duì)應(yīng)于16個(gè)采樣位置。例如，這避免了必須為這樣的碎片采用16-位覆蓋掩碼的 需要。采用附加位來指示碎片的“等級(jí)”(即，碎片對(duì)應(yīng)于多少采樣點(diǎn))，但是這仍然需要比 當(dāng)采用16-位覆蓋掩碼時(shí)更少的附加數(shù)據(jù)。為每個(gè)僅表示4個(gè)采樣點(diǎn)的等級(jí)1的碎片指示它對(duì)應(yīng)于16x采樣掩碼的哪個(gè)四分 之一(象限)也可能是必需的。例如采用為了這個(gè)目的而加入的碎片數(shù)據(jù)的特定字段中的 兩個(gè)位，或者在碎片數(shù)據(jù)的現(xiàn)有字段中的兩個(gè)位可以提供該信息。然而，盡管采用這附加的 兩個(gè)位用于指示碎片所對(duì)應(yīng)的四分之一，但是這仍然需要比對(duì)每個(gè)碎片采用全16位置覆 蓋掩碼更少的數(shù)據(jù)容量。當(dāng)然，如果期望，以不同的方式對(duì)碎片采用4-位位置覆蓋掩碼來表示16x采樣掩 碼也是可行的。例如，覆蓋掩碼中的每個(gè)位位置不需要表示16x掩碼的四分之一，但是能夠 例如表示16x掩碼的行或列或者某些其他的部分。具有多于一個(gè)等級(jí)的采樣掩碼的細(xì)分也是可行的，從而使得，例如，系統(tǒng)能夠采用 64x采樣掩碼，其于是能夠被表示為64x “補(bǔ)片”、表示為一個(gè)或多個(gè)16x “子補(bǔ)片”和/或 表示為一個(gè)或多個(gè)4x “子補(bǔ)片”等等。如果期望，僅在一個(gè)方向上做任意采樣掩碼細(xì)分也 是可行的，以便具有例如32x和/或8x “子補(bǔ)片”。此外，例如，可以將指示無(“0”)覆蓋的覆蓋掩碼定義為表示替代的另一個(gè)覆蓋模式(代替0覆蓋)，例如對(duì)應(yīng)于不同形式的覆蓋掩碼，其中，情況很可能就是如此，實(shí)際上 將不會(huì)有任何期望去將具有0覆蓋的碎片發(fā)送通過渲染處理(從而使得覆蓋“0”掩碼實(shí)質(zhì) 上是“備用的”覆蓋掩碼值)。一旦如上所述地生成并配置與圖8和9相關(guān)的、用于渲染覆蓋掩碼的每個(gè)應(yīng)用的 碎片，就以普通的方式將它們發(fā)送至渲染管線以用于渲染。一旦渲染了碎片，則以以上所描 述的方式在區(qū)塊緩沖器52中適當(dāng)?shù)卮鎯?chǔ)它們的渲染碎片數(shù)據(jù)并且最后對(duì)所述渲染碎片數(shù) 據(jù)進(jìn)行下采樣以用于顯示。在這種情況下，由于針對(duì)每個(gè)“輸出”像素會(huì)存在16個(gè)采樣位置，因此將會(huì)應(yīng)用 16x下采樣。為了使這一點(diǎn)更容易，在本實(shí)施例中，下采樣單元53被設(shè)置以使其能夠可選擇地 對(duì)存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器52中的數(shù)據(jù)應(yīng)用兩種不同等級(jí)的下采樣，即4x或16x下采樣。在這 個(gè)實(shí)施例中，在逐幀的基礎(chǔ)上設(shè)置將被應(yīng)用的下采樣的等級(jí)，并且將所述等級(jí)存儲(chǔ)在渲染 處理能夠在其接收到用于渲染的幀時(shí)查找的適當(dāng)?shù)募拇嫫髦?。在本?shí)施例的一個(gè)優(yōu)選方案中，為了在采用16x采樣掩碼時(shí)允許渲染碎片數(shù)據(jù)以 相同的像素分辨率存儲(chǔ)在區(qū)塊緩沖器中(即，使得每個(gè)區(qū)塊緩沖器仍然對(duì)應(yīng)于輸出像素的 16x16陣列，即使現(xiàn)在每個(gè)輸出像素有16個(gè)采樣，而不是每個(gè)輸出像素4個(gè)采樣(這將會(huì)是 采用4x采樣掩碼時(shí)的情況))，當(dāng)采用16x采樣掩碼時(shí)對(duì)每個(gè)采樣位置的渲染碎片數(shù)據(jù)進(jìn)行 壓縮?？梢圆捎萌我膺m合的數(shù)據(jù)壓縮技術(shù)來完成這一點(diǎn)。該壓縮意味著與采用4x采樣掩碼時(shí)相比，當(dāng)采用16x采樣掩碼時(shí)或許會(huì)存在些許 降低的質(zhì)量(例如色彩準(zhǔn)確性)，但是任何該質(zhì)量損失將處于子輸出像素等級(jí)，并因此由壓 縮導(dǎo)致的任何贗象(如果其發(fā)生的話)應(yīng)當(dāng)僅僅非常少地遺傳到輸出的像素等級(jí)。在本實(shí)施例中，當(dāng)采用16x采樣掩碼時(shí)，然后為了與全16x采樣掩碼處理相一致 (即，其中沒有像在本實(shí)施例中那樣共同地處理采樣點(diǎn))，如果質(zhì)心映射被禁止，那么將被 發(fā)送通過渲染處理的每個(gè)碎片的重心坐標(biāo)設(shè)置為是相同的。這應(yīng)當(dāng)確保每個(gè)子采樣掩碼碎 片具有與普通16x采樣所具有的相同的紋理坐標(biāo)查找(lookup)。(因?yàn)榧y理高速緩存應(yīng)當(dāng) 經(jīng)歷更多的點(diǎn)擊，故而它還會(huì)導(dǎo)致處理加速)。另一方面，如果質(zhì)心映射被啟用，那么為每個(gè)碎片單獨(dú)地執(zhí)行質(zhì)心映射(每個(gè)碎 片得到它自己的紋理坐標(biāo))。此外，正如以上所述的那樣，在本實(shí)施例中，渲染處理以2x2群組來渲染碎片。在 未啟用質(zhì)心映射的情況下，對(duì)于2x2碎片中的每一個(gè)而言向管線發(fā)送相同的子掩碼碎片可 能是不必要的，因?yàn)檎缫陨纤枋龅哪菢樱瑫?huì)為所有子掩碼碎片固定重心坐標(biāo)。然而，仍 然會(huì)需要對(duì)正被以每個(gè)2x2群組渲染的碎片進(jìn)行一些排序或配置，例如為了導(dǎo)出派生物。在這種情況下，優(yōu)選地，被處理的每個(gè)2x2碎片群組包括在群組中的適當(dāng)位置處 的、表示來自適當(dāng)?shù)南鄳?yīng)原始采樣掩碼應(yīng)用的采樣點(diǎn)的碎片，以便保持正確的例如派生物 產(chǎn)生結(jié)果(derivative generation result)?？梢酝ㄟ^適當(dāng)?shù)嘏渲霉鈻呕鱽碜鲞@個(gè)以達(dá) 到上述效果。圖10圖解說明了這一點(diǎn)，并示出了應(yīng)當(dāng)被處理為具有通過渲染處理的那種配置 的2x2群組的2x2采樣(像素)網(wǎng)格。相應(yīng)地，當(dāng)將各個(gè)采樣掩碼應(yīng)用劃分為它們的適當(dāng) 碎片(補(bǔ)片)以用于渲染時(shí)，如圖10中所示，將該碎片的每個(gè)群組配置為包括在2x2碎片
24群組中的每個(gè)相應(yīng)位置處的、對(duì)應(yīng)于用來渲染2x2采樣掩碼(像素)網(wǎng)格130中的對(duì)應(yīng)采 樣掩碼應(yīng)用的碎片。由此，例如，如圖10中所示，被處理的第一 2x2碎片群組131包括對(duì)應(yīng)于采樣掩碼 133的第一等級(jí)0的碎片132，對(duì)應(yīng)于采樣掩碼135的等級(jí)0的16采樣位置的碎片134，對(duì) 應(yīng)于采樣掩碼137的等級(jí)0的碎片136，以及對(duì)應(yīng)于采樣掩碼139的等級(jí)1 (4采樣位置)的 碎片138。類似地，將被渲染的第二 2x2碎片群組132包含對(duì)應(yīng)于采樣掩碼133的等級(jí)0的 碎片140、對(duì)應(yīng)于采樣掩碼135的等級(jí)1的(4采樣位置)碎片141、對(duì)應(yīng)于采樣掩碼137的 等級(jí)1的碎片142，以及對(duì)應(yīng)于采樣掩碼139的等級(jí)1的碎片143。如圖10中所示，如果沒有啟用質(zhì)心映射，則然而在每個(gè)2x2碎片群組內(nèi)的碎片的 順序自身可以是隨機(jī)的。圖10圖解說明了這樣的情況，其中覆蓋了給定2x2采樣掩碼群組中的所有2x2采 樣掩碼應(yīng)用(像素)。然而，如果僅覆蓋了 2x2采樣掩碼(像素)網(wǎng)格中的采樣掩碼應(yīng)用之 一，那么在本實(shí)施例中采用替換的方案。這在圖11中示出。如圖11中所示，在這種情況下僅覆蓋2x2采樣掩碼(像素)網(wǎng)格151的一個(gè)采樣 掩碼應(yīng)用150。在這種情況下，將采樣掩碼150處理為2x2碎片的群組152，其每一個(gè)都表 示采樣掩碼150的對(duì)應(yīng)象限。然而，仍然為了允許適當(dāng)?shù)呐缮锂a(chǎn)生等等，采用覆蓋掩碼及未被覆蓋的碎片 (并且特別是在2x2碎片群組152中根本沒被覆蓋的碎片153)來存儲(chǔ)適當(dāng)?shù)男畔?，其中?要所述信息來允許導(dǎo)出派生物等，即使2x2碎片群組152僅包括來自相同采樣掩碼150的 碎片。以上描述了可以如何利用本實(shí)施例來執(zhí)行待顯示圖像的4x多點(diǎn)采樣或16x多點(diǎn) 采樣。在這個(gè)實(shí)施例的圖形處理器的使用中，把圖像發(fā)送給用于處理的圖形處理器的應(yīng)用 將指示將要對(duì)圖像采用哪種形式的多點(diǎn)采樣(4x或16x)，并且圖形處理器之后將配置其 自身并相應(yīng)地運(yùn)作?？梢詮纳鲜鰞?nèi)容看到，本發(fā)明(至少在其優(yōu)選實(shí)施例中)，允許實(shí)質(zhì)上采用被配置 為執(zhí)行4x多點(diǎn)采樣(抗鋸齒)的體系結(jié)構(gòu)來獲得16x多點(diǎn)采樣(抗鋸齒)。相應(yīng)地，用戶 有在普通的4x多點(diǎn)采樣或具有16x的多點(diǎn)采樣之間進(jìn)行選取的選擇，可能會(huì)有少許性能下 降，但是不管怎樣還是比通過采用4x多點(diǎn)采樣以及4x下采樣來獲得全16x多點(diǎn)采樣要快， 并且具有比通過采用全16x多點(diǎn)采樣而無下采樣來獲得全16x多點(diǎn)采樣少得多的成本。相應(yīng)地，本發(fā)明可以免去增加圖形處理器內(nèi)核的尺寸以獲得16x采樣的需求，并 且因此，例如，可以允許用較少的電力使用來獲得16x采樣。例如，本發(fā)明可以提供遍及系 統(tǒng)的電能優(yōu)勢(shì)，其采用全16x采樣的區(qū)塊緩沖器。相應(yīng)地，本發(fā)明允許獲得更高速率的抗鋸齒，卻不需要圖形處理器在尺寸和電力 使用方面的顯著增加。此外，由于徹底地覆蓋了大部分像素，所以任何的性能下降應(yīng)當(dāng)是較 小的。至少，在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，通過將采樣掩碼劃分為各個(gè)等級(jí)來獲得上述效 果，從而使得如果覆蓋了整個(gè)采樣掩碼，那么將它作為對(duì)應(yīng)于整個(gè)采樣掩碼的單個(gè)碎片來 發(fā)送以通過管線，但是如果僅覆蓋了部分采樣掩碼，那么可以將它劃分為更小的補(bǔ)片并且采用每一個(gè)都表示采樣掩碼的子補(bǔ)片的碎片來進(jìn)行渲染。
權(quán)利要求
一種在圖形處理系統(tǒng)中處理用于顯示的計(jì)算機(jī)圖形的方法，該方法包括生成和渲染圖形碎片，以生成待顯示圖像的采樣點(diǎn)的已渲染圖形數(shù)據(jù)；其中被渲染的每個(gè)圖形碎片與待顯示圖像的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，并且將被用于為與所述碎片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合的采樣點(diǎn)中的一個(gè)或多個(gè)生成已渲染圖形數(shù)據(jù)；以及被渲染的圖形碎片可以與包含不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中與圖形碎片相關(guān)聯(lián)的每個(gè)采樣點(diǎn)集合對(duì)應(yīng)于輸出設(shè)備 的給定像素的采樣點(diǎn)集合，或者對(duì)應(yīng)于輸出設(shè)備的部分像素的采樣點(diǎn)集合，其中將在所述 輸出設(shè)備上或者經(jīng)由所述輸出設(shè)備顯示所述圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其中可以將圖形碎片與4采樣點(diǎn)的集合或16采樣點(diǎn)的 集合相關(guān)聯(lián)。
4.根據(jù)之前權(quán)利要求中的任意一項(xiàng)的方法，其中可與碎片相關(guān)聯(lián)的每個(gè)較小的采樣點(diǎn) 集合對(duì)應(yīng)于或表示可與碎片相關(guān)聯(lián)的較大的采樣點(diǎn)集合的特定部分或子區(qū)域。
5.根據(jù)之前權(quán)利要求中的任意一項(xiàng)的方法，其中可將圖形碎片與對(duì)應(yīng)于將被應(yīng)用于待 處理圖像的采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，或者與對(duì)應(yīng)于將被應(yīng)用于待處理 圖像的采樣掩碼的采樣點(diǎn)子集的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。
6.根據(jù)之前權(quán)利要求中的任意一項(xiàng)的方法，包括根據(jù)由正被處理的圖元對(duì)采樣點(diǎn)集合 的覆蓋來選擇采樣點(diǎn)集合，以與給定碎片相關(guān)聯(lián)。
7.根據(jù)之前權(quán)利要求中的任意一項(xiàng)的方法，包括與每個(gè)圖形碎片數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)，其中所 述每個(gè)圖形碎片數(shù)據(jù)指示所述碎片正被用于渲染與所述碎片對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合中的哪些 采樣點(diǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的方法，其中所述數(shù)據(jù)包括用于指示所述碎片正被用于渲染的被覆蓋采樣位置的覆蓋掩碼，所述數(shù) 據(jù)指示所述碎片正被用于渲染與所述碎片對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合中的哪些采樣點(diǎn)；以及能夠?qū)⑺槠c這樣的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，其中該覆蓋掩碼中的每個(gè)位置表示第一數(shù)量的 采樣點(diǎn)；或者將碎片與下述覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，其中該覆蓋掩碼中的每個(gè)位置表示第二、不同 數(shù)量的采樣點(diǎn)。
9.一種處理用于顯示的圖形的方法，包括將待渲染的每個(gè)圖形碎片與覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，所述覆蓋掩碼用于指示所述碎片正被用 于渲染的被覆蓋采樣位置；其中每個(gè)該覆蓋掩碼具有多個(gè)位置，所述多個(gè)位置中的每個(gè)能夠用于指示給定的一個(gè)或多 個(gè)采樣點(diǎn)是否被覆蓋；以及能夠?qū)⑺槠c這樣的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，其中該覆蓋掩碼中的每個(gè)位置表示圖像的第一 數(shù)量的采樣點(diǎn)；或者將碎片與下述覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，其中該覆蓋掩碼中的每個(gè)位置表示圖 像的第二、不同數(shù)量的采樣點(diǎn)。
10.一種圖形處理系統(tǒng)，包括用于生成和渲染圖形碎片、以生成待顯示圖像的采樣點(diǎn)的已渲染圖形數(shù)據(jù)的裝置其中被渲染的每個(gè)圖形碎片與待顯示圖像的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，并且將被用于為與所述碎 片相關(guān)聯(lián)的采樣點(diǎn)集合的采樣點(diǎn)中的一個(gè)或多個(gè)生成已渲染圖形數(shù)據(jù)；以及被渲染的圖形碎片可以與包含不同數(shù)量的采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的系統(tǒng)，其中與圖形碎片相關(guān)聯(lián)的每個(gè)采樣點(diǎn)集合對(duì)應(yīng)于輸出設(shè) 備的給定像素的采樣點(diǎn)集合，或者對(duì)應(yīng)于輸出設(shè)備的部分像素的采樣點(diǎn)集合，其中將在所 述輸出設(shè)備上或者經(jīng)由所述輸出設(shè)備顯示所述圖像。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11的系統(tǒng)，其中可以將圖形碎片與4采樣點(diǎn)的集合或16采樣 點(diǎn)的集合相關(guān)聯(lián)。
13.根據(jù)權(quán)利要求10至12中任意一項(xiàng)的系統(tǒng)，其中可與碎片相關(guān)聯(lián)的每個(gè)較小的采樣 點(diǎn)集合對(duì)應(yīng)于或表示可與碎片相關(guān)聯(lián)的較大的采樣點(diǎn)集合的特定部分或子區(qū)域。
14.根據(jù)權(quán)利要求10至13中任意一項(xiàng)的系統(tǒng)，其中可將圖形碎片與對(duì)應(yīng)于將被應(yīng)用于 待處理圖像的采樣掩碼的所有采樣點(diǎn)的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)，或者與對(duì)應(yīng)于將被應(yīng)用于待處 理圖像的采樣掩碼的采樣點(diǎn)子集的采樣點(diǎn)集合相關(guān)聯(lián)。
15.根據(jù)權(quán)利要求10至14中任意一項(xiàng)的系統(tǒng)，包括用于根據(jù)由正被處理的圖元對(duì)采樣 點(diǎn)集合的覆蓋來選擇采樣點(diǎn)集合、以與給定碎片相關(guān)聯(lián)的裝置。
16.根據(jù)權(quán)利要求10至15中任意一項(xiàng)的系統(tǒng)，包括用于與每個(gè)圖形碎片數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的 裝置，其中所述每個(gè)圖形碎片數(shù)據(jù)指示所述碎片正被用于渲染與所述碎片對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn) 集合中的哪些采樣點(diǎn)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16的系統(tǒng)，其中所述數(shù)據(jù)包括用于指示所述碎片正被用于渲染的被覆蓋采樣位置的覆蓋掩碼，所述數(shù) 據(jù)指示所述碎片正被用于渲染與所述碎片對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)集合中的哪些采樣點(diǎn)；以及能夠?qū)⑺槠c這樣的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，其中該覆蓋掩碼中的每個(gè)位置表示第一數(shù)量的 采樣點(diǎn)；或者將碎片與下述覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，其中該覆蓋掩碼中的每個(gè)位置表示第二、不同 數(shù)量的采樣點(diǎn)。
18.一種圖形處理系統(tǒng)，包括用于將待渲染的圖形碎片與覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)的裝置，所述覆蓋掩碼用于指示每個(gè)碎片 正被用于渲染的被覆蓋采樣位置；其中每個(gè)該覆蓋掩碼具有多個(gè)位置，所述多個(gè)位置中的每個(gè)能夠用于指示給定的一個(gè)或多 個(gè)采樣點(diǎn)是否被覆蓋；以及能夠?qū)⑺槠c這樣的覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，其中該覆蓋掩碼中的每個(gè)位置表示圖像的第一 數(shù)量的采樣點(diǎn)；或者將碎片與下述覆蓋掩碼相關(guān)聯(lián)，其中該覆蓋掩碼中的每個(gè)位置表示圖 像的第二、不同數(shù)量的采樣點(diǎn)。
19.一種計(jì)算機(jī)程序組件，包括當(dāng)該程序組件在數(shù)據(jù)處理裝置上運(yùn)行時(shí)用于執(zhí)行權(quán)利 要求1至9中任一項(xiàng)的方法的計(jì)算機(jī)軟件代碼部分。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于處理計(jì)算機(jī)圖形的方法和設(shè)備。其中，當(dāng)采用16x采樣掩碼來采樣待顯示的圖像時(shí)，為每個(gè)被覆蓋的采樣位置生成和渲染碎片以生成渲染碎片數(shù)據(jù)。然而，為了將其采樣點(diǎn)與所要渲染的碎片相關(guān)聯(lián)，可以將16x采樣掩碼劃分為兩個(gè)等級(jí)的層級(jí)結(jié)構(gòu)，也就是第一等級(jí)(其中將碎片與16x采樣掩碼全部16個(gè)采樣點(diǎn)相關(guān)聯(lián))，以及第二等級(jí)(其中僅將16x采樣掩碼的4個(gè)采樣點(diǎn)與碎片相關(guān)聯(lián))。
文檔編號(hào)G06T15/00GK101916453SQ20091025842
公開日2010年12月15日 申請(qǐng)日期2009年10月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月24日
發(fā)明者F·黑格隆德, J·尼斯塔德 申請(qǐng)人:Arm有限公司