一種硅片數(shù)片裝置及數(shù)片方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及數(shù)片設(shè)備，具體為一種硅片數(shù)片裝置及數(shù)片方法，其裝置結(jié)構(gòu)簡單，方便地完成硅片的數(shù)片操作，提高效率，其包括托板，所述托板包括玻璃板，所述玻璃板上部一端設(shè)置帶有斜坡的靠板，所述玻璃板下部兩側(cè)對稱設(shè)置配合的光源和光電探測器，所述光源照射到玻璃板形成全反射，所述光電探測器連接電腦，將硅片傾斜一定角度放置于玻璃板上部，玻璃板下部一側(cè)使用光源照射，光源照射到玻璃板形成全反射，在玻璃板下部另一側(cè)用光電探測器接收光源全反射后光波的光電探測器，光電探測器連接電腦，通過電腦上的明暗條紋數(shù)量計算出硅片數(shù)量。
【專利說明】一種硅片數(shù)片裝置及數(shù)片方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及數(shù)片設(shè)備，具體為一種硅片數(shù)片裝置及數(shù)片方法。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著社會的不斷發(fā)展，太陽能行業(yè)在國內(nèi)不斷擴大，對于太陽能的產(chǎn)能效率需求不斷提高，硅片是太陽能行業(yè)中最常用的原材料，其需求量很大，硅片在進行生產(chǎn)加工前需要對其進行數(shù)片計數(shù)，一般常用的方式都是人工進行數(shù)片，其人力勞動強度大，容易出錯，效率低下，無法滿足需求，如今也有一些能夠?qū)崿F(xiàn)硅片自動數(shù)片的設(shè)備，但是一般其結(jié)構(gòu)復(fù)雜，操作起來比較復(fù)雜，使用成本高。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述問題，本發(fā)明提供了一種硅片數(shù)片裝置及數(shù)片方法，其裝置結(jié)構(gòu)簡單，方便地完成硅片的數(shù)片操作，提高效率。
[0004]其技術(shù)方案是這樣的:一種硅片數(shù)片裝置，其特征在于，其包括托板，所述托板包括玻璃板，所述玻璃板上部一端設(shè)置帶有斜坡的靠板，所述玻璃板下部兩側(cè)對稱設(shè)置配合的光源和光電探測器，所述光源照射到玻璃板形成全反射，所述光電探測器連接電腦。
[0005]其進一步特征在于，所述托板中間開有通槽，所述通槽內(nèi)卡嵌所述玻璃板，所述玻璃板的厚度與所述托板對應(yīng)；
所述靠板的斜坡角度大于80度小于85度；
所述玻璃板上部設(shè)置與所述靠板對應(yīng)的頂板；
所述玻璃板上部兩側(cè)分別設(shè)置直線導(dǎo)軌，所述頂板通過滑塊與所述直線導(dǎo)軌滑動連接;
所述直線導(dǎo)軌兩端分別設(shè)置限位裝置；
所述玻璃板下部兩側(cè)分別通過連接桿設(shè)置條狀安裝座，兩個所述條狀安裝座上分別安裝所述光源和光電探測器；
所述光源為單色光源。
[0006]—種娃片數(shù)片方法，其特征在于，將娃片傾斜一定角度放置于玻璃板上部，玻璃板下部一側(cè)使用光源照射，光源照射到玻璃板形成全反射，在玻璃板下部另一側(cè)用光電探測器接收光源全反射后光波的光電探測器，光電探測器連接電腦，通過電腦上的明暗條紋數(shù)量計算出硅片數(shù)量。
[0007]其進一步特征在于，硅片傾斜一定角度放置時硅片底部與玻璃板之間有三角形的間隙，入射波照射到玻璃板上，發(fā)射全反射，由于有衰逝波的存在，在硅片底部與玻璃板之間的間隙中存在衰逝波，玻璃板相當(dāng)于光密介質(zhì)，間隙相當(dāng)于光疏介質(zhì)，硅片相當(dāng)于第三介質(zhì)，有部分衰逝波會通過硅片傳播出去，隨著間隙厚度的擴大，透過硅片傳播出去的衰逝波能量越來越少，在一片硅片底部照射的入射波經(jīng)過全反射，光電探測器接收到的光波亮度是從暗到明的漸變條紋，當(dāng)有多個硅片并排排列時，在電腦上就會顯示多條漸變明暗條紋，漸變明暗條紋的數(shù)量即為硅片的數(shù)量；
硅片傾斜80到85度放置；
光源和光電探測器都安裝在條狀安裝座上形成條狀光源和條狀光電探測器；
照射光源使用單色光源。
[0008]采用本發(fā)明的結(jié)構(gòu)和方法后，將需要進行數(shù)片操作的硅片放置于托板上并靠住靠板，光源照射，光電探測器收到光強信號后，通過電腦顯示明暗條紋，根據(jù)明暗條紋即可方便計算出硅片數(shù)量，其結(jié)構(gòu)簡單，方便地完成硅片的數(shù)片操作，提高效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明數(shù)片裝置結(jié)構(gòu)主視圖；
圖2為本發(fā)明數(shù)片裝置結(jié)構(gòu)左視圖；
圖3為本發(fā)明數(shù)片裝置結(jié)構(gòu)仰視圖；
圖4為裳逝波不意圖；
圖5為部分衰逝波穿透示意圖；
圖6為衰逝波沒有穿透示意圖；
圖7為硅片照射示意圖。

【具體實施方式】
[0010]見圖1，圖2，圖3所示，一種硅片數(shù)片裝置，其包括托板1，托板I中間開有通槽，通槽內(nèi)卡嵌玻璃板2，使得加工起來方便，玻璃板2上部一端設(shè)置帶有斜坡的靠板3，玻璃板2下部兩側(cè)對稱設(shè)置配合的光源4和光電探測器5，光源4照射到玻璃板2形成全反射，光電探測器5連接電腦；玻璃板2的厚度與托板I對應(yīng)，保證硅片12與玻璃板2的貼合；靠板3的斜坡角度大于80度小于85度；玻璃板2上部設(shè)置與靠板3對應(yīng)的頂板6,頂板6可以頂住硅片12，防止硅片12滑倒；玻璃板2上部兩側(cè)分別設(shè)置直線導(dǎo)軌7，頂板6通過滑塊8與直線導(dǎo)軌7滑動連接，可以調(diào)節(jié)頂板6的位置，以配合不同數(shù)量厚度的硅片12 ;直線導(dǎo)軌7兩端分別設(shè)置限位裝置9，起到限定頂板6位置的作用；玻璃板2下部兩側(cè)分別通過連接桿10設(shè)置條狀安裝座11，兩個條狀安裝座11上分別安裝光源4和光電探測器5，形成條狀光源和條狀光電探測器；光源4為單色光源，單色光源經(jīng)過玻璃板2全反射后可以得到更好地明暗條紋。
[0011]其工作過程和原理如下所述:見圖4所示，當(dāng)一束光波在光密介質(zhì)與光疏介質(zhì)的界面上發(fā)生全反射時，光疏介質(zhì)中沿法線的平面能流密度為零，即沒有能量向光疏介質(zhì)的深層傳播，但光疏介質(zhì)中沿表面的平均能流密度不為零，即有能量沿光疏介質(zhì)的表面層傳播，其振幅隨進入光疏介質(zhì)的深度而作指數(shù)衰減，此為最常見的衰逝波，衰逝波透射強度公式為 I (Z) =I(O) e-z/d，滲透深度公式為 d= λ (ο)/4π (η ⑴ 2Sine/-η ⑵ 2)_1/2，公式中 I(O)是分界面處透射強度，d是滲透深度等于從分界面處到光強衰減到分界面處數(shù)值I(O)/e的處的距離，z是離開分界面的距離，λ為入射光波長，QiW面處的入射角，圖中用箭頭表示衰逝波的傳播方向，箭頭的長短表示衰逝波的振幅大小，衰逝波只能存在于厚度約為幾個波長的表面層內(nèi)，超過這個范圍，其振幅就衰減到可以忽略不計，若不考慮光疏介質(zhì)對光的吸收和放射等原因造成的能量損失，并且光疏介質(zhì)的厚度足夠大(大于衰逝波存在的范圍)，則衰逝波能量最終將全部返回光密介質(zhì)；當(dāng)光疏介質(zhì)下端還有第三介質(zhì)，如果光疏介質(zhì)的厚度足夠小，如圖5所示，部分衰逝波將穿透并傳播出去，由于部分入射波的能量向第三介質(zhì)傳播，因此全反射的能量變小，即反射波的亮度變暗，在衰逝波存在范圍內(nèi)，光疏介質(zhì)厚度越小，穿透第三介質(zhì)并傳播出去的光波就越多，即反射波的亮度變暗；反之，在衰逝波存在范圍內(nèi)，光疏介質(zhì)厚度越大，穿透第三介質(zhì)并傳播出去的光波就越少，即反射波的亮度較亮，直到超過衰逝波存在范圍，如圖6所示，此時衰逝波能量沒有損失將全部返回光密介質(zhì)，反射波的亮度與入射波沒有變化。將需要進行數(shù)片操作的硅片12放置于玻璃板2上方，一端靠住靠板3，另一端通過頂板6頂住，由于靠板3上有斜坡，所以硅片12傾斜，硅片12底部與玻璃板2之間有三角形的間隙，如圖7所示，入射波照射到玻璃板2上，發(fā)射全反射，由于有衰逝波的存在，在硅片12底部與玻璃板2之間的間隙中存在衰逝波，玻璃板2相當(dāng)于光密介質(zhì)，間隙相當(dāng)于光疏介質(zhì)，硅片12相當(dāng)于第三介質(zhì)，因此有部分衰逝波會通過硅片12吸收出去，隨著間隙厚度的擴大，透過硅片12吸收出去的衰逝波能量越來越少，SP在一片硅片12底部照射的入射波經(jīng)過全反射，光電探測器5接收到的光波亮度是從暗到明的漸變條紋，當(dāng)有多個硅片12并排排列時，在電腦上就會顯示多條漸變明暗條紋，漸變明暗條紋的數(shù)量即為硅片12的數(shù)量，靠板3的斜坡角度不能太大或太小，太大的話間隙的厚度就很小，條紋的明暗漸變程度不明顯，不太容易判斷出條紋數(shù)量，角度太小時，間隙的厚度就很大，導(dǎo)致除了硅片12與玻璃板2接觸處有衰逝波穿透硅片12外，其余間隙處沒有衰逝波能量損失，條紋的明暗漸變程度也不明顯。
【權(quán)利要求】
1.一種硅片數(shù)片裝置，其特征在于，其包括托板，所述托板包括玻璃板，所述玻璃板上部一端設(shè)置帶有斜坡的靠板，所述玻璃板下部兩側(cè)對稱設(shè)置配合的光源和光電探測器，所述光源照射到玻璃板形成全反射，所述光電探測器連接電腦。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片數(shù)片裝置，其特征在于，所述托板中間開有通槽，所述通槽內(nèi)卡嵌所述玻璃板，所述玻璃板的厚度與所述托板對應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片數(shù)片裝置，其特征在于，所述靠板的斜坡角度大于80度小于85度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片數(shù)片裝置，其特征在于，所述玻璃板上部設(shè)置與所述靠板對應(yīng)的頂板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片數(shù)片裝置，其特征在于，所述玻璃板上部兩側(cè)分別設(shè)置直線導(dǎo)軌，所述頂板通過滑塊與所述直線導(dǎo)軌滑動連接，所述直線導(dǎo)軌兩端分別設(shè)置限位裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片數(shù)片裝置，其特征在于，所述玻璃板下部兩側(cè)分別通過連接桿設(shè)置條狀安裝座，兩個所述條狀安裝座上分別安裝所述光源和光電探測器，所述光源為單色光源。
7.一種硅片數(shù)片方法，其特征在于，將硅片傾斜一定角度放置于玻璃板上部，玻璃板下部一側(cè)使用光源照射，光源照射到玻璃板形成全反射，在玻璃板下部另一側(cè)用光電探測器接收光源全反射后光波的光電探測器，光電探測器連接電腦，通過電腦上的明暗條紋數(shù)量計算出硅片數(shù)量。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種硅片數(shù)片方法，其特征在于，硅片傾斜一定角度放置時硅片底部與玻璃板之間有三角形的間隙，入射波照射到玻璃板上，發(fā)射全反射，由于有衰逝波的存在，在硅片底部與玻璃板之間的間隙中存在衰逝波，玻璃板相當(dāng)于光密介質(zhì)，間隙相當(dāng)于光疏介質(zhì)，硅片相當(dāng)于第三介質(zhì)，有部分衰逝波會通過硅片傳播出去，隨著間隙厚度的擴大，透過硅片傳播出去的衰逝波能量越來越少，在一片硅片底部照射的入射波經(jīng)過全反射，光電探測器接收到的光波亮度是從暗到明的漸變條紋，當(dāng)有多個娃片并排排列時，在電腦上就會顯示多條漸變明暗條紋，漸變明暗條紋的數(shù)量即為硅片的數(shù)量。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種硅片數(shù)片方法，其特征在于，硅片傾斜80到85度放置。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種硅片數(shù)片方法，其特征在于，光源和光電探測器都安裝在條狀安裝座上形成條狀光源和條狀光電探測器，照射光源使用單色光源。
【文檔編號】G06M1/272GK104268621SQ201410485022
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年9月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月22日
【發(fā)明者】李俊林 申請人:無錫名谷科技有限公司