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      調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的方法及裝置與流程

      文檔序號:39621632發(fā)布日期:2024-10-11 13:41閱讀:26來源:國知局
      調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的方法及裝置與流程

      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體生產(chǎn),尤其涉及一種調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的方法及裝置。


      背景技術(shù):

      1、在工業(yè)自動化制造中,工藝制程(recipe)的內(nèi)容可包含工藝加工過程中的多個(gè)步驟以及各個(gè)步驟的各種工藝參數(shù)值和該步驟的持續(xù)時(shí)間。在工業(yè)自動化制造過程中,設(shè)備可依據(jù)recipe的內(nèi)容完成對物料的加工,加工出的產(chǎn)品的質(zhì)量可通過調(diào)整recipe來改進(jìn),所以一個(gè)先進(jìn)的recipe對提升產(chǎn)品價(jià)值有著非常重要的作用,尤其是在半導(dǎo)體生產(chǎn)業(yè)中。

      2、目前,在半導(dǎo)體制造行業(yè)中,半導(dǎo)體制造工廠要同時(shí)生產(chǎn)種類繁多、數(shù)量不同的半導(dǎo)體器件,而且各種類型的半導(dǎo)體器件的加工工藝不同、加工的時(shí)間周期不同、加工的數(shù)量不同、各類半導(dǎo)體器件客戶要求的交貨日期和交貨數(shù)量也各不相同。而各種不同的條件下的recipe各不相同,因此,實(shí)際工藝過程中,需要維護(hù)的recipe數(shù)量巨大。

      3、并且,由于半導(dǎo)體工藝的復(fù)雜性和recipe的獨(dú)特性,對于安全性要求特別高,新建和維護(hù)機(jī)臺中的每一個(gè)recipe非常麻煩,且當(dāng)需要調(diào)試recipe時(shí),工程師出錯(cuò)頻率極高。

      4、在這種復(fù)雜的條件下,如何提高機(jī)臺的生產(chǎn)效率,如何使軟件配套系統(tǒng)更加完善,越來越成為半導(dǎo)體企業(yè)在激烈競爭中生存及發(fā)展的關(guān)鍵所在。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的方法及裝置,能夠精簡系統(tǒng)中維護(hù)的工藝制程數(shù)量,并且在調(diào)整工藝制程時(shí),能夠及時(shí)獲取新的工藝制程的運(yùn)行結(jié)果,減少工藝制程調(diào)試出錯(cuò)的頻率。

      2、為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的方法,包括:提供一存儲設(shè)備,在所述存儲設(shè)備上建立共享目錄,并將多個(gè)工藝制程存入所述共享目錄;在工藝站點(diǎn)前后分別增加前虛擬站點(diǎn)以及后虛擬站點(diǎn);通過所述前虛擬站點(diǎn)為所述工藝站點(diǎn)提供第一前向參數(shù)、為調(diào)控系統(tǒng)提供第二前向參數(shù),通過所述后虛擬站點(diǎn)根據(jù)所述工藝站點(diǎn)的測量信息為所述調(diào)控系統(tǒng)提供后向參數(shù);通過所述調(diào)控系統(tǒng)根據(jù)所述第二前向參數(shù)以及所述后向參數(shù)獲取針對所述工藝站點(diǎn)的當(dāng)前制程信息,并提供至所述工藝站點(diǎn);所述工藝站點(diǎn)根據(jù)所述當(dāng)前制程信息從所述共享目錄獲得所述當(dāng)前工藝制程并依據(jù)所述當(dāng)前工藝制程執(zhí)行工藝。

      3、在一些實(shí)施例中,所述存儲設(shè)備為網(wǎng)盤,所述工藝站點(diǎn)通過網(wǎng)絡(luò)訪問所述存儲設(shè)備的所述共享目錄。

      4、在一些實(shí)施例中,在所述存儲設(shè)備上建立共享目錄,并將多個(gè)工藝制程存入所述共享目錄的步驟進(jìn)一步包括:在所述共享目錄下根據(jù)各工藝站點(diǎn)的機(jī)臺型號創(chuàng)建子目錄;將多個(gè)工藝制程按照機(jī)臺型號分別存入對應(yīng)的子目錄。

      5、在一些實(shí)施例中,所述當(dāng)前制程信息包括所述當(dāng)前工藝制程在所述共享目錄下的存放路徑。

      6、在一些實(shí)施例中,所述工藝站點(diǎn)無所述共享目錄的修改權(quán)限。

      7、在一些實(shí)施例中,當(dāng)所述工藝站點(diǎn)的當(dāng)前工藝制程需要調(diào)整時(shí),執(zhí)行以下步驟:通過所述前虛擬站點(diǎn)分別為所述工藝站點(diǎn)提供新的第一前向參數(shù)、為調(diào)控系統(tǒng)提供新的第二前向參數(shù),通過所述后虛擬站點(diǎn)根據(jù)所述工藝站點(diǎn)的測量信息為所述調(diào)控系統(tǒng)提供新的后向參數(shù);通過所述調(diào)控系統(tǒng)根據(jù)所述新的第二前向參數(shù)以及所述新的后向參數(shù)獲取針對所述工藝站點(diǎn)的新的當(dāng)前制程信息,并提供至所述工藝站點(diǎn);所述工藝站點(diǎn)根據(jù)所述新的當(dāng)前制程信息從所述共享目錄獲取新的當(dāng)前工藝制程,并依據(jù)所述新的工藝制程執(zhí)行工藝。

      8、在一些實(shí)施例中,所述第二前向參數(shù)和/或所述后向參數(shù)包括調(diào)控參數(shù),所述調(diào)控參數(shù)用于表示所述當(dāng)前工藝制程需要調(diào)整的程度。

      9、在一些實(shí)施例中,所述調(diào)控參數(shù)的值為0,表示不調(diào)整所述當(dāng)前工藝制程。

      10、在一些實(shí)施例中,所述工藝站點(diǎn)為非化學(xué)機(jī)械研磨站點(diǎn),所述第二前向參數(shù)和所述后向參數(shù)的調(diào)控參數(shù)的值為0。

      11、為了解決上述問題,本發(fā)明還提供了一種調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的裝置,包括:工藝制程模塊,所述工藝制程模塊用于維護(hù)共享的工藝制程,所述工藝制程模塊包括一存儲設(shè)備,所述存儲設(shè)備上建立共享目錄,并將多個(gè)工藝制程存入所述共享目錄;工藝主模塊,所述工藝主模塊包括工藝站點(diǎn);虛擬測量模塊,所述虛擬測量模塊包括設(shè)置于所述工藝站點(diǎn)前的前虛擬站點(diǎn)以及設(shè)置于所述工藝站點(diǎn)后的后虛擬站點(diǎn),所述前虛擬站點(diǎn)為所述工藝站點(diǎn)提供第一前向參數(shù)、為調(diào)控系統(tǒng)提供第二前向參數(shù),所述后虛擬站點(diǎn)根據(jù)所述工藝站點(diǎn)的測量信息為所述調(diào)控系統(tǒng)提供后向參數(shù);調(diào)控模塊,所述調(diào)控模塊包括調(diào)控系統(tǒng),所述調(diào)控系統(tǒng)根據(jù)所述第二前向參數(shù)以及所述后向參數(shù)獲取針對所述工藝站點(diǎn)的當(dāng)前制程信息,并提供至所述工藝站點(diǎn);所述工藝站點(diǎn)從所述共享目錄獲得當(dāng)前工藝制程并依據(jù)所述當(dāng)前工藝制程執(zhí)行工藝。

      12、在一些實(shí)施例中,所述存儲設(shè)備為網(wǎng)盤,所述工藝站點(diǎn)通過網(wǎng)絡(luò)訪問所述存儲設(shè)備。

      13、上述技術(shù)方案,通過在與工藝站點(diǎn)相連的存儲設(shè)備上建立用于存放工藝制程的共享目錄;通過前虛擬站點(diǎn)為所述工藝站點(diǎn)提供第一前向參數(shù)、為調(diào)控系統(tǒng)提供第二前向參數(shù);通過后虛擬站點(diǎn)根據(jù)所述工藝站點(diǎn)的測量信息為所述調(diào)控系統(tǒng)提供后向參數(shù);通過所述調(diào)控系統(tǒng)根據(jù)所述第二前向參數(shù)以及所述后向參數(shù)選擇針對所述工藝站點(diǎn)的工藝制程,消除了機(jī)臺各自存放工藝制程造成的冗余,大大精簡了需要維護(hù)的工藝制程的數(shù)量,并且,虛擬站點(diǎn)、調(diào)控系統(tǒng)與工藝站點(diǎn)相連接,能夠快速獲取工藝制程調(diào)整后的結(jié)果,便于評估工藝制程各調(diào)整項(xiàng)對性能的影響,進(jìn)而能夠快速完成工藝制程的調(diào)整,大大提高了工藝制程調(diào)試的效率。

      14、應(yīng)當(dāng)理解的是,以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,并不能限制本發(fā)明。對于相關(guān)領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的技術(shù)、方法和設(shè)備可能不作詳細(xì)討論,但在適當(dāng)情況下,所述技術(shù)、方法和設(shè)備應(yīng)當(dāng)被視為授權(quán)說明書的一部分。



      技術(shù)特征:

      1.一種調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的方法,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述存儲設(shè)備為網(wǎng)盤,所述工藝站點(diǎn)通過網(wǎng)絡(luò)訪問所述存儲設(shè)備的所述共享目錄。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在所述存儲設(shè)備上建立共享目錄,并將多個(gè)工藝制程存入所述共享目錄的步驟進(jìn)一步包括:

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述當(dāng)前制程信息包括所述當(dāng)前工藝制程在所述共享目錄下的存放路徑。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述工藝站點(diǎn)無所述共享目錄的修改權(quán)限。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,當(dāng)所述工藝站點(diǎn)的當(dāng)前工藝制程需要調(diào)整時(shí),執(zhí)行以下步驟:

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二前向參數(shù)和/或所述后向參數(shù)包括調(diào)控參數(shù),所述調(diào)控參數(shù)用于表示所述當(dāng)前工藝制程需要調(diào)整的程度。

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述調(diào)控參數(shù)的值為0,表示不調(diào)整所述當(dāng)前工藝制程。

      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述工藝站點(diǎn)為非化學(xué)機(jī)械研磨站點(diǎn),所述第二前向參數(shù)和所述后向參數(shù)的調(diào)控參數(shù)的值為0。

      10.一種調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的裝置,其特征在于,包括:

      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的裝置,其特征在于,所述存儲設(shè)備為網(wǎng)盤,所述工藝站點(diǎn)通過網(wǎng)絡(luò)訪問所述存儲設(shè)備。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供了一種調(diào)控半導(dǎo)體工藝制程的方法及裝置,通過在與工藝站點(diǎn)相連的存儲設(shè)備上建立用于存放工藝制程的共享目錄;通過前虛擬站點(diǎn)為所述工藝站點(diǎn)提供第一前向參數(shù)、為所述調(diào)控系統(tǒng)提供第二前向參數(shù),通過所述后虛擬站點(diǎn)根據(jù)所述工藝站點(diǎn)的測量信息為所述調(diào)控系統(tǒng)提供后向參數(shù);通過所述調(diào)控系統(tǒng)根據(jù)所述第二前向參數(shù)以及所述后向參數(shù)選擇針對所述工藝站點(diǎn)的工藝制程,消除了機(jī)臺各自存放工藝制程造成的冗余,大大精簡了需要維護(hù)的工藝制程的數(shù)量,并且,虛擬站點(diǎn)、調(diào)控系統(tǒng)與工藝站點(diǎn)相連接,能夠快速獲取工藝制程調(diào)整后的結(jié)果,便于評估工藝制程各調(diào)整項(xiàng)對性能的影響,進(jìn)而能夠快速完成工藝制程的調(diào)整,大大提高了工藝制程調(diào)試的效率。

      技術(shù)研發(fā)人員:楊志遠(yuǎn),徐乃康,劉祥杰,王芳
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海積塔半導(dǎo)體有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/10/10
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