專利名稱：光學(xué)拾取器致動器及包括它的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，尤其涉及一種具有提高的穩(wěn)定性的伺服控制系統(tǒng)的光學(xué)拾取器致動器。
背景技術(shù)：
光學(xué)拾取器通常用于將信息記錄在諸如CD(CD光盤)或DVD(數(shù)字多用盤)的光學(xué)介質(zhì)上和/或從諸如CD(CD光盤)或DVD(數(shù)字多用盤)的光學(xué)介質(zhì)再現(xiàn)信息，并包括具有物鏡以將來自光源的光聚焦到光學(xué)介質(zhì)上以將信息記錄在光學(xué)介質(zhì)上和/或從光學(xué)介質(zhì)再現(xiàn)信息的光學(xué)系統(tǒng)；以及光學(xué)拾取器致動器，用于調(diào)節(jié)物鏡和光學(xué)介質(zhì)之間的距離以及物鏡光軸的位置和傾斜度。
光學(xué)拾取器致動器執(zhí)行伺服控制，所述伺服控制包括保持光學(xué)介質(zhì)和物鏡之間恒定距離的聚焦控制；在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上控制物鏡光軸位置的循跡控制；以及使物鏡光軸垂直于光學(xué)介質(zhì)的傾斜控制。所述聚焦控制是通過朝向和遠離光學(xué)介質(zhì)移動物鏡安裝在其上的透鏡保持器來控制物鏡和光學(xué)介質(zhì)之間的距離執(zhí)行的，所述循跡控制是通過在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上移動所述透鏡保持器執(zhí)行的。所述傾斜控制是通過繞平行于光學(xué)介質(zhì)切向方向的傾斜軸線，在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上傾斜透鏡保持器(稱為“徑向傾斜”)，和/或繞平行于上述光學(xué)介質(zhì)徑向的傾斜軸線，在光學(xué)介質(zhì)的切向方向傾斜所述透鏡保持器(稱為“切向傾斜”)執(zhí)行。
為了進行上述伺服控制，所述光學(xué)拾取器致動器具有多個磁體部件和多個線圈。如果電流供給到線圈，所述透鏡保持器的位置和傾斜度通過由磁體部件和具有供給它的電流的線圈之間的相互作用產(chǎn)生的電磁力控制?？梢岳脙蓪蚋鄬Υ朋w部件來產(chǎn)生這種電磁力。為了最小化上述光學(xué)拾取器致動器，可以在透鏡保持器中形成槽，而至少一些磁體部件可以延伸到所述槽中。在這種情況下，必須在槽的壁和用于進行上述傾斜控制和/或循跡控制的磁體部件之間保持一定的間隙。這種間隙用作進行循跡控制的循跡容限，還可以作為進行傾斜控制的傾斜容限。上述循跡容限是一種空間，在進行循跡控制時，在該空間內(nèi)透鏡保持器可在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上自由移動，不會和光學(xué)拾取器致動器的任何部分相接觸，并且上述傾斜容限是一種空間，在進行傾斜控制時，在該空間內(nèi)透鏡保持器可繞上述傾斜軸線自由傾斜，不會和光學(xué)拾取器致動器的任何部分相接觸。
但是當(dāng)進行上述循跡控制和傾斜控制時，所述透鏡保持器移動和傾斜時，上述間隙會減小。也就是當(dāng)進行傾斜控制時，所述用作用于進行循跡控制的循跡容限的間隙會隨著透鏡保持器繞傾斜軸線傾斜而減小。相反，當(dāng)進行循跡控制時，用作用于進行傾斜控制的傾斜容限的間隙會隨著透鏡保持器沿光學(xué)介質(zhì)徑向移動而減小。上述循跡容限和/或傾斜容限的這種減小意味著用于進行上述光學(xué)拾取器致動器伺服控制的容限就減小了，這會有助于伺服控制的穩(wěn)定性下降。尤其是，如果利用變形過大的光學(xué)介質(zhì)，會出現(xiàn)不能成功地進行傾斜控制的情形，因為傾斜容限被減小了，這會導(dǎo)致上述光學(xué)拾取器致動器和光學(xué)介質(zhì)碰撞。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明致力于現(xiàn)有技術(shù)中的上述問題，并且本發(fā)明的一方面是提供一種具有提高穩(wěn)定性的伺服控制系統(tǒng)的光學(xué)拾取器致動器，以及一種包括這種光學(xué)拾取器致動器的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，一種光學(xué)拾取器致動器包括基座，透鏡保持器，所述透鏡保持器安裝在基座上以便繞透鏡保持器的傾斜軸線可傾斜，至少一個物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個槽形成在透鏡保持器中，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對于上述傾斜軸線的橫向方向上面對上述磁體單元的、上述至少一個槽的壁包括提供傾斜容限以能夠執(zhí)行傾斜控制的斜面。
平行于傾斜軸線的中心線延伸通過當(dāng)在中心線的方向上觀看時面向磁體單元的、所述至少一個槽的壁的中心。每一斜面可包括第一斜面和第二斜面，第一斜面和第二斜面中的每一個均在當(dāng)在所述中心線中的一個中心線的方向上觀看時面向磁體單元的、至少一個槽的壁的中心中的一個中心處開始傾斜離開磁體單元。透鏡保持器的聚焦方向可垂直于傾斜軸線。當(dāng)透鏡保持器沒有傾斜時，平行于聚焦方向的參考軸線可與當(dāng)在中心線方向上觀看時面向磁體單元的、至少一個槽的端壁的中心相交。在透鏡保持器沒有傾斜時第一斜面與參考軸線中的一個參考軸線之間的角度以及在透鏡保持器沒有傾斜時第二斜面與參考軸線中的一個參考軸線之間的角度可以大于透鏡保持器繞傾斜軸線的最大傾斜角。透鏡保持器的切向方向可垂直于傾斜軸線和聚焦方向。所述至少一個槽可包括彼此平行且在切向方向上彼此間隔開的第一槽和第二槽。所述磁體單元包括安裝在基座上的軛鐵，還可以包括安裝在軛鐵一側(cè)的磁體部件。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，在相對于所述傾斜軸線的橫向方向上面向磁體單元的、至少一個槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限的曲面。這些曲面可以是半球面。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，一種光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置包括具有驅(qū)動至少一個物鏡的致動器的光學(xué)拾取器，以及控制光學(xué)拾取器的驅(qū)動的控制器，所述光學(xué)拾取器可在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上移動，以將信息記錄在光學(xué)介質(zhì)上和/或從光學(xué)介質(zhì)再現(xiàn)信息，其中所述致動器包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，至少一個物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個槽形成在透鏡保持器中；安裝在基座上并延伸到所述至少一個槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的所述至少一個槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限和能夠執(zhí)行循跡控制的循跡容限的斜面。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，一種光學(xué)拾取器致動器包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜、并具有至少一個形成在其中的槽的透鏡保持器，安裝在透鏡保持器上的至少一個物鏡，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的所述至少一個槽的壁具有這樣的形狀，即在上述透鏡保持器繞上述傾斜軸線傾斜時，所述形狀防止所述壁和磁體單元之間的間隙減小。
本發(fā)明的其它方面和/或優(yōu)點部分將在下面的說明中提出，部分從該說明將顯而易見，或者可以通過實踐本發(fā)明而獲知。


通過下面結(jié)合附圖描述實施例，本發(fā)明的這些和/或其它方面以及優(yōu)點都將變得清楚和更易于理解，其中圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的光學(xué)拾取器致動器的透視圖；圖2是圖1中所示的光學(xué)拾取器致動器的分解透視圖；圖3是沿著圖1中線III-III的剖視圖；圖4A和4B是示出了圖3中所示的光學(xué)拾取器致動器的透鏡保持器傾斜運動的剖視圖；圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明第二實施例的光學(xué)拾取器致動器的剖視圖；圖6是利用根據(jù)本發(fā)明一方面的光學(xué)拾取器致動器的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的示意框圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在將詳細參照其實例在附圖中示出的本發(fā)明的該實施例，其中相同附圖標(biāo)記始終代表相同的元件。為說明本發(fā)明，以下通過參照附圖描述實施例。
參考圖1-3，根據(jù)本發(fā)明第一實施例的光學(xué)拾取器致動器100包括基座10，安裝在基座10上的支撐保持器30，可移動地安裝在基座10上并具有安裝在其上的兩個物鏡1、2的透鏡保持器50，以及進行透鏡保持器50的伺服控制的磁路70。
透鏡保持器50和多個支承件51相連，例如，每一個支承件均可以是金屬絲彈簧(wire spring)，金屬絲彈簧的一端由支撐保持器30支撐，另一端和透鏡保持器50相連。這種安裝布置可以使透鏡保持器50能夠在傾斜、循跡和聚焦方向上相對于基座10移動。安裝在透鏡保持器50上的上述兩個物鏡1、2沿光學(xué)拾取器致動器100的徑向方向R布置，它們的光軸彼此平行。光學(xué)拾取器致動器100的徑向方向R對應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的徑向方向。兩個物鏡1、2之一用于將信息記錄在諸如CD(光盤)或DVD(數(shù)字多用盤)等具有較低記錄密度的光學(xué)介質(zhì)上和/或從它們再現(xiàn)信息，而上述物鏡1、2中的另一個用于將信息將記錄在諸如HD-DVD(高清晰數(shù)字多用盤)或BD(藍光光盤)等具有較高記錄密度的光學(xué)介質(zhì)上和/或從它們再現(xiàn)信息。但是透鏡保持器50可以修改以便其上安裝單個物鏡，或者其上安裝三個或更多的具有不同工作距離的物鏡，以用于將信息記錄在具有不同記錄密度的三種或更多種光學(xué)介質(zhì)上和/或從它們再現(xiàn)信息。
靠近透鏡保持器50的相對端部，沿光學(xué)拾取器致動器100的切向方向T，在透鏡保持器50中形成第一槽52和第二槽54。上述切向方向T垂直于徑向方向R，并對應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的切向。透鏡保持器50的傾斜軸線TA(參考圖3)平行于切向方向T。第一槽52和第二槽54彼此平行。在下面敘述的第一磁體單元80延伸到第一槽52和第二槽54中。
第一槽52和第二槽54的端壁平行于切向方向T，并相對于在下面更詳細敘述的聚焦方向F，傾斜離開磁體單元80。聚焦方向F垂直于徑向方向R和切向方向T，且是這樣的方向，即在該方向上，透鏡保持器50朝向或離開光學(xué)介質(zhì)移動從而進行聚焦控制。第一槽52和第二槽54的每一個均在傾斜軸線TA的一側(cè)具有第一端壁和在傾斜軸線TA的相對側(cè)具有第二端壁。平行于切向方向T的第一中心線HCL1延伸通過當(dāng)在第一中心線HCL1的方向上觀看時的上述第一槽52和第二槽54的第一端壁的中心，而平行于切向方向T的第二中心線HCL2延伸通過當(dāng)在第二中心線HCL2的方向上觀看時的上述第一槽52和第二槽54的第二端壁的中心。
第一槽52和第二槽54的第一、第二端壁具有斜面SLP，該斜面SLP包括第一斜面SLP1和第二斜面SLP2，第一斜面SLP1形成在第一、第二中心線HCL1、HCL2的方向上觀看時的第一、第二端壁的中心之上的第一、第二端壁的上部分，第二斜面SLP2形成在第一、第二中心線HCL1、HCL2的方向上觀看時的第一、第二端壁的中心之下的第一、第二端壁的下部分。第一斜面SLP1和第二斜面SLP2在第一、第二端壁中心開始相對于聚焦方向F傾斜離開第一磁體單元80。當(dāng)透鏡保持器50不傾斜時，平行于聚焦方向F的軸線FPA和在第一中心線HCL1的方向上觀看時的第一槽52和第二槽54的第一端壁的中心相交，而當(dāng)透鏡保持器50不傾斜時，平行于聚焦方向F的另一軸線FPA和在第二中心線HCL2的方向上觀看時的第一槽52和第二槽54的第二端壁的中心相交。優(yōu)選的是，當(dāng)透鏡保持器50不傾斜時，第一斜面SLP1和第二斜面SLP2相對于上述兩個軸線FPA的斜角θ大于透鏡保持器50的最大傾斜角。
第一槽52和第二槽54的側(cè)壁平行于徑向方向R和聚焦方向F，并垂直于切向方向T。第一槽52和第二槽54的每一個均有相對地更靠近光學(xué)拾取器致動器100中心的內(nèi)側(cè)壁和相對地更遠離光學(xué)拾取器致動器100中心的外側(cè)壁。
磁路70包括兩個循跡線圈74，四個傾斜線圈72和第一、第二磁體單元80、90。
兩個循跡線圈74分別安裝在第一槽52和第二槽54的內(nèi)側(cè)壁上。通過支撐部件51中的任意一個，循跡線圈74接收電流來進行循跡控制。
四個傾斜線圈72在切向方向T上安裝在透鏡保持器50的相對的端部上，其中在相對的端部中的每一個上設(shè)置兩個傾斜線圈72。傾斜線圈72通過循跡線圈74通過其接收電流的支撐部件51中的一個之外的支撐部件51中的一個接收電流以進行傾斜控制和聚焦控制。
第一磁體單元80包括兩個安裝在基座10上的兩個第一軛鐵82和分別安裝在第一軛鐵82上的兩個第一磁體部件84，第一軛鐵82彼此平行且平行于徑向方向R，并在切向方向T上彼此間隔開，而且在切向方向T上與基座10的相對的端部向內(nèi)間隔開。具有安裝在其上的第一磁體部件84的第一軛鐵82分別延伸到第一槽52和第二槽54中，從而第一磁體部件84分別面向循跡線圈74。第一軛鐵82導(dǎo)引第一磁體部件84產(chǎn)生的磁力線，從而磁力線在一個方向上聚焦，即朝向循跡線圈74，從而能夠最大化第一磁體部件84產(chǎn)生的有效磁場的強度。每一個第一磁體部件84均包括兩個磁體，所述兩個磁體具有在徑向方向R上并排設(shè)置的相反極性。例如，如圖1-3所示，每一個第一磁體部件84均包括在傾斜軸線TA一側(cè)的第一磁體和在傾斜軸線TA另一側(cè)的第二磁體，該第一磁體具有，面向循跡線圈74中的一個的N極，第二磁體具有面向同一循跡線圈74的S極。當(dāng)電流供給循跡線圈74時，第一磁體部件84和具有供給它的電流的循跡線圈74相互作用，以便在徑向方向R上來驅(qū)動透鏡保持器50進行循跡控制。
第二磁體單元90包括安裝在基座10上的兩個第二軛鐵92和分別安裝在第二軛鐵92上的兩個第二磁體部件94，第二軛鐵92彼此平行且平行于徑向方向R，并在切向方向T上彼此間隔開，而且在切向方向T上位于基座10的相對的端部或相對端部的附近。第二磁體部件94中的一個面向在切向方向T上安裝在透鏡保持器50的相對的端部中的一個上的兩個循跡線圈72，第二磁體部件94中的另一個面向在切向方向T上安裝在透鏡保持器50的相對的端部中的另一個上的另外兩個循跡線圈72。第二軛鐵92導(dǎo)引第二磁體部件94產(chǎn)生的磁力線，從而磁力線在一個方向上聚焦，即朝向傾斜線圈72，從而最大化第二磁體部件94產(chǎn)生的有效磁場的強度。每一個第二磁體部件94均包括兩個磁體，所述兩個磁體具有在聚焦方向F上層疊設(shè)置的相反的極性。例如，如圖1-3所示，每一個第二磁體部件94均包括在頂端的第一磁體和在底端的第二磁體，第一磁體具有面向兩個傾斜線圈72的N極底端，第二磁體具有面向相同兩個傾斜線圈72的S極。當(dāng)電流供給傾斜線圈72時，第二磁體部件94和具有供給到它的電流的傾斜線圈72相互作用，以便在聚焦方向上驅(qū)動透鏡保持器50進行聚焦控制，或者繞傾斜軸線TA傾斜上述透鏡保持器50來進行傾斜控制。具體而言，如果供給到在傾斜軸線TA的一側(cè)、在切向方向T上位于透鏡保持器50相對的端部的兩個傾斜線圈72的電流和供給到在傾斜軸線TA的另一側(cè)、在切向方向T上位于透鏡保持器50相對的端部的兩個傾斜線圈72的電流相同，則透鏡保持器50將在聚焦方向F上移動，而不傾斜，如果供給到在傾斜軸線TA一側(cè)的兩個傾斜線圈72的電流和供給到在傾斜軸線TA另一側(cè)的兩個傾斜線圈72的電流不同，則透鏡保持器50將傾斜。
現(xiàn)在，參考圖4A、4B來敘述根據(jù)本發(fā)明第一實施例的光學(xué)拾取器致動器100的操作。
參考圖4A、4B，電源(未示出)向傾斜線圈72供應(yīng)電流，從而供給到在傾斜軸線TA一側(cè)的兩個傾斜線圈72的電流的大小和/或方向不同于供給到在傾斜軸線TA另一側(cè)的兩個傾斜線圈72的電流的大小和/或方向，從而將透鏡保持器50繞傾斜軸線TA傾斜。
當(dāng)透鏡保持器50繞傾斜軸線TA傾斜，而第一槽52和第二槽54的端壁是現(xiàn)有技術(shù)中沒有斜面的端壁時，在聚焦方向F上端壁的頂端或底端將是最靠近第一磁體部件84的端壁部分。因此在現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)透鏡保持器50傾斜而進行循跡控制時，其中透鏡保持器50在徑向方向R上自由移動的循跡容限由聚焦方向F上的第一槽52和第二槽54的端壁的頂端或底端與第一磁體部件84之間的間隙所確定。但是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例，由于第一槽52和第二槽54的端壁具有第一斜面SLP1和第二斜面SLP2，在透鏡保持器50傾斜時的循跡容限由中心線HCL1、HCL2延伸通過它的、端壁的中心與第一磁體部件84之間的間隙所確定，該間隙要大于現(xiàn)有技術(shù)中沒有斜面的第一槽52和第二槽54的端壁的頂端或底端和第一磁體部件84之間的間隙。因此，在本發(fā)明的第一實施例中，與現(xiàn)有技術(shù)相比，因第一斜面SLP1和第二斜面SLP2，提供透鏡保持器50傾斜時的較大的循跡容限。第一斜面SLP1和第二斜面SLP2還可以使得能夠在進行傾斜控制時提供透鏡保持器50通過其自由傾斜的較大角度，即較大的傾斜容限。
圖5是本發(fā)明第二實施例的剖視圖。根據(jù)本發(fā)明的第二實施例，第一槽152和第二槽154的端壁具有圖5所示的曲面CS，而不是第一實施例中第一槽52和第二槽54端壁的第一斜面SLP1和第二斜面SLP2。優(yōu)選的是，這些曲面CS是半球面。如果第一槽152和第二槽154的端壁為半球面，則根據(jù)本發(fā)明第一實施例中相同的原理，可以比現(xiàn)有技術(shù)提供更大的傾斜容限和循跡容限。
盡管已經(jīng)敘述了在形成于透鏡保持器50中的第一槽52和第二槽54或152、154的端壁上形成第一斜面SLP1和第二斜面SLP2或曲面CS，但是如果第一槽52和第二槽54或152、154的端壁具有其它形狀，只要在透鏡保持器50不傾斜時，這些端壁和第一磁體部件84或184不平行并且在透鏡保持器50繞傾斜軸線TA的每一傾斜角處，這些端壁的中心是最靠近第一磁體部件84的端壁的部分，也可以提供比現(xiàn)有技術(shù)更大的傾斜容限和循跡容限。此外，盡管在本發(fā)明的實施例中已經(jīng)敘述了透鏡保持器50在徑向方向R上傾斜，即透鏡保持器50繞平行于切向方向T的傾斜軸線TA傾斜，但是本發(fā)明同樣可以應(yīng)用于透鏡保持器50在切向方向T上傾斜，即透鏡保持器50繞平行于徑向方向R的傾斜軸線傾斜的情況。
圖6是利用根據(jù)本發(fā)明一方面的光學(xué)拾取器致動器的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的示意框圖。
參考圖6，光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置包括旋轉(zhuǎn)光盤等光學(xué)介質(zhì)D的主軸電機200，可在光學(xué)介質(zhì)D的徑向方向R，即循跡方向上移動以將信息記錄在光學(xué)介質(zhì)D上和/或從光學(xué)介質(zhì)D再現(xiàn)信息的光學(xué)拾取器220，以及驅(qū)動主軸電機200、光學(xué)拾取器220的驅(qū)動單元240。在這里，附圖標(biāo)記242表示轉(zhuǎn)臺，附圖標(biāo)記244表示將光學(xué)介質(zhì)D夾緊在上述轉(zhuǎn)臺242上的卡盤。
上述光學(xué)拾取器220包括具有物鏡1、2(參考圖1)以將來自光源(未示出)的光聚焦到光學(xué)介質(zhì)D上的光學(xué)系統(tǒng)(未示出)，以及在聚焦方向F和徑向方向R上驅(qū)動物鏡1、2并繞平行于光學(xué)介質(zhì)D的切向方向T的傾斜軸線傾斜物鏡1、2的光學(xué)拾取器致動器100(參考圖1)。參考圖1-5描述的光學(xué)拾取器致動器100可作為本發(fā)明的該實施例的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置的光學(xué)拾取器致動器100。
在光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置操作過程中，光學(xué)拾取器220中設(shè)置的光學(xué)檢測器(未示出)檢測從光學(xué)介質(zhì)D反射的光，該光學(xué)拾取器將檢測到的光光電轉(zhuǎn)換成電信號。該電信號通過驅(qū)動單元240被輸入到控制器250內(nèi)?？刂破?50控制驅(qū)動單元240，在徑向方向R上移動光學(xué)拾取器220并控制主軸電機200的旋轉(zhuǎn)。此外，根據(jù)上述電信號，控制器250控制光學(xué)拾取器致動器100從而進行循跡控制，聚焦控制和傾斜控制。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過在形成于透鏡保持器中的槽的端壁上形成斜面、曲面或者其它形狀的表面，可以提供更大的循跡容限和傾斜容限。通過提供這些更大的循跡容限和傾斜容限，可以提高光學(xué)拾取器致動器的伺服控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
盡管已經(jīng)敘述并示出了本發(fā)明的一些實施例，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，在不偏離本發(fā)明的原理和精神情況下，在這些實施例中可以進行變化。本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物所確定。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)拾取器致動器，包括基座，透鏡保持器，所述透鏡保持器安裝在基座上以便可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜，至少一個物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個槽形成在透鏡保持器中，安裝在基座上并延伸到所述至少一個槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對于所述傾斜軸線的橫向方向上面對所述磁體單元的、所述至少一個槽的壁包括提供傾斜容限以便能夠執(zhí)行傾斜控制的斜面。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器致動器，其中平行于傾斜軸線的中心線延伸通過當(dāng)在中心線的方向上觀看時面向磁體單元的、所述至少一個槽的壁的中心；其中所述斜面中的每一個包括第一斜面和第二斜面，第一斜面和第二斜面中的每一個均在當(dāng)在所述中心線中的一個中心線的方向上觀看時面向磁體單元的、至少一個槽的壁的所述中心中的一個中心處開始傾斜離開磁體單元。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取器致動器，其中透鏡保持器的聚焦方向垂直于傾斜軸線；其中當(dāng)透鏡保持器沒有傾斜時，平行于聚焦方向的參考軸線與當(dāng)在中心線的方向上觀看時面向磁體單元的、所述至少一個槽的端壁的中心相交；以及其中在透鏡保持器沒有傾斜時第一斜面與所述參考軸線中的一個參考軸線之間的角度和在透鏡保持器沒有傾斜時第二斜面與所述參考軸線中的一個參考軸線之間的角度大于透鏡保持器繞所述傾斜軸線的最大傾斜角。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)拾取器致動器，其中透鏡保持器的切向方向垂直于所述傾斜軸線和聚焦方向；并且其中所述至少一個槽包括彼此平行且在切向方向上彼此間隔開的第一槽和第二槽。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述磁體單元包括安裝在基座上的軛鐵。
6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)拾取器致動器，其中磁體單元還包括安裝在軛鐵一側(cè)的磁體部件。
7.一種光學(xué)拾取器致動器，包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，至少一個物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個槽形成在透鏡保持器中，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的、所述至少一個槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限的曲面。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述曲面是半球面。
9.一種光學(xué)拾取器致動器，包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，至少一個物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個槽形成在透鏡保持器中，安裝在基座上并延伸到所述至少一個槽內(nèi)的第一磁體單元；至少一個循跡線圈，所述至少一個循跡線圈安裝口在傾斜軸線方向上面向所述第一磁體單元的、所述至少一個槽的壁上；其中在相對于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的、所述至少一個槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限和能夠執(zhí)行循跡控制的循跡容限的斜面。
10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)拾取器致動器，進一步包括在透鏡保持器的外部、安裝在基座上的第二磁體單元，所述第二磁體單元平行于第一磁體單元，且在傾斜軸線的方向上與第一磁體單元間隔開；以及至少一個傾斜線圈，所述至少一個傾斜線圈安裝口在傾斜軸線的方向上面向第二磁體單元的、透鏡保持器的外表面上。
11.一種光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，包括包括驅(qū)動至少一個物鏡的致動器的光學(xué)拾取器，所述光學(xué)拾取器安裝為在光學(xué)介質(zhì)的徑向方向上可移動，以將信息記錄在光學(xué)介質(zhì)上和/或從光學(xué)介質(zhì)再現(xiàn)信息，以及控制所述光學(xué)拾取器的驅(qū)動的控制器；其中所述致動器包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，至少一個物鏡安裝在透鏡保持器上，并且至少一個槽形成在透鏡保持器中，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的、所述至少一個槽的壁包括提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限和能夠執(zhí)行循跡控制的循跡容限的斜面。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中平行于傾斜軸線的中心線延伸通過當(dāng)在中心線的方向上觀看時面向磁體單元的、所述至少一個槽的壁的中心；其中每一個斜面均包括第一斜面和第二斜面，第一斜面和第二斜面中的每一個均在當(dāng)在所述中心線中的一個中心線的方向觀看時面向磁體單元的、至少一個槽的壁的所述中心中的一個中心處開始傾斜離開磁體單元；其中透鏡保持器的聚焦方向垂直于傾斜軸線；其中當(dāng)透鏡保持器沒有傾斜時，平行于聚焦方向的參考軸線與當(dāng)在中心線的方向上觀看時面向磁體單元的、所述至少一個槽的端壁的中心相交；以及其中在透鏡保持器沒有傾斜時第一斜面與所述參考軸線中的一個參考軸線之間的角度和在透鏡保持器沒有傾斜時第二斜面與所述參考軸線中的一個參考軸線之間的角度大于透鏡保持器繞所述傾斜軸線的最大傾斜角。
13.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置，其中透鏡保持器的切向方向垂直于所述傾斜軸線和聚焦軸線；以及其中所述至少一個槽包括彼此平行且在切向方向上彼此間隔開的第一槽和第二槽。
14.一種光學(xué)拾取器致動器，包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜并具有至少一個在其中形成的槽的透鏡保持器，安裝在透鏡保持器上的至少一個物鏡，以及安裝在基座上并延伸到所述至少一個槽內(nèi)的磁體單元，其中在相對于所述傾斜軸線的橫向方向上面向所述磁體單元的、所述至少一個槽的壁具有在所述透鏡保持器繞所述傾斜軸線傾斜時，防止所述壁和磁體單元之間的間隙減小的形狀。
15.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述壁和所述磁體單元之間的間隙提供傾斜容限和循跡容限，在該傾斜容限中透鏡保持器自由繞傾斜軸線傾斜，從而使光學(xué)拾取器致動器能夠執(zhí)行傾斜控制，在該循跡容限中透鏡保持器沿相對于傾斜軸線的橫向方向自由移動，從而使光學(xué)拾取器致動器能夠執(zhí)行循跡控制。
16.如權(quán)利要求15所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述壁的形狀在光學(xué)拾取器致動器執(zhí)行循跡控制時防止傾斜容限減小，并在光學(xué)拾取器致動器執(zhí)行傾斜控制時防止循跡容限減小。
17.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動器，其中平行于傾斜軸線的中心線延伸通過當(dāng)在中心線的方向上觀看時的壁的中心；并且其中所述壁的形狀為在透鏡保持器繞所述傾斜軸線的每一傾斜角處，所述壁的中心比壁的任何其它部分更靠近磁體單元。
18.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述壁從當(dāng)在所述中心線的方向上觀看時的所述壁的中心向所述壁的端部傾斜。
19.如權(quán)利要求18所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述壁以直線以傾斜角從壁的中心向壁的端部傾斜，所述傾斜角大于透鏡保持器繞傾斜軸線的最大傾斜角，所述傾斜角相對于軸線測量，該軸線與當(dāng)在中心線的方向上觀看時的所述壁中心相交并且垂直于中心線和垂直于相對于傾斜方向的橫向方向。
20.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述壁從當(dāng)在中心線的方向上觀看時的壁的中心向壁的端部彎曲。
21.如權(quán)利要求20所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述壁以半球曲面從壁的中心向壁的端部彎曲。
22.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動器，進一步包括至少一個循跡線圈，所述至少一個傾斜線圈安裝□在傾斜軸線的方向上面向磁體單元的、至少一個槽的壁上；其中將電流供給到所述至少一個循跡線圈中的每一個，使所述磁體單元和具有供給到它的電流的所述至少一個循跡線圈相互作用，從而在相對于傾斜軸線的橫向方向上驅(qū)動透鏡保持器，以便執(zhí)行循跡控制。
23.如權(quán)利要求22所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述磁體單元為第一磁體單元；并且其中所述光學(xué)拾取器致動器進一步包括在透鏡保持器的外部、安裝在基座上的第二磁體單元，所述第二磁體單元平行于第一磁體單元，且在傾斜軸線的方向上與第一磁體單元間隔開；以及至少一個傾斜線圈，所述至少一個傾斜線圈安裝□在傾斜軸線的方向上面向第二磁體單元的、透鏡保持器的外表面上；其中以第一方式將電流供給到所述至少一個傾斜線圈中的每一個，使所述第二磁體單元與具有以第一方式供給到它的電流的所述至少一個傾斜線圈相互作用，從而使透鏡保持器繞傾斜軸線傾斜，以便執(zhí)行傾斜控制；以及其中以第二方式將電流供給到所述至少一個傾斜線圈中的每一個，使所述第二磁體單元與具有以第二方式供給到它的電流的所述至少一個傾斜線圈相互作用，從而在垂直于傾斜軸線和垂直于相對于傾斜軸線的橫向方向的方向上驅(qū)動透鏡保持器，以便執(zhí)行聚焦控制。
24.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述傾斜軸線平行于對應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的切向方向的光學(xué)拾取器致動器的切向方向，從而透鏡保持器在垂直于光學(xué)拾取器致動器的切向方向并且對應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的徑向方向的光學(xué)拾取器致動器的徑向方向上可傾斜。
25.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)拾取器致動器，其中所述傾斜軸線平行于對應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的徑向方向的光學(xué)拾取器致動器的徑向方向，從而透鏡保持器在垂直于光學(xué)拾取器致動器的徑向方向并且對應(yīng)于光學(xué)介質(zhì)的切向方向的光學(xué)拾取器致動器的切向方向上可傾斜。
全文摘要
一種具有穩(wěn)定性提高的伺服控制系統(tǒng)的光學(xué)拾取器致動器，包括基座，安裝在基座上且可繞透鏡保持器的傾斜軸線傾斜的透鏡保持器，安裝在透鏡保持器上的至少一個物鏡，形成在透鏡保持器上的至少一個槽，安裝在基座上并延伸到至少一個槽內(nèi)的磁體單元。在相對于傾斜軸線的橫向方向上面向磁體單元的、至少一個槽的壁包括斜面，所述斜面提供能夠執(zhí)行傾斜控制的傾斜容限。
文檔編號G11B21/02GK1866365SQ20061008272
公開日2006年11月22日 申請日期2006年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月18日
發(fā)明者李明旭 申請人:三星電子株式會社