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      潤滑劑、磁記錄介質(zhì)和滑動頭的制作方法

      文檔序號:6774694閱讀:211來源:國知局

      專利名稱::潤滑劑、磁記錄介質(zhì)和滑動頭的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      :本發(fā)明涉及一種用于磁記錄裝置的潤滑劑。技術(shù)背景在磁記錄裝置中,帶有記錄轉(zhuǎn)換器(本發(fā)明中簡稱為頭)的滑動頭懸浮在磁記錄介質(zhì)的硬盤上方,進(jìn)行信息的讀寫。頭與在硬盤上進(jìn)行記錄(寫)或使磁信息再現(xiàn)(讀)的磁記錄層之間的距離叫做磁空間。記錄密度越大,磁空間就越小。另一方面,為提高信息傳遞速度,需要硬盤高速旋轉(zhuǎn)。隨著近來記錄密度和信息傳遞速度的提高,有傾向于低懸浮高度和高旋轉(zhuǎn)速度的趨勢,結(jié)果是目前的頭飛行高度(又叫頭懸浮高度)位于10nm數(shù)量級,旋轉(zhuǎn)速度為15,000rpm/min(rpm)數(shù)量級。為提高硬盤驅(qū)動器的可靠性,一般將潤滑劑用于磁盤和滑動頭上,形成大約l至2nm的厚度。潤滑劑可以減少摩擦和磨損,并防止頭接觸磁盤時(shí)發(fā)生異常。因?yàn)闈櫥瑒┑哪ず穸却蠹s為頭飛行高度的10%,所以其厚度對磁空間是不可忽視的因素(參見,例如,X,Maetal"I..E.E.E.Trans.Magn.,2001,Vol.37,p.1824)。因此,為提高記錄密度,要想減小磁空間,減小潤滑劑膜的厚度就顯得很重要了。但是由于受潤滑劑分子大小的限制,不可能使?jié)櫥瑒┠さ暮穸刃∮趩畏肿訉幽さ暮穸然騿畏肿訉幽ず穸?。盡管有可能使平均值小于此值,但這會使?jié)櫥瑒┑母采w效果降低。眾所周知,潤滑劑的分子量決定其單分子層膜的厚度(參見,例如,X.Maetal.,"JournalofChemicalPhysics",1999,Vol.110,p.3,129-3,137)。因此,可以通過降低分子量的方法來減小單分子層膜厚度。但是如果潤滑劑分子量小,就更容易揮發(fā)。另外,它在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)更易于消散。如果考慮HDI(頭和磁盤的接觸面)性能,如在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)潤滑劑的損失,則應(yīng)用小分子的驅(qū)動器存在自身的局限性。因此,必須找到即使是高分子量也能提供足夠薄的單分子層膜厚度的潤滑劑,來克服這一局限性。另外,在從低溫至高溫的廣范圍內(nèi)使用硬盤驅(qū)動器時(shí),通常在高溫時(shí)高粘度的潤滑劑有更好的耐久性??梢酝ㄟ^增大高分子量或采用端基為強(qiáng)極性的潤滑劑來提高粘度。但是如果分子量增加,則單分子層膜的厚度也會增加,使其不適合達(dá)到低飛行高度。另外,如果粘度增大,在低溫時(shí)由于摩擦而造成潤滑劑損失,從而會降低磁記錄介質(zhì)和頭的耐久性。本發(fā)明的目的就是解決此問題,并且研發(fā)一種技術(shù)使得即使在使用高分子物質(zhì)時(shí),潤滑劑膜的厚度也很薄,在不降低飛行穩(wěn)定性的情況下,在寬溫度范圍可使膜的可靠性得到提高。本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點(diǎn)將在以下說明中清晰可見。
      發(fā)明內(nèi)容根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方案,本發(fā)明提供了包括含氟聚合物的潤滑劑,具有如下關(guān)系Y<-1.4475X+2.815,其中Y是23。C時(shí)擴(kuò)散系數(shù)的自然對數(shù)(單位Mm2/s);X是20。C時(shí)的粘度(單位:Pas)。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方案,本發(fā)明提供了包括含氟聚合物的潤滑劑,該聚合物的結(jié)構(gòu)如式l所示,且相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈的數(shù)均分子量不小于500。H—{(XZ)m,(YZ)nHXd,V。)一H—(1)在式l中,m和n各自是不小于O的實(shí)數(shù)(m和n不能同時(shí)為O);KXZ)m,(YZ)J表示結(jié)構(gòu)單元XZ和結(jié)構(gòu)單元YZ可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列。相似地,(X&Y(w))表示結(jié)構(gòu)單元X和結(jié)構(gòu)單元Y可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列;d是不小于O且不大于l的實(shí)數(shù);X、Y和Z的化學(xué)結(jié)構(gòu)分別如式12、13和14所示(其中X、Y和Z中的氫可以被含有l(wèi)-3個(gè)碳的有機(jī)基團(tuán)所取代,該有機(jī)基團(tuán)可以包括醚鍵,也可以包括用于取代氫的極性基團(tuán)和氟中之一或二者都包括),—0(CH2CH20)aCH2CF20(CF2CF20)p(CF20)qCF2CH2(OCH2CH2)bO—(12)在式12中,a、b、p和q各自是不小于O的實(shí)數(shù)(p和q不能同時(shí)為O);結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列,—OCH2CHGH2O(GH2GH20)cCH2CF2O(CF2CF2O)r(CF20)sCF2CH2(OCH2CH2)dOGH2jHCH20-■'03)PolPol在式13中,c、d、r和s各自是不小于O的實(shí)數(shù)(r和s不能同時(shí)為O);結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列;Pols是極性基團(tuán),其在該式中相互獨(dú)立,且獨(dú)立于其它式},-GH2|HCH2-…(14)Pol在式14中,Pol是獨(dú)立于其它式的極性基團(tuán)。通過利用上述方案,提供了潤滑劑,該潤滑劑即使是高分子,也能形成足夠薄的單分子層膜厚度。當(dāng)使用該潤滑劑時(shí),即使它是高分子,也能形成很薄的單分子層膜厚度,從而可在寬溫度范圍環(huán)境下提高可靠性而不降低飛行穩(wěn)定性。上述方案可聯(lián)合使用。在上述方案及其聯(lián)合方案中,優(yōu)選地,含氟聚合物的平均分子量不小于2,000且不大于12,000;Pol是羥基;優(yōu)選地,含氟聚合物的相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈的數(shù)均分子量不大于3000;優(yōu)選地,含氟聚合物具有結(jié)構(gòu)如式3表示的末端基團(tuán),—R..........(3)(在式3中,R是極性基團(tuán)或烴基);優(yōu)選地,式l的部分或全部結(jié)構(gòu)單元CF20和C2F40被式4和式5中任一結(jié)構(gòu)所替代;—CF2CF2CF2—……(4)—CFCF。一…(5)優(yōu)選地,含氟聚合物除羥基外沒有極性基團(tuán);優(yōu)選地,平均每分子的含氟聚合物在分子鏈的中間部分具有1.0至10.0個(gè)羥基。在本發(fā)明的另一個(gè)方案中,提供的潤滑劑包括由式2表示的化合物和表氯醇反應(yīng)產(chǎn)生的含氟聚合物,其數(shù)均分子量不小于2,000且不大于12,000平均每分子的含氟聚合物在分子鏈的中間部分具有1.0至10.0個(gè)羥基。HO(CH2CH20)xCH2CF20(CF2CF20)p(CF20)q''CF2CH2(OCH2CH2)yOH...(2)在式2中,p"、q"、x和y是相互獨(dú)立的,各自是不小于O的實(shí)數(shù)(其中p"和q"不能同時(shí)為O);結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列。該方案提供了即使是高分子也能形成薄的單分子層膜厚度的潤滑劑。當(dāng)使用該潤滑劑時(shí),即使它是高分子,也能形成很薄的單分子層膜厚度,從而可在寬溫度范圍環(huán)境下提高可靠性而不降低飛行穩(wěn)定性。優(yōu)選地,潤滑劑包括由式2為表示的化合物、表氯醇反應(yīng),并隨后與縮水甘油反應(yīng)而形成的含氟聚合物,優(yōu)選地,該含氟聚合物具有結(jié)構(gòu)如式3表示的末端基團(tuán)。-R.........(3)(在式3中,R是極性基團(tuán)或烴基);優(yōu)選地,式2的部分或全部結(jié)構(gòu)單元CF20和C2F40被式4和式5中任一結(jié)構(gòu)所替代;-CF2CF2CF2-.........(4)—CFCF2—"-(5)CF3優(yōu)選地,潤滑劑包括除含氟聚合物之外的含氟化合物;優(yōu)選地,除含氟聚合物之外的含氟化合物選自具有式9、10和11所示結(jié)構(gòu)的化合物所組群組中的至少一個(gè)化合物,R工CF20-(CF2CF2O)p—(CF2O)q'-CF2-R2(9)R1-0-(CF2CF2CF20)r'-CF2CEVR2(10)F—(CFGF20)s,—CFR2…(")CF3CF3在式9-ll中,R)和RS在每個(gè)式中是相互獨(dú)立的,并且各式獨(dú)立于其它式,其分別是選自如下組成的群組中的一個(gè)基團(tuán)羥基、羧基、氨基、磷腈環(huán)、單價(jià)脂肪烴基、單價(jià)芳香烴基和單價(jià)雜環(huán)芳香烴基,所述單價(jià)脂肪烴基包括一個(gè)或多個(gè)取代基,所述取代基選自羥基、羧基、氨基和磷腈環(huán)所組群組中的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán),所述單價(jià)脂肪烴基可包括羰基、醚基或羰基和醚基,所述單價(jià)脂肪烴基可包括雙鍵、三鍵或者雙鍵和三鍵,所述單價(jià)脂肪烴基可以是支鏈的單價(jià)脂肪烴基,所述的單價(jià)芳香烴基和單價(jià)雜環(huán)芳香烴基各自含有作為一個(gè)或多個(gè)取代基的選自羥基、羧基、氨基和磷腈'環(huán)所組群組中的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán);p'、q'、r'和s'都是正實(shí)數(shù);式9-ll的每個(gè)結(jié)構(gòu)單元可相互構(gòu)成每個(gè)化合物結(jié)構(gòu)中的無規(guī)序列或嵌段序列。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方案,提供了磁記錄介質(zhì),其包括磁記錄層、位于磁記錄層之上的保護(hù)層和保護(hù)層上的磁記錄介質(zhì)潤滑劑層,其中磁記錄介質(zhì)潤滑劑層是應(yīng)用了上述潤滑劑而形成;滑動頭帶有記錄轉(zhuǎn)換器用來在:磁記錄介質(zhì)上記錄信息和/或從磁記錄介質(zhì)使信息再現(xiàn),該滑動頭在面向磁記錄介質(zhì)的表面上具有保護(hù)層和滑動頭潤滑劑層,該滑動頭潤滑劑層是應(yīng)用了上述潤滑劑而形成。根據(jù)上述各方案,提供了磁記錄介質(zhì)、滑動頭和磁記錄裝置,其具有非常薄的潤滑劑膜,且在不降低飛行穩(wěn)定性的情況下,在寬溫度范圍環(huán)境>下提高了可靠性。本發(fā)明提供的潤滑劑即使在高度聚合時(shí),仍能得到非常薄的單分子層膜厚度。在磁記錄裝置中,當(dāng)使用這種潤滑劑作為磁記錄介質(zhì)的潤滑劑層和滑動頭潤滑劑層時(shí),其可將潤滑劑膜的厚度減少到很薄,在不降低飛行穩(wěn)定性的情況下,在寬溫度范圍的環(huán)境下提高了可靠性。圖l是含氟聚合物附著在被極性基團(tuán)Pols覆蓋的表面的示意圖;圖2是含氟聚合物附著在被極性基團(tuán)P0ls覆蓋的表面的另一個(gè)示意圖;圖3是含氟聚合物附著在被極性基團(tuán)Pols覆蓋的表面的另一個(gè)示意圖;圖4是計(jì)算相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈的數(shù)均分子量的示意圖;圖5是實(shí)施例1中化合物的FT-IR圖;圖6是實(shí)施例1中化合物的!HNMR圖;圖7是實(shí)施例1中化合物的UCNMR圖;圖8是實(shí)施例1中化合物的WFNMR圖;圖9是橢圓偏振儀所獲得的潤滑劑膜厚度的截面特征圖;圖10是相鄰羥基之間的結(jié)構(gòu)部分的數(shù)均分子量(Mc)和單分子層膜厚度之間的關(guān)系曲線;圖ll是滑動試驗(yàn)的結(jié)果圖;圖12是另一個(gè)滑動試驗(yàn)的結(jié)果圖;圖13是TDV和TOV試驗(yàn)的結(jié)果圖;圖14是另一個(gè)TDV和TOV試驗(yàn)的結(jié)果圖;圖15是依據(jù)溫度變化的潤滑劑的粘度特性曲線圖;圖16是使用即刻后的膜厚度特征圖;圖17是使用140小時(shí)后的膜厚度特征圖;圖18是使用即刻后的膜厚度特征圖;圖19是使用140小時(shí)后的膜厚度特征圖;圖20是20。C的粘度與23。C的擴(kuò)散系數(shù)的自然對數(shù)之間的關(guān)系曲線;圖21是硬盤裝置內(nèi)部結(jié)構(gòu)的平面示意圖;圖22是呈現(xiàn)出頭和磁記錄介質(zhì)之間關(guān)系的硬盤裝置截面示意圖。具體實(shí)施方式通過下述圖、表、式、實(shí)施例等來說明本發(fā)明的具體實(shí)施方式。這些圖、表、式、實(shí)施例等是為了舉例說明本發(fā)明,而不是對本發(fā)明的范圍進(jìn)行限制。其它的具體實(shí)施方式也落在本發(fā)明的范圍內(nèi),與本發(fā)明的意圖相符。分子的中間部分具有極性基團(tuán)的全氟聚醚是已知的潤滑劑,該分子結(jié)構(gòu)使?jié)櫥瑒┰诟叻肿恿康那闆r下也不會得到厚的單分子層膜{(參見,曰本未審查的申請(申請公開號2003-162810)(權(quán)利要求)}。但是,其具體分子結(jié)構(gòu)、分子量范圍等都是未知的。研究結(jié)果發(fā)現(xiàn),在磁記錄裝置中,當(dāng)應(yīng)用于磁記錄介質(zhì)潤滑劑層和滑動頭潤滑劑層時(shí),含有除全氟結(jié)構(gòu)外的特定結(jié)構(gòu)的含氟聚合物即使具有高分子量也可以使?jié)櫥瑒雍鼙?,并且可在不損失飛行穩(wěn)定性的情況下,在寬溫度范圍環(huán)境下使可靠性提高。本發(fā)明的潤滑劑包括由式2表示的化合物和表氯醇反應(yīng)產(chǎn)生的含氟聚合物,其數(shù)均分子量不小于2,000且不大于12,000,平均每個(gè)分子的分子鏈的中間部分具有1.0至10.0個(gè)羥基。HO(CO)xCH2CF20(CF2CF20)p(CF20)qCF2CH2(OCH2CH2)yOH...(2)在式2中,p"、q"、x和y是相互獨(dú)立的,各自是不小于O的實(shí)數(shù)(p"和q"不能同時(shí)為O);結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列。在包括下文的本發(fā)明中,當(dāng)用下標(biāo)符號表示"實(shí)數(shù)"時(shí),"實(shí)數(shù)"的意思是具有該結(jié)構(gòu)的化合物或部分的平均數(shù)??梢杂萌魏我阎姆椒ㄟM(jìn)行上述反應(yīng)。也可以用上述以外的其它不同反應(yīng)步驟和純化步驟獲得該含氟聚合物。分子鏈中間部分的羥基可以來自表氯醇。分子的末端結(jié)構(gòu)主要是羥基。進(jìn)一步,本發(fā)明的潤滑劑包括由式2表示的化合物和表氯醇進(jìn)行反應(yīng),隨后與縮水甘油反應(yīng)而產(chǎn)生的含氟聚合物,其數(shù)均分子量不小于2,000且不大于12,000,平均每分子在分子鏈的中間部分具有1.0至10.0個(gè)羥基。也可以用上述以外的其它反應(yīng)步驟和純化步驟獲得該潤滑劑??梢杂萌魏我阎姆椒ㄟM(jìn)行上述的反應(yīng)。分子鏈中間部分的羥基可以來自表氯醇。分子鏈末端的-CH2-CH(OH)-CH2-OH來自縮水甘油。通過將生成的聚合物與合適的化合物反應(yīng),用其它基團(tuán)取代或封端該末端羥基。甲基碘化物、羧酐等可以用于取代或封端。通過此方法,含氟聚合物的末端基團(tuán)獲得了如式3表示的結(jié)構(gòu)。OCOCH3、COOH、OCH3和OCH2CH3是極性基團(tuán)R的例子,烷基是烴基基團(tuán)R的例子。-R............(3)在式3中,R代表極性基團(tuán)或烴基。本發(fā)明優(yōu)選的是由式2表示的化合物獲得的含氟聚合物,式2中的部分或全部CF20和C2F40結(jié)構(gòu)單元被式4和式5表示的結(jié)構(gòu)之一所取代。-CF2CF2CF2-............(4)—CFCF2-…(5)CF3值得注意的是,也可以將表氯醇和/或縮水甘油與商業(yè)來源的包括式4和/或式5表示的結(jié)構(gòu)的含氟聚合物一起反應(yīng),來合成與式l表示的相似結(jié)構(gòu)。本發(fā)明提供的潤滑劑,即使當(dāng)潤滑劑具有高分子量時(shí),也能提供足夠薄的單分子層膜厚度。據(jù)認(rèn)為,在包括具有該結(jié)構(gòu)的含氟聚合物的潤滑劑中,分子中間部分存在的極性基團(tuán)(羥基)和分子兩端的極性基團(tuán)(羥基)以及鄰近部分附著在使用潤滑劑的表面上(以下成為被覆蓋表面),從而使分子不會從被覆蓋表面上凸起,因而即使是潤滑劑具有高分子量,這種作用效果仍會使?jié)櫥瑒泳哂斜〉哪ず穸?。圖l-3對該狀態(tài)進(jìn)行了說明。圖2是含氟聚合物1的兩端具有極性基團(tuán)Pols的狀態(tài)示意圖;圖l是其中的一個(gè)極性基團(tuán)Pol處于分子鏈的中間部分,另外兩個(gè)處于含氟聚合物l的兩端的狀態(tài)示意圖;圖3是其中兩個(gè)極性基團(tuán)Pol處于分子鏈的中間部分,另外兩個(gè)處于含氟聚合物l的兩端的狀態(tài)示意圖。假設(shè)圖l-3有相同的分子長度,可以理解當(dāng)分子鏈的中間部分有極性基團(tuán)時(shí),含氟聚合物的分子1離開被覆蓋表面2的距離L就很小。根據(jù)研究結(jié)果,可以認(rèn)為數(shù)均分子量不小于2,000且不大于12,000、平均每分子聚合物分子鏈的中間部分具有1.0至10.0個(gè)羥基、包括具有式l所示結(jié)構(gòu)的含氟聚合物的潤滑劑即便是由任何原料所形成,也能提供類似上述潤滑劑的作用,更不用說是由上面所述組成的原料所形成的了。在以上所述的任一例子中,平均每分子的分子鏈中間部分的羥基數(shù)目優(yōu)選是1.0-5.0。如果少于l.O,單分子層膜厚度則會變厚。在一個(gè)典型的例子中,單分子層膜厚度可以超過2nm。如果大于IO.O,也不會得到改進(jìn)效果。將在下文進(jìn)行描述,當(dāng)含氟聚合物的數(shù)均分子量在2,000-12,000的范圍時(shí),會導(dǎo)致在短分子鏈中存在太多的羥基,分子之間由于羥基的相互作用很容易發(fā)生凝聚,造成潤滑劑膜厚度的變化(即隨著時(shí)間的延長,潤滑劑膜厚度發(fā)生局部性增加)。在上述范圍內(nèi),只要附著在被覆蓋表面的狀況良好,本發(fā)明的含氟聚合物距被覆蓋表面的距離L將與含氟聚合物距被覆蓋表面的距離L在同一數(shù)量級上,后一聚合物僅在末端有極性基團(tuán),其整個(gè)分子的分子量與前一聚合物極性基團(tuán)之間的結(jié)構(gòu)部分的分子量相同。對于數(shù)均分子量小于2,000的含氟聚合物,由高溫耐久性和膜厚度的減小速率指示的遷移性將受到損害。潤滑劑在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)易于消散。當(dāng)分子量大于12,000時(shí),粘度則非常大。上述磁記錄介質(zhì)和頭在低溫下的耐久性會降低。進(jìn)一步概括上述內(nèi)容,當(dāng)分子鏈中間部分存在一個(gè)或一個(gè)以上的極性基團(tuán)時(shí),應(yīng)該對極性基團(tuán)之間的至少一個(gè)分子鏈的化學(xué)式重量水平進(jìn)行研究?;谠撗芯康慕Y(jié)果獲得了潤滑劑,該潤滑劑能提供足夠薄的單分子層膜厚度,如果能滿足此要求,除羥基以外的極性基團(tuán)可適當(dāng)選自已知的極性基團(tuán),其包括,如羧基、羰基、磺酸基、硝基和腈基(但不包括醚鍵),包括于潤滑劑中的含氟聚合物具有式l表示的結(jié)構(gòu),H-((XZ)m,(YZ)n}-(X"Y(1—6))-H-—(1)在式l中,m和n各自是不小于O的實(shí)數(shù)(m和n不能同時(shí)為O);{(XZ)m,(YZ;U表示結(jié)構(gòu)單元XZ和結(jié)構(gòu)單元YZ可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列。相似地,(X"Y(,.s))表示結(jié)構(gòu)單元X和結(jié)構(gòu)單元Y可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列;S是不小于0且不大于1的實(shí)數(shù);X、Y和Z的化學(xué)結(jié)構(gòu)分別如式12、13和14所示(其中X、Y和Z中的氫可被含有l(wèi)-3個(gè)碳的有機(jī)基團(tuán)所取代,該有機(jī)基團(tuán)可以包括醚鍵,也可以包括用于取代氫的極性基團(tuán)和氟中之一的取代基或兩者都包括),-0(CH2CH20)aCH2CF20(CF2CF20)p(CF20)qCF2CH2(OCH2CH2)bO-(12)在式12中,a、b、p和q各自是不小于O的實(shí)數(shù)(p和q不能同時(shí)為O);結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列,—0CH2CHCH2O(CH2GH20)cCH2CF2O(CF2CF2O)r(CF2O)sCF2CH2(OCH2CH2)dOCH2GHGH20—…(13)PolPol在式13中,c、d、r和s各自是不小于O的實(shí)數(shù)(r和s不能同時(shí)為O);結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列;Pols是極性基團(tuán),并在該式中相互獨(dú)立,且獨(dú)立于其它式,-CH2|HCH2-…(14)Pol在式14中,P0l是獨(dú)立于其它式的極性基團(tuán);相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈的數(shù)均分子量不小于500。關(guān)于本發(fā)明的含氟聚合物的分子量,其數(shù)均分子量優(yōu)選不小于2,000且不大于12,000。如上所述的原因通常也同樣適用于數(shù)均分子量的上下限的設(shè)置,尤其是用于磁記錄介質(zhì)的聚合物。極性基團(tuán)本身沒有被包括在相鄰極性基團(tuán)分子鏈的數(shù)均分子量的計(jì)算中。如果相鄰極性基團(tuán)之間沒有分支結(jié)構(gòu),可以用聚合物鏈的相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈確定數(shù)均分子量。如果相鄰極性基團(tuán)之間存在不含極性基團(tuán)的分支結(jié)構(gòu),分子量的計(jì)算不包括分支結(jié)構(gòu)。如果相鄰極性基團(tuán)的分支結(jié)構(gòu)有極性基團(tuán),從分支結(jié)構(gòu)的極性基團(tuán)的角度看,也要計(jì)算相鄰的極性基團(tuán)的分子量。在這種情況下,分子量的計(jì)算中沒有計(jì)算從與相鄰極性基團(tuán)相連接的鏈分出的分支結(jié)構(gòu)部分。在圖4的例子中,例如計(jì)算了Ma、Mb和Mc。在圖4中,Pol代表極性基團(tuán)。這里的術(shù)語"相鄰的",如圖4所示,是指聚合物鏈(包括支鏈)上的極性基團(tuán)與下一個(gè)極性基團(tuán)的關(guān)系。有時(shí),處于分子末端的極性基團(tuán)和其鄰近部分相互靠近。如果處于分子末端的極性基團(tuán)之間的分子鏈和其鄰近部分也被計(jì)算進(jìn)數(shù)均分子量中,那么相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈的分子量將會有很大的變化,可能不足夠滿足上述不小于500的要求。研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),如果從分子末端起的5個(gè)碳中有兩個(gè)或兩個(gè)以上的極性基團(tuán)(包括極性端基),則優(yōu)選把它們放在一組中處理,將從分子末端起的5個(gè)碳作為一個(gè)極性基團(tuán),來選擇能滿足上述不小于500要求的含氟聚合物。當(dāng)?shù)玫降臄?shù)均分子量小于500時(shí),則難以使?jié)櫥瑒拥哪ず穸茸儽。@可能是由于極性基團(tuán)的近距離使聚合物發(fā)生凝聚。更優(yōu)選的數(shù)均分子量不小于l,OOO。具有如式l所示結(jié)構(gòu)的含氟聚合物可以由一種或多種組成。例如,當(dāng)式1中11=0和3=1時(shí),其結(jié)構(gòu)中沒有Y成分,而當(dāng)111=6=0時(shí),其結(jié)構(gòu)中沒有X成分。本發(fā)明的含氟聚合物可以由具有一種結(jié)構(gòu)或兩種結(jié)構(gòu)的含氟聚合物所構(gòu)成。術(shù)語"X、Y和Z中的氫可被含有l(wèi)-3個(gè)碳的有機(jī)基團(tuán)所取代,該有機(jī)基團(tuán)可以包括醚鍵,也可以包括用于取代氫的極性基團(tuán)和氟中之一的取代基或兩者都包括"是指式l所表示的結(jié)構(gòu)不僅是式l本身所示的"沒有分支的結(jié)構(gòu)",還可以是有分支的結(jié)構(gòu),該分支可包括l-3個(gè)碳和介于碳之間的氧,并且與碳結(jié)合的氫可被極性基團(tuán)和/或氟所取代。上述Pol代表一種極性基團(tuán),其在式13中相互獨(dú)立,且在式13和14之間也相互獨(dú)立。本發(fā)明的術(shù)語"極性基團(tuán)"是指除上述醚鍵之外的極性基團(tuán)。極性基團(tuán)的例子包括羥基、羧基、羰基、磺酸基、硝基和腈基。一般而言,從易于得到和對系統(tǒng)的影響如腐蝕等的角度考慮,優(yōu)選的極性基團(tuán)為羥基。在這個(gè)意義上,更優(yōu)選極性基團(tuán)僅是羥基。從易于生產(chǎn)的角度考慮,在很多具體實(shí)施方案中,優(yōu)選的含氟聚合物不包括除式13和14中Pol以外的極性基團(tuán),也不包含分支結(jié)構(gòu)。在實(shí)施例中將要討論,在上述任一情況中,含氟聚合物的相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈的數(shù)均分子量優(yōu)選不超過3,000。如果相鄰極性基團(tuán)之間的結(jié)構(gòu)部分的平均分子量超過3,000,潤滑劑層的膜厚度則易于變厚,因而優(yōu)選的值不超過3,000。對于具有該結(jié)構(gòu)的含氟聚合物,其端基可具有如上所示的式3表示的結(jié)構(gòu)??梢杂萌魏我阎姆椒▽結(jié)構(gòu)引入式3中。在式1中,結(jié)構(gòu)單元CF20和C2F40的一部分或全部優(yōu)選被式4和式5表示的任一結(jié)構(gòu)所替代。預(yù)期這樣的結(jié)構(gòu)會降低表面能等。-CF2CF2CF2-.........(4)—CFCF2—…(5)CF3可以用任何已知的方法引入式3、4、5表示的結(jié)構(gòu)。在上述含氟聚合物中,平均每個(gè)分子的分子鏈中間部分含有1.0至10.0個(gè)極性基團(tuán)(例如羥基)的條件可與上述數(shù)均分子量不小于500的條件一起利用,或者分別利用。本發(fā)明的潤滑劑可以僅包括任何一種上述的含氟聚合物,或還可包括其它化合物。作為其它化合物,其優(yōu)選為除上述含氟聚合物之外的含氟化合物。這些含氟化合物優(yōu)選具有潤滑劑所需的分子量和氟含量等特性。作為這樣的含氟化合物,其優(yōu)選為至少一種選自由式9、10和ll表示的化合物組成的群組中的化合物。它們是可商業(yè)獲得的。R丄CF20-(CF2CF2O)p'-(CF20)q—CF2-R2(9)R1-0-(CF2CF2CF20)r'-CF2CF2-R2(10)F—(CFCF20)s,—CFR2…(")在式9-ll中,R'和f在每個(gè)式中是相互獨(dú)立的,并且各式獨(dú)立于其它式,其分別是選自如下組成的群組中的一個(gè)基團(tuán)羥基、羧基、氨基、磷腈環(huán)、單價(jià)脂肪烴基、單價(jià)芳香烴基和單價(jià)雜環(huán)芳香烴基,所述單價(jià)脂肪烴基包括一個(gè)或多個(gè)取代基,所述取代基選自羥基、羧基、氨基和磷腈環(huán)所組群組中的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán),所述單價(jià)脂肪烴基可包括羰基、醚基或羰基和醚基,所述單價(jià)脂肪烴基可包括雙鍵、三鍵或者雙鍵和三鍵,所述單價(jià)脂肪烴基可以是支鏈的單價(jià)脂肪烴基,所述的單價(jià)芳香烴基和單價(jià)雜環(huán)芳香烴基各自含有作為一個(gè)或多個(gè)取代基的選自羥基、羧基、氨基和磷腈環(huán)所組群組中的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán);p'、q,、r,和s'都是正實(shí)數(shù);式9-ll的每個(gè)結(jié)構(gòu)單元可相互構(gòu)成每個(gè)化合物結(jié)構(gòu)中的無規(guī)序列或嵌段序列。無規(guī)序列無規(guī)序列研究結(jié)果發(fā)現(xiàn)除上述條件外,當(dāng)使用具有極性基團(tuán)的潤滑劑來提高潤滑劑在基底上的附著性能時(shí),潤滑劑的擴(kuò)散系數(shù)和粘度之間存在限制潤滑劑膜厚度變化的特定關(guān)系。據(jù)推測潤滑劑膜變化的原因是由于極性基團(tuán)的分子間相互作用導(dǎo)致的分子凝聚,分子的凝聚可由擴(kuò)散系數(shù)和粘度之間的特定關(guān)系而被限制到可接受的程度內(nèi)。優(yōu)選地,含氟聚合物的潤滑劑具有以下關(guān)系Y<-1.4475X+2.815,其中Y是23。C時(shí)擴(kuò)散系數(shù)的自然對數(shù);X是20。C時(shí)的粘度。更優(yōu)選的關(guān)系為:Y〈-4/3'X+2。采用半浸漬方法測定擴(kuò)散系數(shù)。擴(kuò)散系數(shù)的單位是ym2/8。半浸漬方法是通過浸潤施用潤滑劑而將潤滑劑施加在盤的部分表面上,而不是全部表面。采用該施用方法,隨著時(shí)間的延長,潤滑劑移動,也就是擴(kuò)散到?jīng)]有覆蓋的磁盤表面上。將擴(kuò)散距離的平方對時(shí)間作圖得到的斜率定義為擴(kuò)散系數(shù)??梢杂美缧D(zhuǎn)粘度計(jì)等儀器測定粘度,單位是Pas。上述關(guān)系定義了在諸如磁記錄介質(zhì)、滑動頭等基底上的移動性(擴(kuò)散系數(shù))和分子間相互作用(粘度)之間的關(guān)系,表明分子間相互作用小且難以在基底上移動的潤滑劑不易于發(fā)生凝聚。該關(guān)系特別定義了有關(guān)參數(shù)。這樣的條件通??捎糜诎ê酆衔锏臐櫥瑒5?,如果能用于如上所述的各種含氟聚合物則更有益處,這樣就可以在較短的時(shí)間內(nèi)選擇更有利的潤滑劑組分。本發(fā)明的上述各潤滑劑可有利地用于設(shè)置于磁記錄裝置的磁記錄介質(zhì)和/或滑動頭之上的潤滑劑層。包括磁記錄層、磁記錄層上的保護(hù)層和保護(hù)層上面的磁記錄介質(zhì)潤滑劑層的磁記錄介質(zhì),其中磁記錄介質(zhì)潤滑劑層是通過施用上述潤滑劑而形成,以及用于在磁記錄介質(zhì)上記錄和/或從磁記錄介質(zhì)上讀取記錄的滑動頭,其在面向磁記錄介質(zhì)的一面上具有保護(hù)層和施用上述潤滑劑而形成的滑動頭潤滑劑層,這些潤滑劑層的膜厚度很薄,符合較窄的頭飛行高度的要求。在這種情況下,為提高施用在表面上并且粘附其上的潤滑劑的表面均勻一致性,在施用潤滑劑后,優(yōu)選對磁記錄介質(zhì)潤滑劑層和滑動頭潤滑劑層進(jìn)行熱處理。熱處理優(yōu)選在70-150。C的環(huán)境溫度下進(jìn)行0.5-2小時(shí)。施用潤滑劑后,還優(yōu)選進(jìn)行UV照射處理。熱處理和UV照射處理可以任選其一或兩者都采取。為改進(jìn)在被覆蓋表面上的粘附力,優(yōu)選采用這兩者處理方法,熱處理之后再用UV照射處理。本發(fā)明對潤滑劑所覆蓋的磁記錄介質(zhì)表面和滑動頭表面的材料沒有限制,可以從已知的任意材料中適當(dāng)選擇。優(yōu)選那些對極性基團(tuán)如羥基有一定程度親和力的材料。本發(fā)明的磁記錄裝置將在下文進(jìn)行說明,用硬盤裝置為例進(jìn)行說明。只要不與本發(fā)明的要旨相矛盾,本發(fā)明的"磁記錄裝置"可包括任一或全部的具有磁記錄介質(zhì)和滑動頭的磁記錄裝置。圖21是顯示內(nèi)部結(jié)構(gòu)的硬盤裝置的平面示意圖,圖22是截面示意圖(沿垂直于磁記錄介質(zhì)的磁記錄層的方向的截面圖)顯示了頭和磁記錄介質(zhì)的關(guān)系。如圖21所示,該硬盤驅(qū)動器的主要部件有磁記錄介質(zhì)ll、含頭的滑動頭212、用于控制磁記錄介質(zhì)11的旋轉(zhuǎn)控制部件3(如紡錘形馬達(dá))、用于固定頭的部件4和記錄/再現(xiàn)信號的處理電路5(讀/寫放大器等)。如圖22所示,滑動頭212通過懸臂6和用于靈活支撐滑動頭212的萬向節(jié)(gimbals)7與用于固定頭的部件4連接,滑動頭212的頂端設(shè)有頭8?;瑒宇^的表面上設(shè)有滑動頭保護(hù)層9和滑動頭潤滑劑層10。從圖22的底部可見,磁記錄介質(zhì)11具有基底12、Cr襯底層B、磁記錄層14、磁記錄介質(zhì)保護(hù)層15、磁記錄介質(zhì)潤滑劑層16等。也可以設(shè)置其它層,如接種層,其在圖中被省略。實(shí)施例以下是本發(fā)明實(shí)施例和比較實(shí)施例的詳細(xì)描述。實(shí)施例l(潤滑劑的合成)向500mL丙酮中加入1OOg商業(yè)來源的FOMBLINZDOL(來自SolvaySolexis的一種產(chǎn)品,相應(yīng)于式2結(jié)構(gòu),其中x-y-O,分子量為2,020)和0.125摩爾的表氯醇。將0.11摩爾的氫氧化鈉溶于5g水中形成的水溶液逐滴地加入到混合物中,充分?jǐn)嚢?0分鐘。將混合物加熱回流8小時(shí)。之后,用蒸發(fā)儀使丙酮揮發(fā)后,加入25g三氟乙酸和250mL水,混合物在70。C下攪拌3小時(shí)?;厥粘恋恚?0。C下水洗沉淀。經(jīng)FT-IR、1HNMR、13CNMR和19FNMR確定了該聚合物的結(jié)構(gòu)為如式1所示,其中n=a=b=0,epsilon=l。圖5-8給出了一些光譜結(jié)果。經(jīng)過"FNMR測定,數(shù)均分子量為4,653,平均聚合度為2.14,相鄰羥基之間的分子鏈的數(shù)均分子量為1,980??梢岳斫鈹?shù)均分子量是后面將討論的數(shù)均分子量(Ml,M2,...)的平均值。此外,隨著溫度和壓力的改變,用超臨界二氧化碳液體溶解和提取上述聚合物潤滑劑。表l給出了數(shù)均分子量(Mn)、平均聚合度(r)、相鄰極性基團(tuán)(羥基)之間的分子鏈(M1,M2,...)的數(shù)均分子量(Mc)和每分子所提取的潤滑劑中羥基的平均數(shù)以及提取的流份(Frl-Fr7)。則<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>實(shí)施例2(單分子層膜厚度的測定)如X.Maetal.,"JournalofChemicalPhysics",1999,Vol.110,p.3,129-3,137所述的方法,從梯形結(jié)構(gòu)(參見圖9中A)獲得單分子層膜厚度,通過橢圓偏振儀觀察潤滑劑膜厚度的截面隨著時(shí)間變化的特征,當(dāng)潤滑劑被液化時(shí)則出現(xiàn)該梯形結(jié)構(gòu)(參見圖9)。用浸漬方法將潤滑劑Fr4施用于硬盤保護(hù)層的一部分,觀察潤滑劑膜厚度的截面隨著時(shí)間變化的特征。結(jié)果如圖9所示出現(xiàn)梯形結(jié)構(gòu),該梯形的膜厚度為1.74nm(即單分子層膜厚度)。圖9左側(cè)的較小數(shù)值表示保護(hù)層表面沒有潤滑劑覆蓋。結(jié)構(gòu)右側(cè)大于梯形結(jié)構(gòu)的數(shù)值表示由兩層或兩層以上的分子構(gòu)成的膜厚度。用同樣方法得到FOMBLINZDOL(分子量為2,022)的值為1.66nm。換句話說,即使分子量比FOMBLINZDOL大兩倍甚至兩倍以上,但實(shí)施例l中的含氟聚合物具有接近單分子層膜厚度的相同水平。這就是潤滑劑的極性基團(tuán)附著在基底上的結(jié)果。將相鄰極性基團(tuán)(羥基)間的分子鏈(M1,M2........,)的數(shù)均分子量(Mc)與通過橢圓偏振儀得到的單分子層膜厚度的數(shù)據(jù)之間的關(guān)系,制成圖IO。結(jié)果是,當(dāng)數(shù)均分子量高達(dá)3,000時(shí),單分子層膜厚度可以達(dá)到2.5nm。如果一般認(rèn)為覆蓋膜厚度大約占單分子層膜厚度的80%時(shí),則Mc為3,000時(shí)會得到2nm的覆蓋膜厚度。從對磁空間和頭飛行穩(wěn)定性的角度來看,該數(shù)值太大了。因此,Mc值更優(yōu)選不大于3,000。從對表面自由能測定的結(jié)果判斷,對表面的覆蓋是充分的。換句話說,當(dāng)FOMBLINZDOL的表面自由能是23mN/m時(shí),實(shí)施例1中的含氟聚合物Fr4是18mN/m,這個(gè)表面自由能態(tài)是足夠低的。實(shí)施例3(潤滑劑的合成)向500mL的丙酮中加入100g商業(yè)來源的FOMBLINZDOLTX(來自SolvaySolexis的一種產(chǎn)品,x、y的平均值為1.73,分子量為2,000,參見式31的結(jié)構(gòu))和0.125摩爾的表氯醇。將0.11摩爾的氫氧化鈉溶于5g水中形成的水溶液逐滴地加入到混合物中,充分?jǐn)嚢?0分鐘。將混合物加熱回流8個(gè)小時(shí)。之后,用蒸發(fā)儀使丙酮揮發(fā)后,加入25g三氟乙酸和250mL水,混合物在70。C下攪拌3小時(shí)。回收沉淀,80。C下水洗沉淀。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>經(jīng)過FT-IR、力NMR、13CNMI^B19FNMR,確定該聚合物的結(jié)構(gòu)如式32所示。經(jīng)過"FNMR測定,數(shù)均分子量為4,138,平均聚合度為1.98,相鄰羥基之間的分子鏈的數(shù)均分子量為1,780。應(yīng)該理解,數(shù)均分子量是后面將討論的數(shù)均分子量(M1,M2,…)的平均值。H—KXZ)。98-(X)卜H…(32)此外,隨著溫度和壓力的改變,用超臨界二氧化碳液體溶解和提取上述聚合物潤滑劑。表2給出了數(shù)均分子量(Mn)、平均聚合度(r)、相鄰極性基團(tuán)(羥基)之間的分子鏈(M1,M2,...)的數(shù)均分子量(Mc)和每分子所提取的潤滑劑中羥基的平均數(shù)以及提取的流份(FrlT-Fr6T)。[表2]流份號MnrMc羥基/分子FrlT13451.119502.1Fr2T17401.311002.3Fr3T22831.4413702.4Fr4T40131.9818703.0Fr5T91602.9530004.0Fr6T107694.3424105.3實(shí)施例4(飛行性能的評價(jià))將實(shí)施例l中得到的潤滑劑(Fi"4)通過浸漬方法施用到硬盤的保護(hù)層,用滑動試驗(yàn)評價(jià)其飛行性能。潤滑劑的覆層厚度是1.2mn。在130。C的環(huán)境溫度下熱處理覆層50分鐘。當(dāng)其上裝有壓電元件的滑動元件以6nm的高度懸浮并伴隨著磁盤以8.9m/s邊緣速度旋轉(zhuǎn)時(shí),監(jiān)測該試驗(yàn)壓電元件的輸出。出于比較,對商業(yè)來源的記錄密度為38Gbit/inch、轉(zhuǎn)換值為5.89Gbit/cm"的磁盤進(jìn)行同樣的試驗(yàn)。如圖11和12所示,它們之間沒有差別,這表明潤滑劑層施用了本發(fā)明潤滑劑的磁盤有很好的飛行性能。在圖ll和12中,橫坐標(biāo)軸表示沿磁盤半徑方向磁盤上的位置,縱座標(biāo)軸代表壓電元件的輸出電壓。仍然出于比較,通過浸漬方法將商業(yè)來源的FOMBLINZDOL(分子量為4,000)施用于硬盤的保護(hù)層,利用滑動試驗(yàn)評價(jià)其飛行性能。潤滑劑的覆層厚度為1.2nm。在130。C的環(huán)境溫度下對該覆層熱處理50分鐘。但在此條件下,頭并不能飛行。認(rèn)為這是由于分子量太大,因而單分子層膜厚度太厚,導(dǎo)致飛行失敗。實(shí)施例5(飛行性能的評價(jià))用與實(shí)施例4同樣的浸漬方法將實(shí)施例3中的潤滑劑(Fr4T)施用于硬盤的保護(hù)層,用與實(shí)施例4同樣的滑動試驗(yàn)評價(jià)其飛行性能。結(jié)果用該潤滑劑得到了與實(shí)施例4中Fr4同樣好的飛行性能。實(shí)施例6(飛行性能的評價(jià))用CSS(接觸-啟動-停止)測定儀,測定起飛速度(TOV)和降落速度(TDV)。TOV被定義為磁盤提高旋轉(zhuǎn)速度期間,頭開始飛行時(shí)的速度,TDV被定義為磁盤降低旋轉(zhuǎn)速度期間,頭與磁盤接觸時(shí)的速度。所采用的頭能提供10nm高的飛行高度,磁盤的磁記錄介質(zhì)潤滑劑層使用潤滑劑(實(shí)施例l中為Fr4)。覆層厚度為1.2nm。采用與實(shí)施例4同樣的熱處理。出于比較,對商業(yè)來源的記錄密度為38Gbit/inch、轉(zhuǎn)換的值為5.89Gbit/cm"的磁盤進(jìn)行同樣的試驗(yàn)。結(jié)果如圖13和14所示,它們之間沒有差別,都具有很好的飛行性能。在圖13和14中,橫坐標(biāo)表示沿磁盤半徑方向的磁盤上的位置,縱座標(biāo)表示磁盤的旋轉(zhuǎn)速度。實(shí)施例7(低溫時(shí)的性能)用浸漬方法將實(shí)施例l中的潤滑劑(Frl-Fr7)和實(shí)施例3中的潤滑劑(FrlT-Fr6T)施用于硬盤的保護(hù)層,進(jìn)行CSS(接觸-啟動-停止)試驗(yàn),評價(jià)低溫時(shí)的性能。潤滑劑的覆層厚度為1.2nm,在130。C的環(huán)境溫度下對覆層熱處理50分鐘。在5。C的環(huán)境溫度下重復(fù)進(jìn)行CSS試驗(yàn)。結(jié)果表明,F(xiàn)rl至Fr6和FrlT至Fr6T,進(jìn)行50,000次以上都可能無差錯(cuò)。而當(dāng)用Fr7時(shí),在大約第38,000圈時(shí),頭發(fā)生破碎。換句話說,當(dāng)分子量大于12,000,低溫下的耐久性則明顯降低。這可能由于如圖15所示的低溫下粘度顯著增加的原因。實(shí)施例8對實(shí)施例l中的潤滑劑Fr4、Fr5和Fr6,測定了20。C下的粘度(單位Pas)和23。C下的擴(kuò)散系數(shù)(單位pm"s)。表3示出測量結(jié)果。當(dāng)將23。C的擴(kuò)散系數(shù)(單位pm2/。的自然對數(shù)設(shè)定為Y,20。C下的粘度(單位:Pas)設(shè)定為X,粘度和23。C時(shí)擴(kuò)散系數(shù)的自然對數(shù)之間的關(guān)系滿足關(guān)系Y<-1.4475X+2.815,如圖20所示。此時(shí)的擴(kuò)散系數(shù)是采用半浸漬方法所測定,粘度是釆用旋轉(zhuǎn)粘度計(jì)所測定。在半浸漬方法中,即刻施用潤滑劑后,被潤滑劑覆蓋的區(qū)域和沒有覆蓋的區(qū)域之間的界線要很清晰,這點(diǎn)非常重要。即覆蓋潤滑劑時(shí),以使磁盤表面上形成的界線要盡可能的垂直。將這些潤滑劑以大約3nm的厚度均勻地施用于磁盤,置于室溫下140個(gè)小時(shí),然后觀察凝聚(或凝結(jié))狀態(tài)。結(jié)果沒有發(fā)現(xiàn)明顯的凝聚。施用即刻后和施用140個(gè)小時(shí)之后的膜厚度特征如圖16和17所示。[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>比較實(shí)施例l為了比較,包括含氟聚合物的潤滑劑(A,B,C),當(dāng)將23。C時(shí)的擴(kuò)散系數(shù)的自然對數(shù)設(shè)為Y,20。C的粘度設(shè)為X,且滿足關(guān)系Y二1.4475X+2.815的潤滑劑,按照實(shí)施例8相同的方法施用于磁盤上,觀察施用140個(gè)小時(shí)后的凝聚(或凝結(jié))狀態(tài)。此時(shí)的擴(kuò)散系數(shù)是采用半浸漬方法所測定,粘度是采用旋轉(zhuǎn)粘度計(jì)所測定。表4示出了潤滑劑粘度和23。C時(shí)擴(kuò)散系數(shù)的關(guān)系。圖18和19示出了室溫下施用即刻后和施用140個(gè)小時(shí)后的膜厚度特征。另外,圖20示出了與實(shí)施例8中潤滑劑所述關(guān)系相比較的粘度和23。C時(shí)的擴(kuò)散系數(shù)的關(guān)系。<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>實(shí)施例9(潤滑劑的合成)向?qū)嵤├?中得到的潤滑劑中加入溶于叔丁醇和四氫呋喃中的2.2當(dāng)量的叔丁醇鉀。然后加入2當(dāng)量的縮水甘油?;旌衔镌谑覝叵路磻?yīng)6小時(shí)。加入25g的三氟乙酸和250mL水,然后70。C攪拌3小時(shí)?;厥粘恋恚?0。C水洗沉淀。通過FT-IR、^NMR、"CNMR和"FNMR確定該聚合物的結(jié)構(gòu)如式1所示,其中a=b=0,m=0.28,n二0.86禾口S=0.25。權(quán)利要求1.一種包括含氟聚合物的潤滑劑,所述潤滑劑具有以下關(guān)系Y<-1.4475X+2.815,其中Y是23。C時(shí)的擴(kuò)散系數(shù)的自然對數(shù),擴(kuò)散系數(shù)的單位為jam2/s;X是20。C時(shí)的粘度,粘度的單位為Pas。2.—種包括含氟聚合物的潤滑劑,其中所述含氟聚合物具有式l所示結(jié)構(gòu),并且其相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈的數(shù)均分子量不小于500:H—{(XZ)m,(YZ)n}—(Xrf,Y(1-rf))—H—(1)在式l中,m和n各自是不小于O的實(shí)數(shù),其中m和n不能同時(shí)為O;{(XZ)m,(Yz;y表示結(jié)構(gòu)單元xz和結(jié)構(gòu)單元Yz可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列;相似地,(X&Y(w))表示結(jié)構(gòu)單元X和結(jié)構(gòu)單元Y可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列;(5是不小于0且不大于1的實(shí)數(shù);X、Y和Z的化學(xué)結(jié)構(gòu)分別如式12、13和14所示,其中X、Y和Z中的氫可以被含有l(wèi)-3個(gè)碳的有機(jī)基團(tuán)所取代,該有機(jī)基團(tuán)可以包括醚鍵,也可以包括用于取代氫的極性基團(tuán)和氟中之一或二者都包括,-0(CH2CH20)aCH2CF20(CF2CF20)p(CF20)qCF2CH2(OCH2CH2)bO隱…(12)在式12中,a、b、p和q各自是不小于O的實(shí)數(shù),其中p和q不能同時(shí)為0;結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列,-OCH2jHCH2O(CH2GH20)cCH2CF2O(CF2CF2O)r(CF2O)sCF2CH2(OCH2CH2)dO,CH20-…(13)PolPd在式13中,c、d、r和s各自是不小于0的實(shí)數(shù),其中r和s不能同時(shí)為0;結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列;Pols是極性基團(tuán),其在該式中相互獨(dú)立,且獨(dú)立于其它式,<formula>seeoriginaldocumentpage3</formula>(14)在式14中,Pol是極性基團(tuán),其獨(dú)立于其它式。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,其中所述的含氟聚合物的數(shù)均分子量不小于2,000且不大于12,000。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,其中所述的Pol是羥基。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,其中所述的含氟聚合物的相鄰極性基團(tuán)之間的分子鏈的數(shù)均分子量不大于3,000。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,其中所述的含氟聚合物具有如式3所示結(jié)構(gòu)的端基,-R.............(3)在式3中,R是極性基團(tuán)或烴基。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,其中式1中結(jié)構(gòu)單元CF20和C2F40的部分或全部被式4和式5所表示的任一結(jié)構(gòu)所取代?!狢F2CF2CF2—...........(4)<formula>seeoriginaldocumentpage3</formula>5)8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,其中所述的含氟聚合物除羥基外沒有極性基團(tuán)。9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,其中平均每分子所述的含氟聚合物在分子鏈的中間部分具有1.0至10.0個(gè)羥基。10.—種包括含氟聚合物的潤滑劑,其中所述含氟聚合物是由具有式2所示結(jié)構(gòu)的化合物和表氯醇進(jìn)行反應(yīng)所形成,該含氟聚合物的數(shù)均分子量不小于2,000且不大于12,000,平均每分子的含氟聚合物在分子鏈的中間部分具有1.0至10.0個(gè)羥基,<formula>seeoriginaldocumentpage3</formula>...(2)在式2中,p"、q"、x和y是相互獨(dú)立的,各自是不小于O的實(shí)數(shù),其中p"和q"不能同時(shí)為O;結(jié)構(gòu)單元CF2CF20和CF20可相互構(gòu)成無規(guī)序列或嵌段序列。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的潤滑劑,其中所述潤滑劑包括的含氟聚合物是由具有式2所示結(jié)構(gòu)的化合物和表氯醇反應(yīng),隨后再與縮水甘油反應(yīng)所形成,該含氟聚合物的數(shù)均分子量不小于2,000且不大于12,000,平均每分子的含氟聚合物在分子鏈的中間部分具有1.0至10.0個(gè)羥基。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的潤滑劑,其中所述的含氟聚合物具有如式3所示結(jié)構(gòu)的端基,-R..........(3)在式3中,R是極性基團(tuán)或烴基。13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的潤滑劑,其中式2中的部分或全部結(jié)構(gòu)單元CF20和C2F40被式4和式5中任一結(jié)構(gòu)所替代。—CF2CF2CF2—.........(4)<formula>seeoriginaldocumentpage4</formula>5)14.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,所述的潤滑劑包括除所述含氟聚合物之外的含氟化合物。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的潤滑劑,其中除所述含氟聚合物之外的所述含氟化合物選自由具有式9、10和11所示結(jié)構(gòu)的化合物所組群組中的至少一個(gè)化合物,R工CF20-(CF2CF2〇)p—(CF20)q'-CF2-R2(9)R1-0-(CF2CF2CF20)r'-CF2CF2-R2(10)<formula>seeoriginaldocumentpage4</formula>(11)在式9-ll中,R1和R2在每個(gè)式中是相互獨(dú)立的,并且各式獨(dú)立于其它式,其分別是選自如下組成的群組中的一個(gè)基團(tuán)羥基、羧基、氨基、磷腈環(huán)、單價(jià)脂肪烴基、單價(jià)芳香烴基和單價(jià)雜環(huán)芳香烴基,所述單價(jià)脂肪烴基包括一個(gè)或多個(gè)取代基,所述取代基選自羥基、羧基、氨基和磷腈環(huán)所組群組中的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán),所述單價(jià)脂肪烴基可包括羰基、醚基或羰基和醚基,可包括雙鍵、三鍵或者雙鍵和三鍵,所述單價(jià)脂肪烴基可以是支鏈的單價(jià)脂肪烴基,所述的單價(jià)芳香烴基和單價(jià)雜環(huán)芳香烴基各自含有作為一個(gè)或多個(gè)取代基的選自羥基、羧基、氨基和磷腈環(huán)所組群組中的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán);p'、q'、i"'和s'都是正實(shí)數(shù);式9-ll的每個(gè)結(jié)構(gòu)單元可相互構(gòu)成每個(gè)化合物結(jié)構(gòu)中的無規(guī)序列或嵌段序列。16.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潤滑劑,其中所述包括含氟聚合物的潤滑劑具有以下關(guān)系:Y《1.4475X+2.815,其中Y是23。C時(shí)的擴(kuò)散系數(shù)的自然對數(shù),擴(kuò)散系數(shù)的單位為pmVs;X是20。C時(shí)的粘度,粘度單位為Pas。17.—種磁記錄介質(zhì),其包括磁記錄層、所述磁記錄層上的保護(hù)層和保護(hù)層上面的磁記錄介質(zhì)潤滑劑層,其中所述的磁記錄介質(zhì)潤滑劑層是通過施用權(quán)利要求l的潤滑劑而形成。18.—種磁記錄介質(zhì),其包括磁記錄層、所述磁記錄層上的保護(hù)層和保護(hù)層上面的磁記錄介質(zhì)潤滑劑層,其中所述的磁記錄介質(zhì)潤滑劑層是通過施用權(quán)利要求2的潤滑劑而形成。19.一種用于在磁記錄介質(zhì)上記錄和/或從磁記錄介質(zhì)上讀取記錄并帶有記錄轉(zhuǎn)換器的滑動頭,所述滑動頭在面向所述記錄介質(zhì)的表面上具有保護(hù)層,并具有通過施用權(quán)利要求l的潤滑劑而形成的滑動頭潤滑劑層。20.—種用于在磁記錄介質(zhì)上記錄和/或從磁記錄介質(zhì)上讀取記錄并帶有記錄轉(zhuǎn)換器的滑動頭,所述滑動頭在面向所述記錄介質(zhì)的表面上具有保護(hù)層,并具有通過施用權(quán)利要求2的潤滑劑而形成的滑動頭潤滑劑層。全文摘要本發(fā)明提供了一種潤滑劑,在磁記錄裝置中,其被作磁記錄介質(zhì)的潤滑劑層和/或滑動頭的潤滑劑層時(shí),使?jié)櫥瑒拥暮穸群鼙?。即使是高分子量,也可以獲得足夠薄的單分子層膜厚度。在不降低飛行穩(wěn)定性的情況下,在廣的溫度范圍內(nèi)提高了可靠性。該潤滑劑包括含氟聚合物,潤滑劑有如下關(guān)系Y<-1.4475X+2.815,其中Y是23℃時(shí)擴(kuò)散系數(shù)的自然對數(shù)(單位μm<sup>2</sup>/s);X是20℃時(shí)的粘度(單位Pas),或它包含有特定結(jié)構(gòu)的含氟聚合物,并且相鄰的極性基團(tuán)之間的分子鏈的數(shù)均分子量不小于500。文檔編號G11B5/255GK101121908SQ20061010973公開日2008年2月13日申請日期2006年8月9日優(yōu)先權(quán)日2006年2月28日發(fā)明者東海林武,佐佐匡昭,千葉洋,山川榮進(jìn),押久保由紀(jì)子,渡部慶二申請人:富士通株式會社
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