專利名稱：光盤裝置和信號產(chǎn)生方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光盤裝置和信號產(chǎn)生方法。本發(fā)明適于應(yīng)用于例如從光盤 再現(xiàn)信息的光盤裝置，在所述光盤中，記錄標(biāo)記形成在均勻的記錄層中。
背景技術(shù)：
在光盤裝置領(lǐng)域，具有信號記錄層的常規(guī)光盤(例如，CD (緊湊
盤)、DVD (數(shù)字萬用盤)和藍(lán)光盤(注冊商標(biāo)，此后稱為"BD")) 迄今已經(jīng)得到了廣泛應(yīng)用。在這種光盤裝置中，通過將光(光學(xué))束照射 到信號記錄層中光束應(yīng)該照射的目標(biāo)軌道(此后稱為"期望軌道")，并 通過讀取在期望軌道處反射的光，來再現(xiàn)信息。
在現(xiàn)有技術(shù)類型的光盤裝置中，當(dāng)光束照射到信號記錄層時(shí)，所照射 的光束在信號記錄層處反射，使得能夠以預(yù)定以上量接收反射光。因此， 在現(xiàn)有技術(shù)的光盤裝置中，根據(jù)反射光，產(chǎn)生了表示光束與期望軌道的偏 差的各種誤差信號(例如聚焦誤差信號合尋軌誤差信號)，并執(zhí)行伺服控 制，以將光束照射到期望位置。
此外，在現(xiàn)有技術(shù)類型的光盤裝置中，通過將光束照射到光盤的信號 記錄層，從而改變例如信號記錄層的局部反射率，來記錄信息。
在光盤中，作為公知常識的是，當(dāng)光束通過物鏡等會聚(聚焦)時(shí)形 成的光束點(diǎn)的尺寸近似地由X/NA (X:光束的波長，NA:數(shù)值孔徑)來表 示，并且分辨率也與該值成比例。例如，根據(jù)BD技術(shù)，可以在具有 120mm直徑的光盤的每層上記錄約25GB的數(shù)據(jù)。
光盤通常用于記錄各種內(nèi)容(例如，音樂內(nèi)容和圖像(視頻)內(nèi)容) 以及各種信息(例如，用于計(jì)算機(jī)的各種數(shù)據(jù))。具體而言，近年來，所 處理的信息量已經(jīng)隨著圖像的更高清晰度和音樂的更高音質(zhì)而增大，并且 已經(jīng)存在增大在一個(gè)光盤上記錄的內(nèi)容數(shù)量的需求。因此，已經(jīng)需要具有更大容量的光盤。
考慮到這些需求，提出了一種光盤裝置，其中通過利用例如全息圖來 在光盤的均勻記錄層中將駐波記錄為記錄標(biāo)記，并且為了簡化光盤并提高 盤容量，在一個(gè)盤中形成多個(gè)記錄層(例如，見日本未經(jīng)審査的專利申請
公開No. 2008-71433)。
在所提出的光盤裝置中，光束照射到光盤中的標(biāo)記層(其中包括記錄 標(biāo)記)，并接收從光盤返回的返回光束。此外，在所提出的光盤裝置中， 通過基于在記錄標(biāo)記處反射的返回光束檢測是否存在記錄標(biāo)記，來再現(xiàn)信 息。

發(fā)明內(nèi)容
在現(xiàn)有技術(shù)的光盤裝置中，如圖1中的(A)所示，當(dāng)表示光束總量 的引入信號SPI的信號水平在時(shí)間點(diǎn)tl達(dá)到預(yù)定調(diào)焦閾值A(chǔ)FI時(shí)，基于光 束的焦點(diǎn)位于信號記錄表面附近的判定，調(diào)焦信號SFI (圖l中的(B)) 升高至"高"水平。
此外，在現(xiàn)有技術(shù)的光盤裝置中，當(dāng)在時(shí)間點(diǎn)t2由聚焦誤差信號SFE (圖1中的(C))檢測到過零點(diǎn)時(shí)，聚焦伺服控制信號SFB (圖1中的 (E))升高，以開始聚焦伺服控制。
因此，在現(xiàn)有技術(shù)的光盤裝置中，表示返回光總量的引入信號SPI對 應(yīng)于從光束的焦點(diǎn)到信號記錄表面的距離。通過利用隨著光束的焦點(diǎn)接近 信號記錄表面，引入信號的水平升高這樣的特性，來判定檢測到過零點(diǎn)的 時(shí)間。
另一方面，在適用于日本未經(jīng)審查的專利申請公開No. 2008-71433中 提出的光盤裝置的光盤中，記錄層是均勻的，并且不包括信號記錄表面。 記錄標(biāo)記形成在作為標(biāo)記層的一個(gè)平面上，使得記錄標(biāo)記以分散的狀態(tài)排 列。因此，在所提出的光盤裝置中，如圖2中的(A)所示，取決于光束 的焦點(diǎn)是否位于記錄標(biāo)記鏈(即，軌道)上，引入信號SPI的信號水平顯 著變化，從而導(dǎo)致梳狀波形。
因?yàn)檫@種引入信號SPI的信號水平反復(fù)變化而超過調(diào)焦閾值A(chǔ)FI以上和降低到調(diào)焦閾值A(chǔ)FI以下，所以使得調(diào)焦信號SFI反復(fù)升高和降低。因 此，不能通過使用引入信號來確定檢測到過零點(diǎn)的時(shí)間。
此外，如圖2中的(C)所示，聚焦誤差信號SFE的波形也較大程度 地變形。因此，聚焦誤差信號SFE不能精確表示光束的焦點(diǎn)與標(biāo)記層之間 的偏差。這導(dǎo)致如下可能即使當(dāng)在檢測到過零點(diǎn)時(shí)開始聚焦控制的時(shí) 候，控制系統(tǒng)仍變?yōu)椴环€(wěn)定。
換言之，日本未經(jīng)審查的專利申請公開No. 2008-71433中描述的光盤 裝置具有以下問題引入信號SPI和聚焦誤差信號SFE不能精確地表示從 光束的焦點(diǎn)到標(biāo)記層的距離。
本發(fā)明通過提供一種光盤裝置和信號產(chǎn)生方法而解決了上述問題，該 裝置和方法可以產(chǎn)生表示從光束的焦點(diǎn)到標(biāo)記層的距離的標(biāo)記層距離信 號。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，從光源發(fā)射的光束被分為主光束和副光 束，并且光束被會聚并照射到具有均勻的記錄層且在記錄層中由記錄標(biāo)記 形成軌道的光盤。此時(shí)，將副光束的至少一部分照射到在光盤的徑向上主 光束未照射到的區(qū)域，所述徑向被界定為光盤的半徑的方向?；谟芍鞴?束和副光束中己經(jīng)照射到所述軌道的至少一者導(dǎo)致的返回光束，來產(chǎn)生表 示光束的焦點(diǎn)與軌道所屬的標(biāo)記層之間的距離的標(biāo)記層距離信號。
利用這些特征，可以基于由照射到軌道的光束導(dǎo)致的返回光束來產(chǎn)生 標(biāo)記層距離信號。
根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例， 一種光盤裝置，包括分光器，其被配置 為將從光源發(fā)射的光束分為主光束和副光束；物鏡，其被配置為當(dāng)所述光 束被會聚并照射到具有均勻的記錄層且在所述記錄層中由記錄標(biāo)記形成軌 道的光盤時(shí)，將所述副光束或者將所述主光束所述副光束兩者照射到所述 軌道和未形成所述軌道的空間區(qū)域兩者；以及信號產(chǎn)生單元，其被配置為 基于由已經(jīng)照射到所述軌道和所述空間區(qū)域兩者的所述副光束或者所述主 光束和所述副光束兩者導(dǎo)致的一個(gè)和多個(gè)返回光束，來產(chǎn)生表示所述光束 的焦點(diǎn)與所述軌道所屬的標(biāo)記層之間的距離的標(biāo)記層距離信號。
利用這些特征，可以基于與標(biāo)記層的整體(即，軌道和空間區(qū)域)相關(guān)的返回光束來產(chǎn)生標(biāo)記層距離信號。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，實(shí)現(xiàn)了光盤裝置和信號產(chǎn)生方法，其能夠基于 由照射到軌道的光束導(dǎo)致的返回光束來產(chǎn)生標(biāo)記層距離信號，并因此能夠 產(chǎn)生表示從光束的焦點(diǎn)到標(biāo)記層的距離的標(biāo)記層距離信號。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，實(shí)現(xiàn)了光盤裝置和信號處理方法，其能夠基于 與標(biāo)記層的整體相關(guān)的返回光束來產(chǎn)生標(biāo)記層距離信號，因此能夠產(chǎn)生表 示從光束的焦點(diǎn)到標(biāo)記層的距離的標(biāo)記層距離信號。


圖1圖示了揭示現(xiàn)有技術(shù)中聚焦引入處理的圖； 圖2圖示了表示引入信號和聚焦誤差信號的圖； 圖3A和3B是圖示光盤的結(jié)構(gòu)的示意圖4圖示了記錄標(biāo)記的狀態(tài)；
圖5A和5B是解釋信息的記錄和再現(xiàn)的解釋圖6A和6B圖示了在軌狀況下光點(diǎn)和記錄標(biāo)記的狀態(tài)；
圖7是圖示在模擬中使用的光電檢測器的構(gòu)造的示意圖； 圖8是圖示在在軌狀況下的聚焦誤差信號的圖9是圖示在在軌狀況下的引入信號的圖IOA、 IOB和10C圖示了在在軌狀況下返回光點(diǎn)的狀態(tài)；
圖IIA和圖11B圖示了在0.31gm偏軌狀況下光點(diǎn)和記錄標(biāo)記的狀
態(tài)；
圖12是圖示在0.31/mi偏軌狀況下聚焦誤差信號的圖13是圖示在0.31/mi偏軌狀況下引入信號的圖14A、 14B和14C圖示了在0.31/mi偏軌狀況下返回光點(diǎn)的狀態(tài)；
圖15A和15B圖示了在0.55/mi偏軌狀況下光點(diǎn)和記錄標(biāo)記的狀態(tài)；
圖16是圖示在0.55)tmi偏軌狀況下聚焦誤差信號的圖17是圖示在0.55Mm偏軌狀況下引入信號的圖18A、 18B和18C圖示了在0.55)tmi偏軌狀況下返回光點(diǎn)的狀態(tài)；
圖19A和19B是圖示聚焦誤差信號和校正聚焦誤差信號的比較的圖；圖20A和20B是圖示引入信號和校正引入信號的比較的圖21是圖示光盤裝置的構(gòu)造的示意圖22A和22B圖示了光學(xué)拾取器和光電檢測器的構(gòu)造；
圖23A和23B圖示了第一實(shí)施例中光束的照射；
圖24圖示了表示聚焦誤差信號和校正聚焦誤差信號的波形的圖;
圖25圖示了表示引入信號和校正引入信號的波形的圖26是圖示伺服處理單元的構(gòu)造的框圖27圖示了表示層數(shù)計(jì)數(shù)處理中各種信號的圖28圖示了表示聚焦引入處理中各種信號的圖29圖示了表示尋軌引入處理中各種信號的圖30是解釋用于信息再現(xiàn)處理的過程的流程圖31是解釋用于層數(shù)計(jì)數(shù)處理的過程的流程圖32是解釋用于聚焦引入處理的過程的流程圖33是解釋用于尋軌引入處理的過程的流程圖34圖示根據(jù)第二實(shí)施例的光柵的構(gòu)造；
圖35圖示根據(jù)第二實(shí)施例的光束的構(gòu)造；
圖36圖示根據(jù)第二實(shí)施例的光電檢測器的構(gòu)造；以及
圖37圖示根據(jù)另一實(shí)施例的光束的照射。
具體實(shí)施例方式
以下將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。 (1)第一實(shí)施例 (1-1)光盤的結(jié)構(gòu) 首先，描述第一實(shí)施例中用于再現(xiàn)信息的原理。在第一實(shí)施例中，具
有空間(三維)形狀的記錄標(biāo)記RM形成在光盤100的均勻記錄層101中。
如從圖3A的外觀視圖可見，光盤100整體由基本圓形的盤形成，并 在盤的中心處形成用于卡合的孔IOOH。
此外，如圖3B所示，光盤100具有如下結(jié)構(gòu)記錄信息的記錄層IOI在其兩個(gè)相對表面處被夾在基板102和103之間。
在光盤100中，在記錄層101內(nèi)，記錄標(biāo)記RM相繼地形成為空間圖 案，從而形成空間軌道TR。軌道TR形成在記錄層101內(nèi)與基板102相隔 特定距離的同一平面內(nèi)，從而形成標(biāo)記層Y。
光盤100包括形成在記錄層101內(nèi)的多個(gè)標(biāo)記層Y。圖3B圖示了形 成四個(gè)標(biāo)記層Y的情況。
如圖4所示，記錄標(biāo)記RM由微全息圖形成。更具體而言，如圖5A 所示，記錄標(biāo)記RM以如下方式被記錄從一個(gè)光源發(fā)射并具有405nm波 長的記錄(寫入)光束LW被分為兩個(gè)記錄光束LW1和LW2，并且兩個(gè) 分開的記錄光束LW1和LW2從相對側(cè)(即，分別覆蓋有基板102和103 的兩側(cè))通過物鏡OLl和OL2照射到光盤，以引起干涉。
在光盤100中，通過針對二進(jìn)制記錄數(shù)據(jù)的"1"形成記錄標(biāo)記RM 并通過針對"0"不形成記錄標(biāo)記RM，來記錄信息。
另一方面，如圖5B所示，當(dāng)具有405nm波長的讀取光束LR從覆蓋 有基板102的一側(cè)通過物鏡OL照射到光盤100中的記錄標(biāo)記RM時(shí)，在 記錄模式下已經(jīng)從覆蓋有基板103的一側(cè)照射的記錄光束LW被再現(xiàn)為從 基板102出現(xiàn)的返回光束LRr。
在光盤裝置1 (見圖21)中，可以例如通過當(dāng)形成記錄標(biāo)記RM時(shí)分 配代碼"1"，并在沒有形成記錄標(biāo)記RM時(shí)分配代碼"0"，來再現(xiàn)記錄 <會自
I P ,K、 o
因此，在光盤100中，通過在記錄層101內(nèi)將記錄標(biāo)記RM相繼地形 成為空間圖案，來形成軌道TR，并通過在一個(gè)平面中形成軌道TR，來形 成標(biāo)記層Y。 (1-2)梳狀引入信號的原因
本發(fā)明人己經(jīng)通過模擬研究了當(dāng)讀取光束LR照射到光盤100時(shí)引入 信號SPI成為如圖2的(A)所示的梳狀形狀的原因。
如圖6A所示，在模擬中，通過一個(gè)讀取光束LR在記錄層101中形成 僅一個(gè)光點(diǎn)P，并且通過讀取光束LR產(chǎn)生返回光束LRr。
在模擬中，在對返回光束LRr添加像散之后，通過如圖7所示具有四個(gè)檢測區(qū)域FDa、 FDb、 FDc和FDd的光電檢測器FD來接收返回光束 LRr。光電檢測器FD的檢測區(qū)域FDa至FDd檢測返回光束LRr的各個(gè)部 分，并根據(jù)檢測到的各個(gè)光量而產(chǎn)生檢測信號URa、 URb、 URc和URd (此后統(tǒng)稱為"檢測信號URa至URd")。
此外，在模擬中，基于以下方程(1)來由檢測信號URa至URd產(chǎn)生 和信號，并通過對和信號執(zhí)行LPF (低通濾波)處理來產(chǎn)生引入信號
SPI:
SFE=(URa+URc)—(URb+URd) ... (1)
此外，在模擬中，通過基于以下方程(2)利用像散方法(astigmatism method)來產(chǎn)生聚焦誤差信號SFE:
SPI=URa+URb+URc+URd ... (2)
此處，當(dāng)如圖6A所示讀取光束LR的光點(diǎn)P的中心位于軌道TR的中 心時(shí)，將此情況稱為"在軌狀況"。
圖6B圖示了在在軌狀況下當(dāng)通過物鏡OL接收由記錄標(biāo)記RM產(chǎn)生 的返回光束LRr時(shí)造成的光強(qiáng)度分布(此后稱為"瞳上光強(qiáng)度分布 DL")。注意，在表示用該模擬獲得的光強(qiáng)度分布的各個(gè)圖示中，在將具 有最大光強(qiáng)度的部分設(shè)定為基準(zhǔn)的情況下，以深淺色調(diào)來表示光強(qiáng)度。 即，具有更高光強(qiáng)度的部分被描繪為更深，而具有更低光強(qiáng)度的部分被描 繪為更淺。如圖6B所示，返回光束LRr具有在其中部處相對較高的光強(qiáng) 度和在其周圍部分處相對較低的光強(qiáng)度。
在模擬中，讀取光束LR的波長被設(shè)定為405nm，物鏡OL的NA (數(shù) 值孔徑)被設(shè)定為0.51，軌道TR之間的間隔(此后被稱為"軌道間距 TP")被設(shè)定為l.l/mi，并且光強(qiáng)度分布中的分辨率設(shè)定為128X128。
圖8圖示了在在軌狀況下當(dāng)物鏡OL在聚焦方向上移動時(shí)產(chǎn)生的聚焦 誤差信號SFE。在圖8的曲線圖中，橫軸是時(shí)間基準(zhǔn)，并表示在從0到 200的時(shí)間范圍內(nèi)物鏡OL已經(jīng)移動了 25/rni?？v軸表示信號水平。此情況 也類似地應(yīng)用于下述其他曲線圖。
如圖8所示，在在軌狀況下，聚焦誤差信號SFE界定了具有較大幅度 的S形曲線，并在過零點(diǎn)ZC附近具有較陡的斜率，在過零點(diǎn)ZC處光束相對于標(biāo)記層Y對焦。在聚焦誤差信號SFE的最大點(diǎn)MxF與最小點(diǎn)MnF 之間的間隔是約5.75/mi。
圖9圖示了在在軌狀況下當(dāng)物鏡OL在聚焦方向上移動時(shí)產(chǎn)生的引入 信號SPI。在在軌狀況下，如圖9可見，引入信號SPI在最大點(diǎn)Mxl處具 有非常高的信號水平，在最大點(diǎn)MxI處，光束相對于標(biāo)記層Y對焦。
圖IOA至IOC每個(gè)都圖示了在在軌狀況下由光電檢測器FD接收到的 返回光束LRr的光點(diǎn)(此后稱為"返回光光點(diǎn)Q")中的光強(qiáng)度分布。更 具體而言，圖IOA和IOC分別圖示了當(dāng)聚焦誤差信號SFE (圖8)處于最 大點(diǎn)MxF和最小點(diǎn)MnF時(shí)的返回光光點(diǎn)Q。圖10B圖示了當(dāng)讀取光束 LR相對于標(biāo)記層Y對焦時(shí)的返回光光點(diǎn)Q。
任意返回光光點(diǎn)Q均具有在其中部處相對較高的光強(qiáng)度和在其周圍部 分處相對較低的光強(qiáng)。換言之，具有較高光強(qiáng)度的部分集中在返回光光點(diǎn) Q的中心處。注意，因?yàn)閷馐砑恿讼裆ⅲ栽谄渲凶x取光束LR相 對于標(biāo)記層Y未對焦的圖IOA和10C中，讀取光束LR具有以約45°傾斜 的橢圓形狀。
另一方面，圖IIB圖示了當(dāng)讀取光束LR的光點(diǎn)P的中心與圖IIA圖 示的軌道TR的中心偏軌約0.31/mi時(shí)的瞳上光強(qiáng)度分布DL。
與在軌狀況(圖6B)相比，如圖11B可見，中部具有較低的光強(qiáng) 度，并且具有較高的光強(qiáng)度的部分向外移動。雖然因?yàn)槿缜八鲈趯⒕哂?最大光強(qiáng)度的部分設(shè)定為基準(zhǔn)來以深淺色調(diào)表示光強(qiáng)度分布，所以圖11B 未清楚示出，但是在偏軌狀況(0.31/mi)下返回光束LRr的總光量小于在 軌狀況下的情況。
圖12圖示了在偏軌狀況(0.31/mi)下當(dāng)物鏡OL在聚焦方向上移動時(shí) 產(chǎn)生的聚焦誤差信號SFE。如圖12可見，聚焦誤差信號的幅度與在軌狀 況下的幅度相比減小了較大程度，并且聚焦誤差信號SFE的最大點(diǎn)MxF 與最小點(diǎn)MnF之間的間隔增大到約10/mi。
這因而被理解為，在偏軌狀況(0.31/mi)下聚集誤差信號SFE的靈敏 度顯著降低。
圖13圖示了在偏軌狀況(0.31/mi)下物鏡OL在聚焦方向上移動時(shí)產(chǎn)生的引入信號SPI。如圖13可見，相比在散焦點(diǎn)處(即，在焦點(diǎn)外)的情 況，引入信號SPI的信號水平在相對于標(biāo)記層Y的對焦點(diǎn)處(橫軸100附 近)(其對應(yīng)于最大點(diǎn)MxI)減小。
當(dāng)讀取光束LR從標(biāo)記層Y散焦時(shí)，讀取光束LR以光束具有相對較 大的直徑并與目標(biāo)軌道TG偏軌的方式照射。因此，讀取光束LR在其周 圍部分處照射到記錄標(biāo)記RM，并且以特定光量接收返回光束LRr。
另一方面，當(dāng)讀取光束LR相對于目標(biāo)標(biāo)記層YG對焦時(shí)，讀取光束 LR以光束具有相對較小直徑并與目標(biāo)軌道TG偏軌的狀況照射。因此，讀 取光束LR難以照射到記錄標(biāo)記RM，并且返回光束LRr的光量與當(dāng)讀取 光束LR從目標(biāo)標(biāo)記層YG散焦時(shí)得到的光量相比減小。
圖14A至14C每個(gè)均圖示了在偏軌狀況(0.3lMm)下由光點(diǎn)檢測器 FD接收到的返回光光點(diǎn)Q中的光強(qiáng)度分布。更具體而言，圖14A和14C 分別圖示了當(dāng)聚焦誤差信號SFE (圖12)處于最大點(diǎn)MxF和最小點(diǎn)MnF 時(shí)的返回光光點(diǎn)Q。圖14B圖示了當(dāng)讀取光束LR相對于標(biāo)記層Y對焦時(shí) 的返回光光點(diǎn)Q。
如圖14A至14C可見，返回光光點(diǎn)Q的形狀以比在軌狀況下的情況 向外擴(kuò)展到更大程度的方式發(fā)生變形。
圖15B圖示了當(dāng)如圖15A所示讀取光束LR的光點(diǎn)P的中心與軌道 TR的中心偏軌約0.55/mi時(shí)的瞳上光強(qiáng)度分布DL。在圖15A中，因?yàn)檐?道間距TP是1.1/rni，所以光點(diǎn)P的中心偏軌了 1/2軌道。
如圖15B可見，返回光束LRr在其中部具有略高的光強(qiáng)度，但是在除 了中部之外的其他部分具有非常低的光強(qiáng)度。因此，返回光束LRr的光量 總體上非常小。
圖16圖示了在偏軌狀況(0.55)um)下物鏡OL在聚焦方向上移動時(shí)產(chǎn) 生的聚焦誤差信號SFE。如圖16可見，聚焦誤差信號SFE的最大點(diǎn)MxF 與最小點(diǎn)MnF之間的間隔進(jìn)一步增大到約12.75ium，并且聚焦誤差信號 SFE的靈敏度相比前述偏軌狀況(0.31/mi，圖12)下的情況進(jìn)一步減小。
圖17圖示了在偏軌狀況(0.55/mi)下物鏡OL在聚焦方向上移動時(shí)產(chǎn) 生的引入信號SPI。如圖17可見，相比在前述偏軌狀況(0.31/mi，圖13)下的情況，引入信號SPI的信號水平在相對于標(biāo)記層Y的對焦點(diǎn)處 (橫軸100附近)(其對應(yīng)于最大點(diǎn)Mxl)進(jìn)一步減小。
圖18A至18C每個(gè)均圖示了在偏軌狀況(0.55/mi)下由光點(diǎn)檢測器 FD接收到的返回光光點(diǎn)Q中的光強(qiáng)度分布。更具體而言，圖18A和18C 分別圖示了當(dāng)聚焦誤差信號SFE (圖16)處于最大點(diǎn)MxF和最小點(diǎn)MnF 時(shí)的返回光光點(diǎn)Q。圖18B圖示了當(dāng)讀取光束LR相對于標(biāo)記層Y對焦時(shí) 的返回光光點(diǎn)Q。
如圖18A至18C可見，返回光光點(diǎn)Q的形狀以比在前述偏軌狀況 (0.31/mi，圖14)下的情況向外擴(kuò)展到更大程度的方式進(jìn)一步變形。
圖19A和20A分別圖示了當(dāng)讀取光束LR的光點(diǎn)P的中心從在軌狀況 以0.1375;um的單位逐漸偏軌時(shí)產(chǎn)生的聚焦誤差SFE和引入信號SPI。
如圖19A所示，聚焦誤差信號SFE在由曲線Fl表示的在軌狀況與由 曲線F5表示的偏軌狀況(0.55Mm)之間具有非常大的幅度差。此外，聚 焦誤差信號SFE的斜率變化在與對焦?fàn)顟B(tài)相對應(yīng)的過零點(diǎn)ZC附近非常 大。
換言之，聚焦誤差信號SFE示出了在在軌狀況與偏軌狀況之間的不同 信號水平。
此外，如圖20A所示，引入信號SPI在由曲線I1表示的在軌狀況與由 曲線15表示的偏軌狀況(0.55/mO之間具有非常大的幅度差。引入信號 SFI尤其在對焦?fàn)顟B(tài)附近具有相當(dāng)不同的信號水平。
通常，光盤100具有最大約50/mi的偏心。因此，假定軌道間距TP是 約1.1/mi，當(dāng)讀取光束LR向同一位置照射時(shí)，光盤IOO每轉(zhuǎn)一周，讀取 光束LR與軌道TR相交約90次。
在其中針對期望的標(biāo)記層Y開始聚焦控制的聚焦引入處理中，例如， 光盤裝置1在不移動物鏡16 (圖22A)的情況下照射讀取光束LR。結(jié) 果，讀取光束LR以特定周期重復(fù)地進(jìn)入在軌狀況和偏軌狀況，從而產(chǎn)生 如圖2所示的梳狀引入信號SPI和具有較大變形波形的聚焦誤差信號 SFE。
如上所述，在其中記錄標(biāo)記RM記錄在均勻記錄層101中的光盤100中，因?yàn)楣獗P100不具有反射讀取光束LR的信號記錄表面，所以返回光 束LRr的光量取決于在軌狀況和偏軌狀況而較大地變化。因此，聚焦誤差 信號SFE和引入信號SPI的各個(gè)信號水平(其每個(gè)表示目標(biāo)標(biāo)記層YG與 讀取光束LR的焦點(diǎn)之間的距離)取決于在軌狀況和偏軌狀況而變化。
因此，在將讀取光束LR向同一位置照射的處理(即，用于開始尋軌 控制的預(yù)先階段中的處理)中，當(dāng)讀取光束LR由于光盤100的偏心而與 軌道TR相交時(shí)，聚焦誤差信號SFE和引入信號SPI的各個(gè)信號水平較大 程度地變化。 (1-3)光盤裝置的構(gòu)造
如圖21所示，光盤裝置1主要包括控制單元2?？刂茊卧?包括CPU (中央處理單元)(未示出)、存儲各種程序等的ROM (只讀存儲 器)、以及用作CPU的工作存儲器的RAM (隨機(jī)存取存儲器)。
當(dāng)從光盤100再現(xiàn)信息時(shí)，控制單元2通過驅(qū)動控制單元3驅(qū)動主軸 電動機(jī)5以進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而使被置于預(yù)定轉(zhuǎn)臺的光盤100以期望的速度旋 轉(zhuǎn)。
根據(jù)從外部裝置(未示出)供應(yīng)的用于再現(xiàn)的地址信息，控制單元2 通過驅(qū)動控制單元3來驅(qū)動螺紋電動機(jī)6，使得光學(xué)拾取器10沿著移動軸 6A和6B在尋軌方向上(即，在朝向光盤100的內(nèi)周側(cè)或外周側(cè)的方向 上)移動較長的距離。
光學(xué)拾取器10包括多個(gè)光學(xué)部分，例如物鏡16。在控制單元2的控 制下，光學(xué)拾取器IO將讀取光束LR向光盤100內(nèi)的標(biāo)記層Y (此后稱為 "目標(biāo)標(biāo)記層YG"，其是由用于再現(xiàn)的地址信息所指示)中的軌道TR (此后稱為"目標(biāo)軌道TG")照射，從而檢測返回光束LRr。
信號處理單元4可以通過對從光學(xué)拾取器10供應(yīng)的檢測信號執(zhí)行預(yù) 定的處理(例如算術(shù)處理、解調(diào)處理和解碼處理)，來將被記錄為目標(biāo)軌 道TG中的記錄標(biāo)記RM的信息再現(xiàn)。
用于光學(xué)拾取器10的致動器17 (圖22A)根據(jù)由檢測信號計(jì)算得到 的聚焦誤差信號SFE和尋軌誤差信號STE來執(zhí)行物鏡16的聚焦控制和尋 軌控制，從而調(diào)節(jié)通過物鏡16會聚的讀取光束LR的聚焦位置。(1-4)光學(xué)拾取器的構(gòu)造
以下將描述光學(xué)拾取器10的構(gòu)造。如圖22A所示，光學(xué)拾取器10的 激光二極管11發(fā)射作為具有約405nm波長的藍(lán)色激光束的讀取光束LR， 并進(jìn)入準(zhǔn)直透鏡12。在控制單元2 (見圖21)的控制下，激光二極管11 以與信息的讀取相對應(yīng)的預(yù)定光量發(fā)射讀取光束LR。準(zhǔn)直透鏡12將讀取 光束LR從發(fā)散光轉(zhuǎn)換為平行光，該平行光進(jìn)入光柵13。
光柵13將讀取光束LR分為主光束MB和兩個(gè)副光束SB，這些光束 作為各個(gè)讀取光束LR進(jìn)入偏振分束器14。
偏振分束器14取決于入射光束的偏振方向來允許每個(gè)讀取光束LR通 過并進(jìn)入1/4波長板15。 1/4波長板15將每個(gè)讀取光束LR從P偏振光轉(zhuǎn) 換為圓偏振光，該圓偏振光進(jìn)入物鏡16。
物鏡16將讀取光束LR會聚并照射到光盤100的記錄層101中的目標(biāo) 軌道TG及其附近。此時(shí)，物鏡16將主光束MB和兩個(gè)副光束SB會聚成 焦點(diǎn)分離，使得主光束MB照射到目標(biāo)軌道TG，兩個(gè)副光束SB照射到目 標(biāo)軌道TG的附近。結(jié)果，在目標(biāo)標(biāo)記層Y中的不同位置處分別由主光束 MB和兩個(gè)副光束SB形成主光點(diǎn)MP和兩個(gè)副光點(diǎn)SP (以下詳細(xì)描 述)。
當(dāng)在目標(biāo)軌道TG及其附近形成記錄標(biāo)記RM時(shí)，記錄層101產(chǎn)生返 回光束LRr。另一方面，當(dāng)在目標(biāo)軌道TG及其附近未形成記錄標(biāo)記RM 時(shí)，記錄層101使得讀取光束LR的大部分透過，并難以產(chǎn)生返回光束 LRr。
返回光束LRr沿著初始讀取光束LR的光路在相反方向上傳播。更具 體而言，返回光束LRr通過物鏡16被轉(zhuǎn)換為平行光，并通過1/4波長板 15被進(jìn)一步轉(zhuǎn)換為S偏振光。此后，S偏振光進(jìn)入偏振分束器14。
偏振分束器14在反射/透射表面14S處反射處于S偏振光形式的返回 光束LRr，從而使返回光束LRr進(jìn)入多透鏡19。多透鏡19在對返回光束 添加像散的同時(shí)將返回光束LRr會聚以照射到光電檢測器20。
因?yàn)樽x取光束LR由主光束MB和兩個(gè)副光束SB構(gòu)成，所以返回光 束LRr被產(chǎn)生成為主返回光束MBr和兩個(gè)副返回光束SBr。如圖22B所示，光電檢測器20包括用于接收主返回光束MBr的主光 點(diǎn)檢測器21和用于接收副返回光束SBr的副光點(diǎn)檢測器22和23。
主光點(diǎn)檢測器21具有用于接收主返回光束MBr的檢測區(qū)域21A、 21B、 21C和21D (此后統(tǒng)稱為"檢測區(qū)域21A至21D")。
主光點(diǎn)檢測器21通過檢測區(qū)域21A至21D檢測主返回光束MBr的各 個(gè)部分，并取決于此時(shí)檢測到的各個(gè)光量來產(chǎn)生檢測信號UMa、 UMb、 UMc禾Q UMd (此后統(tǒng)稱為"檢測信號UMa至UMd")。檢測信號UMa 至UMd被發(fā)送至信號處理單元4 (圖21)。
副光點(diǎn)檢測器22具有用于接收一個(gè)副返回光束SBr的檢測區(qū)域 22A、 22B、 22C和22D (此后統(tǒng)稱為"檢測區(qū)域22A至22D")。
副光點(diǎn)檢測器22通過檢測區(qū)域22A至22D檢測一個(gè)副返回光束SBr 的各個(gè)部分，并取決于此時(shí)檢測到的各個(gè)光量來產(chǎn)生檢測信號USla、 USlb、 USlc和USld (此后統(tǒng)稱為"檢測信號USla至USld")。檢測 信號USla至USld被發(fā)送至信號處理單元4 (圖21)。
如同副光點(diǎn)檢測器22，副光點(diǎn)檢測器23具有用于接收另一個(gè)副返回 光束SBr的檢測區(qū)域23A、 23B、 23C和23D (此后統(tǒng)稱為"檢測區(qū)域 23A至23D")。
副光點(diǎn)檢測器23通過檢測區(qū)域23A至23D檢測另一個(gè)副返回光束 SBr的各個(gè)部分，并取決于此時(shí)檢測到的各個(gè)光量來產(chǎn)生檢測信號US2a、 US2b、 US2c和US2d (此后統(tǒng)稱為"檢測信號US2a至US2d")。檢測 信號US2a至US2d被發(fā)送至信號處理單元4 (圖21)。 (1-5)伺服控制信號的產(chǎn)生
如上所述，光盤裝置1的光學(xué)拾取器10 (圖22A)將讀取光束LR分 為主光束MB和兩個(gè)副光束SB，并將這些光束照射到光盤100。
此時(shí)，光學(xué)拾取器10中的光柵13被配置為使得由主光束MB形成的 主光點(diǎn)MP和由兩個(gè)副光束SB形成的副光點(diǎn)SP以在徑向上軌道間距TP 的1/2的間隔彼此隔開的狀態(tài)作為讀取光束LR照射到光盤100。副光點(diǎn) SP每個(gè)都具有與主光點(diǎn)MP基本相同的直徑。
因此，如圖23A所示，當(dāng)副光點(diǎn)SP未位于軌道TR上時(shí)，主光點(diǎn)MP位于軌道TR上。另一方面，如圖23B所示，當(dāng)主光點(diǎn)MP未位于軌道TR 上時(shí)，副光點(diǎn)SP位于軌道TR上。
因此，光盤裝置1確保了主光束MB和副光束SB中的至少一者可以 確實(shí)地照射到軌道TR。
因此，在根據(jù)此實(shí)施例的光盤裝置1中，基于由主光束MB形成的主 返回光束MBr和由副光束SB形成的副返回光束SPr，來產(chǎn)生校正聚焦誤 差信號SFEc和校正引入信號SPIc。
更具體而言，當(dāng)檢測信號UMa至UMd、 USla至USld以及US2a至 US2d從光電檢測器20供應(yīng)時(shí)，光盤裝置1的信號處理單元4 (圖21)根 據(jù)以下方程(3)來產(chǎn)生校正聚焦誤差信號SFEc:
SFEc二(UMa+UMc) —(UMb+UMd) …(3)
+k {(US 1 a+US 1 c) _ (US 1 b+US 1 d)+(US2a+US2c)—(US2b+US2d)}
在方程(3)中，k是用于校正主光束MB與副光束SB之間的光量差 的系數(shù)。系數(shù)k被設(shè)定的值使得由兩個(gè)副光束SB得到的檢測信號USla至 USld和US2a至US2d的各個(gè)信號水平每個(gè)均為由主光束MB得到的檢測 信號UMa至UMd的信號水平的約1/2。例如，當(dāng)兩個(gè)副光束SB以主光束 MB的光量的約1/10的光量照射時(shí)，k^約5。
圖19B除了圖示主光束MB的中心照射到軌道TR的中心的在軌狀況 之外，還圖示當(dāng)主光束MB偏軌0.275/mi和0.4125/mi時(shí)相對于距標(biāo)記層 Y的距離的校正聚焦誤差信號SFEc。
如圖19B可見，將主光束MB處于在軌狀況(曲線Fcl)和偏軌狀況 (曲線Fc3和Fc4)的情況相比，最大點(diǎn)MxF與最小點(diǎn)MnF之間的信號 水平差和過零點(diǎn)ZC附近的曲線斜率差在校正聚焦誤差信號SFEc中比在聚 焦誤差信號SFE (圖19A)中小。
此外，相比曲線Fcl，校正聚焦誤差信號SFEc的信號水平的改變在曲 線Fc3處(即，當(dāng)主光束MB和副光束SB兩者均偏軌了軌道間距TP的 1/4 (0.275/mi)時(shí))最大。
換言之，校正聚焦誤差信號SFEc示出了與距標(biāo)記層Y的距離相對應(yīng) 的信號水平，并且校正聚焦誤差信號SFEc的信號水平幾乎不會隨著主光束MB相對于軌道TR的位置而變化。
結(jié)果，在光盤裝置1中，當(dāng)物鏡16在其徑向上的位置保持固定的同 時(shí)而在聚焦方向上移動時(shí)，如圖24B所示，可以產(chǎn)生其波形相比普通(未 校正)聚焦誤差信號SFE改善的校正聚焦誤差信號SFEc。
此外，信號處理單元4根據(jù)以下方程產(chǎn)生校正引入信號SPIc: SPIc=(UMa+UMb+UMc+UMd) ... (4)
圖20B除了圖示主光束MB的中心照射到軌道TR的中心的在軌狀況 外，還圖示了當(dāng)主光束MB偏軌0.275/xm和0.4125/mi時(shí)相對于距標(biāo)記層 Y的距離的校正引入信號SPIc。
如圖20B可見，將主光束MB處于在軌狀況(曲線Icl)和偏軌狀況 (曲線Ic3和Ic4)的情況相比，最大點(diǎn)MxF處的信號水平差在校正引入 信號SPIc中比在引入信號SPI (圖20A)中小。
此外，相比曲線Icl，校正引入信號SPIc的信號水平的改變在曲線 Ic3處(即，當(dāng)主光束MB和副光束SB兩者均偏軌了軌道間距TP的1/4 (0.275/mi)時(shí))最大。
換言之，校正引入信號SPIc示出了與距標(biāo)記層Y的距離相對應(yīng)的信 號水平，并且與引入信號SPI的信號水平相比，具有較小的取決于主光束 MB相對于軌道TR的位置的校正引入信號SPIc的信號水平的變化。
結(jié)果，在光盤裝置1中，當(dāng)物鏡16在其徑向上的位置保持固定的同 時(shí)而在聚焦方向上移動時(shí)，如圖25B所示，可以產(chǎn)生其波形相比普通(未 校正)引入信號SPI改善的校正引入信號SPIc。
因此，光盤裝置1能夠基于從照射到軌道TR而得到的返回光束LRr 來產(chǎn)生校正聚焦誤差信號SFEc和校正引入信號SPIc，校正聚焦誤差信號 SFEc和校正引入信號SPIc每個(gè)均具有與距標(biāo)記層Y的距離相對應(yīng)的信號 水平。
此外，光盤裝置1的信號處理單元4 (圖21)根據(jù)以下方程(5)產(chǎn) 生主引入信號SPIm。主引入信號SPIm是基于主光束MB產(chǎn)生的，并因此 對應(yīng)于現(xiàn)有技術(shù)光盤裝置中產(chǎn)生的引入信號SPI。SPIm=(UMa+UMb+UMc+UMd) ... (5)
此外，信號處理單元4根據(jù)以下方程(6)產(chǎn)生尋軌誤差信號STE。 在光盤裝置1中，因?yàn)楦惫恻c(diǎn)SP和主光點(diǎn)MP在徑向上彼此隔開了軌道 間距TP的1/2，所以根據(jù)DPP (微分推挽(Differential Push-Pull))法來 產(chǎn)生尋軌誤差信號STE。
STE=(UMa+UMb) —(UMc+UMd) ... (6)
+k{(US 1 a+US lb)—(US 1 c+US 1 d)+(US2a+US2b)—(US2c+US2d)} 此外，信號處理單元4根據(jù)以下方程式(7)產(chǎn)生再現(xiàn)信號SRF: SRF=UMA+UMb+UMc+UMd ... (7)
如上所述，在光盤裝置1中，副光束SB照射到在徑向上主光束MB 未照射到的區(qū)域，從而確保主光束MB和副光束SB中的至少一者照射到 軌道TR。此外，在光盤裝置l中，主光束MB和副光束SB的各個(gè)檢測信 號彼此相加，由此能夠基于由照射到軌道tR得到的返回光束LRr來產(chǎn)生 校正聚焦誤差信號SFEc和校正引入信號SPIc，校正聚焦誤差信號SFEc和 校正引入信號SPIc每個(gè)均具有較小的取決于讀取光束LR相對于軌道TR 的位置的信號水平的變化。
結(jié)果，光盤裝置1能夠產(chǎn)生校正聚焦誤差信號SFEc和校正引入信號 SPIc作為表示從讀取光束LR的焦點(diǎn)到標(biāo)記層Y的距離的信號。 (1-6)伺服處理單元的構(gòu)造
如圖26所示，驅(qū)動控制單元3中的伺服處理單元30通過伺服控制單 元31控制整個(gè)光盤裝置1。通過以下更詳細(xì)的描述，伺服控制單元31基 于從信號處理單元4供應(yīng)的校正聚焦誤差信號SFEc、校正引入信號 SPIc、主引入信號SPIm以及尋軌誤差信號STE來執(zhí)行層數(shù)計(jì)數(shù)處理、聚 焦引入處理以及尋軌引入處理。
此外，伺服處理單元30基于校正引入信號SPIc、校正聚焦誤差信號 SFEc和尋軌誤差信號STE來產(chǎn)生供應(yīng)至致動器17的聚焦驅(qū)動電流DFE和 尋軌驅(qū)動電流DTE。
更具體而言，伺服處理單元30包括聚焦回路電路和尋軌回路電路， 聚焦回路電路包括FE增益調(diào)節(jié)單元32、相位補(bǔ)償單元34和開關(guān)35，尋軌回路電路包括TE增益調(diào)節(jié)單元42、相位補(bǔ)償單元44和開關(guān)45。
當(dāng)校正聚焦誤差信號SFEc供應(yīng)至FE增益調(diào)節(jié)單元32時(shí)，F(xiàn)E增益調(diào) 節(jié)單元32將校正聚焦誤差信號SFEc乘以預(yù)先存儲的基準(zhǔn)增益，并將得到 的乘積作為聚焦驅(qū)動電流DFE供應(yīng)至相位補(bǔ)償單元34。相位補(bǔ)償單元34 調(diào)節(jié)聚焦驅(qū)動電流DFE的相位以使聚焦控制系統(tǒng)穩(wěn)定，并將調(diào)節(jié)后的聚焦 驅(qū)動電流DFE供應(yīng)至開關(guān)35 。
開關(guān)35響應(yīng)于從伺服控制單元31供應(yīng)的幵關(guān)信號SSF而有選擇地轉(zhuǎn) 為"開"和"關(guān)"。伺服控制單元31通過將開關(guān)35轉(zhuǎn)為"開"來將聚焦 回路電路轉(zhuǎn)為"接通"。結(jié)果，聚焦驅(qū)動電流DFE供應(yīng)至致動器17，從 而開始通過反饋控制進(jìn)行的聚焦控制。
類似地，當(dāng)尋軌誤差信號SFE供應(yīng)至TE增益調(diào)節(jié)單元42時(shí)，TE增 益調(diào)節(jié)單元42將尋軌誤差信號STE乘以預(yù)先存儲的基準(zhǔn)增益，并將得到 的乘積作為尋軌驅(qū)動電流DTE供應(yīng)至相位補(bǔ)償單元44。相位補(bǔ)償單元44 調(diào)節(jié)尋軌驅(qū)動電流DTE的相位以使尋軌控制系統(tǒng)穩(wěn)定，并將調(diào)節(jié)后的尋軌 驅(qū)動電流DTE供應(yīng)至開關(guān)45 。
開關(guān)45響應(yīng)于從伺服控制單元31供應(yīng)的開關(guān)信號SST而有選擇地轉(zhuǎn) 為"開"和"關(guān)"。伺服控制單元31通過將開關(guān)45轉(zhuǎn)為"開"來將聚焦 回路電路轉(zhuǎn)為"接通"。結(jié)果，尋軌驅(qū)動電流DTE供應(yīng)至致動器17，從 而開始通過反饋控制進(jìn)行的尋軌控制。
通過分別將用于控制校正引入信號SPI的供應(yīng)的開關(guān)33和34安裝到 聚焦回路電路和尋軌回路電路，來提供聚焦AGC (自動增益控制)電路和 尋軌AGC電路。
更具體而言，聚焦AGC電路被形成為使得當(dāng)開關(guān)33從"關(guān)"轉(zhuǎn)為 "開"時(shí)，聚焦AGC電路從"關(guān)斷"轉(zhuǎn)為"接通"。此時(shí)，校正引入信 號SPIc通過開關(guān)33供應(yīng)至FE增益調(diào)節(jié)單元32，基準(zhǔn)水平信號SNF從伺 服控制單元31供應(yīng)至FE增益調(diào)節(jié)單元32。
FE增益調(diào)節(jié)單元32將校正引入信號SPIc除以基準(zhǔn)水平信號SNF來 歸一化，并將歸一值乘以基準(zhǔn)增益，從而計(jì)算設(shè)定增益。此外，F(xiàn)E增益調(diào) 節(jié)單元32將校正聚焦誤差信號SFEc乘以設(shè)定增益，從而執(zhí)行AGC處理以基于返回光束LRr的光量自動地調(diào)節(jié)增益。
類似地，尋軌AGC電路被形成為使得當(dāng)開關(guān)43從"關(guān)"轉(zhuǎn)為"開" 時(shí)，尋軌AGC電路從"關(guān)斷"轉(zhuǎn)為"接通"。此時(shí)，校正引入信號SPIc 通過開關(guān)33供應(yīng)至TE增益調(diào)節(jié)單元42，基準(zhǔn)水平信號SNT從伺服控制 單元31供應(yīng)至TE增益調(diào)節(jié)單元42。
TE增益調(diào)節(jié)單元42將校正引入信號SPIc除以基準(zhǔn)水平信號SNT來 使前者歸一化，并將歸一引入值乘以基準(zhǔn)增益，從而計(jì)算設(shè)定增益。此 外，TE增益調(diào)節(jié)單元42將尋軌誤差信號STE乘以設(shè)定增益，從而執(zhí)行 AGC處理。
如上所述，伺服處理單元30包括聚焦回路電路、尋軌回路電路、聚 焦AGC電路和尋軌AGC電路，當(dāng)開關(guān)35、 45、 33和43在伺服控制單元 31的控制下切換時(shí)，這些電路被有選擇地轉(zhuǎn)為"接通"和"關(guān)斷"。 (1-7)層數(shù)計(jì)數(shù)處理
光盤裝置1首先執(zhí)行層數(shù)計(jì)數(shù)處理，以對光盤100的記錄層101中存 在的標(biāo)記層Y的數(shù)量進(jìn)行計(jì)數(shù)。
更具體而言，例如，當(dāng)從外部裝置施加使記錄在光盤100上的信息再 現(xiàn)的請求時(shí)，光盤裝置1的控制單元2 (圖21)開始層數(shù)技術(shù)處理?？刂?單元2使光盤100旋轉(zhuǎn)并驅(qū)動致動器17。通過驅(qū)動致動器17，使物鏡16 移位到最大程度遠(yuǎn)離光盤100的位置(此后稱為"最遠(yuǎn)位置")，然后以 預(yù)定移動速度移動接近光盤100 (這些操作此后將稱為"搜索操作")。 注意，致動器17運(yùn)行以移位到與從驅(qū)動控制單元3供應(yīng)的聚焦驅(qū)動電流 DFE和尋軌驅(qū)動電流DTE相對應(yīng)的位置。
在搜索操作期間，光盤裝置1的信號處理單元4 (圖21)根據(jù)檢測信 號UMa至UMd、 USla至USld和US2a至US2d產(chǎn)生校正聚焦誤差信號 SFEc和校正引入信號SPIc，并將所產(chǎn)生的信號供應(yīng)至驅(qū)動控制單元3中 的伺服處理單元30。
在如圖27所示的時(shí)間點(diǎn)tl,當(dāng)校正引入信號SPIc變?yōu)榈扔诨虼笥谡{(diào) 焦閾值A(chǔ)FI時(shí)，如圖26所示的伺服處理單元30中的伺服控制單元31將 校正調(diào)焦信號SFIc從"低"水平提高至"高"水平，并開始對校正聚焦誤差信號SFEc的監(jiān)視。
在時(shí)間點(diǎn)t2,當(dāng)檢測到校正聚焦誤差信號SFEc與基準(zhǔn)水平SL相交的 過零點(diǎn)ZC時(shí)，伺服控制單元31將過零點(diǎn)檢測信號SZCf從"低"水平提 高至"高"水平，并還將計(jì)數(shù)信號SCT從"低"水平提高至"高"水平。
在時(shí)間點(diǎn)t3，當(dāng)校正引入信號SPIc變?yōu)榈陀谡{(diào)焦閾值A(chǔ)FI時(shí)，伺服 控制單元31使校正調(diào)焦信號SFIc、過零點(diǎn)檢測信號SZCf和計(jì)數(shù)信號SCT 中的每個(gè)從"高"水平降低至"低"水平，并繼續(xù)對校正引入信號SPIc的 監(jiān)視。
在從時(shí)間點(diǎn)t4至t6、從時(shí)間點(diǎn)t7至t9以及從時(shí)間點(diǎn)t10至t12的每個(gè) 時(shí)段中，控制單元2重復(fù)與在從時(shí)間點(diǎn)U至t3的時(shí)段中執(zhí)行的處理相似 的處理。結(jié)果，伺服控制單元31總計(jì)四次將計(jì)數(shù)信號SCT提高至"高" 水平。伺服控制單元31將四個(gè)計(jì)數(shù)信號SCT供應(yīng)至控制單元2。
在時(shí)間點(diǎn)t3，當(dāng)通過將預(yù)定聚焦驅(qū)動電流DFE供應(yīng)至致動器17使物 鏡16移位到檢測結(jié)束位置時(shí)，伺服控制單元31使物鏡16在遠(yuǎn)離光盤100 的方向上移位。控制單元2將計(jì)數(shù)信號STC已經(jīng)提高至"高"水平的次數(shù) 計(jì)數(shù)為計(jì)數(shù)值N，并將計(jì)數(shù)值N認(rèn)定為在記錄層101中存在標(biāo)記層Y的數(shù)
如上所述，在光盤裝置1中，能夠通過產(chǎn)生校正引入信號SPIc (表示 由每個(gè)標(biāo)記層Y的整體導(dǎo)致的返回光束LRr的光量)，并通過從校正聚焦 誤差信號SFEc適當(dāng)?shù)貦z測過零點(diǎn)ZC，來對標(biāo)記層Y的數(shù)量進(jìn)行計(jì)數(shù)。 (1_8)聚焦引入處理
此外，光盤裝置1執(zhí)行聚焦引入處理，以針對由用于再現(xiàn)的地址信息 所指示的目標(biāo)標(biāo)記層YG開始聚焦控制。
更具體而言，在層數(shù)計(jì)數(shù)處理之后，在光盤100持續(xù)旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，光 盤裝置1的控制單元2 (圖21)使物鏡16移位到最遠(yuǎn)位置，然后以預(yù)定 的移動速度移動以接近光盤100。
在搜索操作期間，光盤裝置1的信號處理單元4 (圖21)根據(jù)檢測信 號UMa至Umd、 USla至USld和US2a至US2d產(chǎn)生校正聚焦誤差信號 SFEc、校正引入信號SPIc和主引入信號SPIm，并將所產(chǎn)生的信號供應(yīng)至驅(qū)動控制單元3中的伺服處理單元30。
例如，如圖28所示，當(dāng)校正引入信號SPIc在時(shí)間點(diǎn)t21變?yōu)榈扔诨?大于調(diào)焦閾值A(chǔ)FI時(shí)，伺服處理單元30中的伺服控制單元31將校正調(diào)焦 信號SFIc從"低"水平提高至"高"水平，并開始對校正聚焦誤差信號 SFEc的監(jiān)視。
此外，伺服控制單元31監(jiān)視主引入信號SPIm，并產(chǎn)生僅在主引入信 號SPIm變?yōu)榈扔诨蚋哂谡{(diào)焦閾值A(chǔ)FI時(shí)提高至"高"水平的在軌信號 SOT。
在時(shí)間點(diǎn)t22，當(dāng)根據(jù)校正聚焦誤差信號SFEc檢測到過零點(diǎn)ZC時(shí)， 伺服控制單元31將過零點(diǎn)檢測信號SZCf從"低"水平升高至"高"水 平，并還將聚焦伺服控制信號SFB從"低"水平升高至"高"水平。聚焦 伺服控制信號SFB是在聚焦控制的執(zhí)行期間升高至"高"水平的信號。
通過將聚焦伺服控制信號SFB的升高作為作為觸發(fā)器，伺服控制單元 31將聚焦回路電路轉(zhuǎn)為"接通"。光盤裝置1利用反饋控制基于校正聚焦 誤差信號SFEc執(zhí)行聚焦控制，使得校正聚焦誤差信號SFEc變?yōu)榱?，艮卩?使得讀取光束LR (包括主光束MB和副光束SB)聚焦到目標(biāo)標(biāo)記層 YG。
在時(shí)間點(diǎn)t23，當(dāng)校正引入信號SPIc變?yōu)樾∮谡{(diào)焦閾值A(chǔ)FI時(shí)，伺服 控制單元31使S校正聚焦信號SFIc和過零點(diǎn)檢測信號SZCf中的每個(gè)都 從"高"水平降低至"低"水平。
伺服控制單元31測量從時(shí)間點(diǎn)t23起經(jīng)過的時(shí)間，并在從時(shí)間t22起 經(jīng)過預(yù)定聚焦確認(rèn)時(shí)間之后的時(shí)間點(diǎn)t24確認(rèn)校正調(diào)焦信號SFIc的水平。 當(dāng)校正調(diào)焦信號SFIc處于"低"水平時(shí)，伺服控制單元31認(rèn)定聚焦控制 系統(tǒng)處于發(fā)散狀態(tài)，并且未正確地執(zhí)行聚焦控制。在這種認(rèn)定時(shí)，伺服控 制單元31使聚焦伺服控制信號SFB降低至"低"水平。同時(shí)，通過將聚 焦伺服控制信號SFB的降低作為觸發(fā)器，伺服控制單元31再次將聚焦回 路電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"。
此外，控制單元2使物鏡16再次移位到最遠(yuǎn)位置，然后以預(yù)定的移 動速度移動以接近光盤100。在時(shí)間點(diǎn)t25，當(dāng)校正引入信號SPIc變?yōu)榈扔诨蚋哂谡{(diào)焦閾值A(chǔ)FI 時(shí)，伺服控制單元31將校正調(diào)焦信號SFIc從"低"水平提高至"高"水 平，并開始對校正聚焦誤差信號SFEc的監(jiān)視。
在時(shí)間點(diǎn)t26，當(dāng)根據(jù)校正聚焦誤差信號SFEc檢測到過零點(diǎn)ZC時(shí)， 伺服控制單元31將過零點(diǎn)檢測信號SZCf從"低"水平提供至"高"水 平，并還將聚焦伺服控制信號SFB從"低"水平提供至"高"水平。
在從時(shí)間點(diǎn)t26起經(jīng)過預(yù)定聚焦確認(rèn)時(shí)間之后的時(shí)間點(diǎn)t27處，伺服 控制單元31確認(rèn)校正調(diào)焦信號SFIc的水平。當(dāng)校正調(diào)焦信號SFIc的水平 處于"高"水平時(shí)，伺服控制單元31認(rèn)定聚焦控制系統(tǒng)處于發(fā)散狀態(tài)， 并且未適當(dāng)?shù)貓?zhí)行聚焦控制。在這種認(rèn)定時(shí)，伺服控制單元31使過零點(diǎn) 檢測信號SZCf降低至"低"水平。
在此情況下，伺服控制單元31隨后開始用于調(diào)節(jié)校正聚焦誤差信號 SFEc的增益的AGC處理。
更具體而言，當(dāng)光盤裝置1的伺服處理單元30中的伺服控制單元31 (圖26)開始用于校正聚焦誤差信號SFEc的AGC控制時(shí)，開關(guān)信號SSF 被供應(yīng)至開關(guān)33，從而將開關(guān)33從"關(guān)"轉(zhuǎn)為"開"。相應(yīng)地，校正引 入信號SPIc被供應(yīng)至FE增益調(diào)節(jié)單元32。
FE增益調(diào)節(jié)單元32將校正引入信號SPIc除以從伺服控制單元31供 應(yīng)的基準(zhǔn)水平信號SNF,以將校正引入信號SPIc歸一化，從而計(jì)算歸一 引入值。然后，F(xiàn)E增益調(diào)節(jié)單元32將歸一引入值乘以預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)增 益值，從而確定設(shè)定增益值。此外，F(xiàn)E增益調(diào)節(jié)單元32將供應(yīng)到其的校 正聚焦誤差信號SFEc乘以設(shè)定增益值，從而產(chǎn)生被供應(yīng)至相位補(bǔ)償單元 34的聚焦驅(qū)動電流DFE。
為了提高控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性，相位補(bǔ)償單元34調(diào)節(jié)聚焦驅(qū)動電流 DFE的相位并通過開關(guān)35輸出所調(diào)節(jié)的聚焦驅(qū)動電流DFE。結(jié)果，將基 于其增益已經(jīng)通過AGC處理來調(diào)節(jié)的校正聚焦誤差信號SFEc而產(chǎn)生的聚 焦驅(qū)動電流DFE供應(yīng)給致動器17。
因此，由于伺服控制單元31能夠基于來自標(biāo)記層Y的返回光束LRr 的光量來確定設(shè)定增益值，所以可以將適當(dāng)?shù)木劢跪?qū)動電流DFE供應(yīng)至致動器17并可以使聚焦控制系統(tǒng)穩(wěn)定。
在光盤裝置1中，如上所述，可以通過產(chǎn)生表示由標(biāo)記層Y整體導(dǎo)致
的返回光束LRr的光量的校正引入信號SPIc，并通過根據(jù)校正聚焦誤差信 號SFEc來適當(dāng)?shù)貦z測過零點(diǎn)ZC，開始聚焦控制。此外，在光盤裝置1 中，通過檢査校正聚焦誤差信號SFEc是否超過調(diào)焦閾值A(chǔ)FI，來適當(dāng)?shù)?判定是否穩(wěn)定地執(zhí)行聚焦控制。
此外，在光盤裝置1中，因?yàn)榛谟蓸?biāo)記層Y整體導(dǎo)致的返回光束 LRr來產(chǎn)生校正聚焦誤差信號SFEc，所以無論讀取光束LR與軌道TR之 間的位置關(guān)系如何，校正聚焦誤差信號SFEc均能夠表示標(biāo)記層Y與讀取 光束LR的焦點(diǎn)之間的距離。結(jié)果，能夠使聚焦控制系統(tǒng)穩(wěn)定。
此外，在光盤裝置1中，基于表示由標(biāo)記層Y整體導(dǎo)致的返回光束 LRr的光量的校正引入信號SPIc，來調(diào)劑校正聚焦誤差信號SFEc的設(shè)定 增益值。因此，伺服處理單元30能夠根據(jù)返回光束LRr的光量來設(shè)定適 當(dāng)?shù)脑O(shè)定增益值。結(jié)果，能夠使聚焦控制系統(tǒng)穩(wěn)定。 (1-9)尋軌引入處理
隨后，光盤裝置1執(zhí)行針對由用于再現(xiàn)的地址信息指示的目標(biāo)軌道 TG附近的軌道TR開始尋軌控制的軌道引入處理。
在開始軌道引入處理時(shí)，光盤裝置1的伺服處理單元30中的伺服控 制單元31開始監(jiān)視尋軌誤差信號STE。在尋軌引入處理中，因?yàn)閳?zhí)行聚 焦控制，所以校正引入信號SPIc (圖29中的(A))取超過特定水平的 值，并且將調(diào)焦信號SFI (圖29中的(C))保持在"高"水平。
例如，如圖29中的(B)所示，當(dāng)在時(shí)間點(diǎn)t31根據(jù)尋軌誤差信號 STE檢測到過零點(diǎn)ZC時(shí)，伺服控制單元31將過零點(diǎn)檢測信號SZCt從 "低"水平提高至"高"水平，并還將尋軌伺服控制信號STB從"低"水 平提高至"高"水平。
通過將尋軌伺服控制信號STB的升高作為觸發(fā)器，控制單元2將尋軌 回路電路轉(zhuǎn)為"接通"。光盤裝置1用反饋控制基于尋軌誤差信號STE執(zhí) 行尋軌控制，使得尋軌誤差信號STE變?yōu)榱?，即，使得主光束MB照射到 軌道TR。然后，伺服控制單元31在從時(shí)間點(diǎn)t31起經(jīng)過預(yù)定尋軌確認(rèn)時(shí)間之后
的時(shí)間點(diǎn)t32確認(rèn)在軌信號SOT的水平。當(dāng)在軌信號SOT處于"低"水 平時(shí)，伺服控制單元31判定為未以穩(wěn)定方式執(zhí)行尋軌控制，然后使尋軌 伺服控制信號STB從"高"水平降低至"低"水平。
同時(shí)，控制單元2將尋軌回路電路從"接通"轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"。此外， 伺服控制單元31再次重復(fù)已經(jīng)從時(shí)間點(diǎn)t31起執(zhí)行的處理，以根據(jù)尋軌誤 差信號STE來檢測過零點(diǎn)ZC。
另一方面，當(dāng)在預(yù)定接通確認(rèn)時(shí)間內(nèi)在軌信號SOT保持在"高"水平 時(shí)，伺服控制單元31認(rèn)定以穩(wěn)定方式執(zhí)行尋軌控制，然后使過零點(diǎn)檢測 信號SZCt降低至"低"水平。在該情況下，伺服控制單元31開始用于調(diào) 節(jié)尋軌誤差信號STE的增益的AGC處理。
更具體而言，當(dāng)光盤裝置1的伺服處理單元30中的伺服控制單元31 (圖26)開始用于尋軌誤差信號STE的AGC控制時(shí)，開關(guān)信號SSF被供 應(yīng)至開關(guān)43，從而將開關(guān)43從"關(guān)"轉(zhuǎn)為"開"。因此，校正引入信號 SPIc被供應(yīng)至TE增益調(diào)節(jié)單元42。
TE增益調(diào)節(jié)單元42將校正引入信號SPIc除以從伺服控制單元31供 應(yīng)的基準(zhǔn)水平信號SNT，以將校正引入信號SPIc歸一化，從而計(jì)算歸一 引入值。然后，TE增益調(diào)節(jié)單元42將歸一引入值乘以預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)增 益值，從而確定設(shè)定增益值。此外，TE增益調(diào)節(jié)單元42將供應(yīng)到其的校 正聚焦誤差信號SFEc乘以設(shè)定增益值，從而產(chǎn)生被供應(yīng)至相位補(bǔ)償單元 44的尋軌驅(qū)動電流DTE。
為了提高控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性，相位補(bǔ)償單元44調(diào)節(jié)尋軌驅(qū)動電流 DTE的相位并通過開關(guān)45輸出尋軌驅(qū)動電流DTE。結(jié)果，將基于其增益 已經(jīng)通過AGC處理來調(diào)節(jié)的尋軌誤差信號STE而產(chǎn)生的尋軌驅(qū)動電流 DTE供應(yīng)給致動器17。
因此，由于伺服控制單元31能夠基于來自標(biāo)記層Y的返回光束LRr 的光量來確定設(shè)定增益值，所以可以將適當(dāng)?shù)膶ぼ夠?qū)動電流DTE供應(yīng)至致 動器17并可以使尋軌控制系統(tǒng)穩(wěn)定。
此外，光盤裝置1在基于校正聚焦誤差信號SFEc執(zhí)行聚焦控制和基于尋軌誤差信號STE執(zhí)行尋軌控制的同時(shí)，根據(jù)方程式(7)來產(chǎn)生再現(xiàn) 信號SRF。光盤裝置1然后通過對再現(xiàn)信號SRF執(zhí)行預(yù)定處理(例如，二 進(jìn)制編碼處理和解調(diào)處理)來執(zhí)行信息再現(xiàn)處理。
在信息再現(xiàn)處理期間，控制單元2監(jiān)視表示校正引入信號SPIc的信號 水平的調(diào)焦信號SFI。當(dāng)調(diào)焦信號SFI降低至"低"水平時(shí)，控制單元2 認(rèn)定聚焦?fàn)顟B(tài)偏離適當(dāng)狀態(tài)，接著再次執(zhí)行聚焦引入處理和尋軌引入處 理。
因此，在光盤裝置1中，即使當(dāng)例如由于擾動使聚焦控制偏離適當(dāng)狀 態(tài)時(shí)，仍可以基于受到偏軌狀況較少影響的校正引入信號SPIc來以高精度 判定聚焦控制是否處于適當(dāng)狀態(tài)。
此外，在信息再現(xiàn)處理期間，控制單元2監(jiān)視表示主引入信號主引入 信號SPIm的信號水平的在軌信號SOT。當(dāng)在軌信號SOT降低至"低"水 平時(shí)，控制單元2認(rèn)定尋軌控制偏離適當(dāng)狀態(tài)，接著再次執(zhí)行尋軌引入處 理。
因此，在光盤裝置1中，即使當(dāng)例如由于擾動使尋軌控制偏離適當(dāng)狀 態(tài)時(shí)，仍可以基于受到偏軌狀況較少影響的校正聚焦誤差信號SFEc來以 高精度執(zhí)行尋軌控制。
如上所述，在光盤裝置l中，基于校正引入信號SPIc的信號水平來確 認(rèn)聚焦控制是否處于適當(dāng)狀態(tài)。此外，無論讀取光束LR與軌道TR之間 的位置關(guān)系如何，光盤裝置1均可以精確地判定聚焦控制是否處于適當(dāng)狀 態(tài)。
此外，在光盤裝置1中，基于主引入信號SPIm來確認(rèn)尋軌控制是否 處于適當(dāng)狀態(tài)。因此，通過利用主引入信號SPIm的信號水平根據(jù)主光束 MB與軌道TR之間的位置關(guān)系而變化的事實(shí)，光盤裝置1可以精確地判 定尋軌控制是否處于適當(dāng)狀態(tài)。 (1-10)處理過程
以下將參考圖30至33所示的流程圖來描述根據(jù)信息再現(xiàn)程序而執(zhí)行 的信息再現(xiàn)處理。
(1-10-1)用于信息再現(xiàn)處理的過程當(dāng)從外部裝置施加用于對光盤100執(zhí)行信息再現(xiàn)處理的請求時(shí)，光盤
裝置1開始用于信息再現(xiàn)處理的過程RT1并進(jìn)行到步驟SP1。
在步驟SP1，光盤裝置1使光盤100以期望轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，并進(jìn)行到下一
個(gè)步驟SP2，在步驟SP2，從激光二極管11發(fā)射讀取光束LR。此后，光
盤裝置1進(jìn)行到步驟SP3。
在步驟SP3，光盤裝置1進(jìn)入子例程SRT11以執(zhí)行用于對光盤100中
標(biāo)記層Y的數(shù)量進(jìn)行計(jì)數(shù)的層數(shù)計(jì)數(shù)處理。此后，光盤裝置l進(jìn)行到下一
個(gè)步驟SP6。
在步驟SP6，光盤裝置1進(jìn)入子例程SRT12以執(zhí)行用于針對目標(biāo)標(biāo)記 層YG開始聚焦控制處理的聚焦引入處理。此后，光盤裝置1進(jìn)行到下一 個(gè)步驟SP7。
在步驟SP7，光盤裝置1進(jìn)入子例程SRT13以執(zhí)行用于針對目標(biāo)軌道 TG附近開始尋軌引入處理的尋軌控制處理。此后，光盤裝置1進(jìn)行到下 一個(gè)步驟SP8。
在步驟SP8，光盤裝置1對再現(xiàn)信號SRF執(zhí)行各種處理，并再現(xiàn)光盤 100上記錄的信息。此后，光盤裝置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP9。
在步驟SP9，光盤裝置1判定調(diào)焦信號SFI是否處于"高"水平。
如果步驟SP9中的判定結(jié)果為"是"，則光盤裝置1在確認(rèn)讀取光束 LR的焦點(diǎn)和目標(biāo)標(biāo)記層YG彼此接近并且針對目標(biāo)標(biāo)記層YG適當(dāng)?shù)貓?zhí)行 了聚焦控制時(shí)進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP15。
另一方面，如果驟SP9中的判定結(jié)果為"否"，則這表明未針對目標(biāo) 標(biāo)記層YG適當(dāng)?shù)貓?zhí)行聚焦控制。因此，光盤裝置1進(jìn)行到步驟SPIO，在 步驟SPIO，尋軌AGC電路被轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"。此后，光盤裝置1進(jìn)行到下 一個(gè)步驟SPll。
在步驟SP11將聚焦AGC電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"之后，光盤裝置1進(jìn)行到 下一個(gè)步驟SP12，并接著進(jìn)行到步驟SP13，在步驟SP12和步驟SP13， 分別將尋軌回路電路和聚焦回路電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"。然后，光盤裝置1返 回到步驟SP6以再次相繼執(zhí)行聚焦引入處理和尋軌引入處理。
在步驟SP15，光盤裝置1判定在軌信號SOT是否處于"高"水平。如果步驟SP15中的判定結(jié)果為"是"，則光盤裝置1在認(rèn)定針對目標(biāo)軌
道TG適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了尋軌控制時(shí)進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP19。
另一方面，如果步驟SP15中的判定結(jié)果為"否"，這表明未針對目 標(biāo)軌道TG適當(dāng)?shù)貓?zhí)行尋軌控制。在此情況下，光盤裝置1進(jìn)行到步驟 SP16。
在SP16，光盤裝置1將尋軌AGC電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"。此后，光盤裝 置進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP17，在步驟SP17，將尋軌回路電路轉(zhuǎn)為"關(guān) 斷"。光盤裝置1接著返回步驟SP7，以再次執(zhí)行尋軌引入處理。
在步驟SP19，光盤裝置l判定是否由外部裝置指示了信息再現(xiàn)處理的 結(jié)束。如果步驟SP19中的判定結(jié)果為"否"，則光盤裝置1返回到步驟 SP8以繼續(xù)從光盤IOO再現(xiàn)信息。
另一方面，如果步驟SP19中的判定結(jié)果為"是"，則光盤裝置1進(jìn) 行到結(jié)束步驟，以終止用于信息再現(xiàn)處理的過程RTl。 (1-10-2)用于層數(shù)計(jì)數(shù)處理的過程
以下將參考圖31所示的流程圖(子例程SRT11)描述用于層數(shù)計(jì)數(shù) 處理的過程。
在用于信息再現(xiàn)處理的過程RT1中的步驟SP3 (圖30)，光盤裝置l 進(jìn)入子例程SRT11的步驟SP21。
在步驟SP21中，光盤裝置1開始使物鏡16從最遠(yuǎn)位置沿著接近光盤 100的方向移動。隨后，光盤裝置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP22。
在步驟SP22，光盤裝置l判定調(diào)焦信號SFI是否處于"高"水平。如 果步驟SP22中的判定結(jié)果為"否"，則光盤裝置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟 SP24。
另一方面，如果步驟SP22中的判定結(jié)果為"是"，則這表明讀取光 束LR的焦點(diǎn)位于標(biāo)記層Y的附近。在此情況下，光盤裝置1進(jìn)行到下一 個(gè)步驟SP23。
在步驟SP23，當(dāng)根據(jù)校正聚焦誤差信號SFEc檢測到過零點(diǎn)ZC時(shí)， 光盤裝置l將計(jì)數(shù)值N遞增"1"。此后，光盤裝置1進(jìn)行到步驟SP24。 在步驟SP24，光盤裝置1判定物鏡16是否已經(jīng)移動到檢測結(jié)束位置。如果步驟SP24中的判定結(jié)果為"否"，則光盤裝置1返回到步驟 SP22以繼續(xù)處理。
另一方面，如果步驟S24中的判定結(jié)果為"是"，則光盤裝置1將當(dāng) 前計(jì)數(shù)值N認(rèn)定為光盤100中標(biāo)記層Y的數(shù)量。然后，光盤裝置1進(jìn)行到 結(jié)束步驟以終止層數(shù)計(jì)數(shù)處理。隨后，光盤裝置1切換到用于信息再現(xiàn)處 理的過程RT1的步驟SP6。 (1-10-3)用于聚焦引入處理的過程
以下將參考圖32所示的流程圖(子例程SRT12)描述用于聚焦引入 處理的過程。
在用于信息再現(xiàn)處理的過程RT1中的步驟SP6 (圖30)，光盤裝置l 進(jìn)入子例程SRT12的步驟SP41 。
在步驟SP41，光盤裝置1開始使物鏡16從最遠(yuǎn)位置沿著接近光盤 100的方向移動。隨后，光盤裝置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP42。
在步驟SP42，光盤裝置1判定調(diào)焦信號SFI是否處于"高"水平。如 果步驟SP42中的判定結(jié)果為"否"，則光盤裝置1等待直到在步驟SP42 中獲得"是"的判定結(jié)果。
另一方面，如果步驟SP42中的判定結(jié)果為"是"，則這表明讀取光 束LR的焦點(diǎn)位于標(biāo)記層Y的附近。在此情況下，光盤裝置1進(jìn)行到下一 個(gè)步驟SP43。
在步驟SP43，當(dāng)根據(jù)校正聚焦誤差信號SFEc檢測到過零點(diǎn)ZC時(shí)， 光盤裝置1將計(jì)數(shù)值N遞增"1"。此后，光盤裝置1進(jìn)行到步驟SP44。
在步驟SP44，光盤裝置1基于計(jì)數(shù)值N判定當(dāng)時(shí)處于聚焦?fàn)顟B(tài)的標(biāo) 記層Y是否為由用于再現(xiàn)的地址信息所指示的目標(biāo)標(biāo)記層YG。如果步驟 SP44中的判定結(jié)果為"否"，則光盤裝置1返回到步驟SP42，以繼續(xù)該 處理。
另一方面，如果步驟SP44中的判定結(jié)果為"是"，則這表明目標(biāo)標(biāo) 記層YG當(dāng)時(shí)處于聚焦?fàn)顟B(tài)。在此情況下，光盤裝置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟 SP45。
在步驟SP45，光盤裝置l將聚焦回路電路轉(zhuǎn)為"接通"并接著進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP46。
在步驟SP46，在預(yù)定聚焦確認(rèn)時(shí)間經(jīng)過之后的時(shí)間點(diǎn)，光盤裝置l判 定調(diào)焦信號SFI是否處于"高"水平。如果步驟SP46中的判定結(jié)果為 "否"，則這表明讀取光束LR的焦點(diǎn)未位于標(biāo)記層Y的附近并且未適當(dāng) 地執(zhí)行聚焦控制。在此情況下，光盤裝置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP50。
另一方面，如果步驟SP46中的判定結(jié)果為"是"，則光盤裝置1在 認(rèn)定適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了聚焦控制的情況下進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP47。
在步驟SP47,光盤裝置1將聚焦AGC電路轉(zhuǎn)為"接通"，并接著進(jìn) 行到下一個(gè)步驟SP48。
在步驟SP48，光盤裝置1判定調(diào)焦信號SFI是否處于"高"水平。如 果步驟SP48中的判定結(jié)果為"否"，光盤裝置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟 SP49。
在步驟SP49，光盤裝置1將聚焦AGC電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"，并接著進(jìn) 行到下一個(gè)步驟SP50。
在步驟SP50將聚焦回路電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"之后，光盤裝置1返回到 步驟SP41，以再次執(zhí)行聚焦引入處理。
另一方面，如果步驟SP48中的判定結(jié)果為"是"，則這表明針對目 標(biāo)標(biāo)記層YG適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了聚焦控制。在此情況下，光盤裝置l切換到用 于信息再現(xiàn)處理的過程RT1的步驟SP7。 (1-10-4)用于尋軌引入處理的過程
以下將參考如圖33所示的流程圖(子例程SRT13)描述用于尋軌引 入處理的過程。
在用于信息再現(xiàn)處理的過程RT1 (圖30)中的步驟SP7，光盤裝置1 進(jìn)入子例程SRT13的步驟SP61。
在步驟SP61，在根據(jù)尋軌誤差信號STE檢測到過零點(diǎn)ZC時(shí)，光盤裝 置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP62。
在步驟SP62，光盤裝置1將尋軌回路電路轉(zhuǎn)為"接通"并接著進(jìn)行到 下一個(gè)步驟SP63。
在步驟SP63，光盤裝置1判定調(diào)焦信號SFI是否處于"高"水平。如果步驟SP63中的判定結(jié)果為"否"，則光盤裝置1在認(rèn)定未適當(dāng)?shù)貓?zhí)行聚焦控制的情況下進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP69。
另一方面，如果步驟SP63中的判定結(jié)果為"是"，則光盤裝置1在認(rèn)定適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了聚焦控制的情況下進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP64。
在步驟SP64，光盤裝置1將尋軌AGC電路轉(zhuǎn)為"接通"并接著進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP65。
在步驟SP65，光盤裝置1判定調(diào)焦信號SFI是否處于"高"水平。如果步驟SP65中的判定結(jié)果為"否"，則光盤裝置1在認(rèn)定未適當(dāng)?shù)貓?zhí)行聚焦控制的情況下進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP71。
在步驟SP71，光盤裝置1將尋軌AGC電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"。在隨后的步驟SP72、 SP73和SP74將聚焦AGC電路、尋軌回路電路和聚焦回路電路分別轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"之后，光盤裝置1返回到用于信息再現(xiàn)處理的過程RT1 (圖30)的步驟SP6，以從聚焦引入處理再次執(zhí)行處理。
另一方面，如果步驟SP65中的判定結(jié)果為"是"，則光盤裝置1在認(rèn)定適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了聚焦控制的情況下進(jìn)行到步驟SP66。
在步驟SP66，光盤裝置1判定在軌信號SOT是否處于"高"水平。如果步驟SP66中的判定結(jié)果為"否"，則這表明未針對目標(biāo)軌道TG適當(dāng)?shù)貓?zhí)行尋軌控制。在此情況下，光盤裝置1進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP68。
在步驟SP68，光盤裝置1將尋軌AGC電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"并接著進(jìn)行到下一個(gè)步驟SP69。在步驟SP69，光盤裝置1將尋軌回路電路轉(zhuǎn)為"關(guān)斷"。此后，光盤裝置1返回到步驟SP61，以再次執(zhí)行尋軌引入處理。
另一方面，如果在步驟S66判定的結(jié)果為"是"，則這表明對目標(biāo)軌道TG適當(dāng)?shù)貓?zhí)行尋軌控制。在此情況下，光盤裝置1切換到用于信息再現(xiàn)處理的過程RT1 (圖30)的步驟SP8以執(zhí)行信息的再現(xiàn)。(1-11)操作和優(yōu)點(diǎn)
在如上所述構(gòu)造的光盤裝置1中，讀取光束LR (即，從作為光源的激光二極管11發(fā)射的光束)被劃分為主光束MB和副光束SB，并且劃分的光束被會聚并照射到具有均勻記錄層101的光盤100，在記錄層101中由記錄標(biāo)記RM形成軌道TR。此外，在光盤裝置1中，通過以從主光束MB在徑向上(即，在光盤100的半徑方向上)偏移的狀態(tài)照射具有與主光束MB基本相同的光點(diǎn)直徑的副光束SB，副光束SB的至少一部分照射到其中在徑向上主光束MB未照射到的區(qū)域。
此外，在光盤裝置1中，基于主光束MB和副光束SB來產(chǎn)生校正引入信號SPIc，作為表示讀取光束LR的焦點(diǎn)與軌道TR所屬的標(biāo)記層Y之間距離的標(biāo)記層距離信號。
因此，根據(jù)光盤裝置1，因?yàn)橹鞴馐鳰B或副光束SB照射到軌道TR，所以能夠基于來自軌道TR的返回光束LRr來產(chǎn)生校正引入信號SPIc。因此，光盤裝置1能夠產(chǎn)生如下的校正引入信號SPIc:所述校正引入信號SPIc的信號水平隨著讀取光束LR的焦點(diǎn)與標(biāo)記層Y之間的距離減小而增大。
換言之，根據(jù)光盤裝置1，當(dāng)將主光束MB照射到偏離軌道TR的位置時(shí)，副光束SB的至少一部分照射到軌道TR。因此，主返回光束MBr的光量的改變能夠被副返回光束SBr的光量的改變所補(bǔ)償。
在光盤裝置1中，基于由主光束MB導(dǎo)致的主返回光束MBr的總光量和由副光束SB導(dǎo)致的副返回光束SBr的總光量，根據(jù)上述方程(3)來產(chǎn)生校正引入信號SPIc。因此，根據(jù)光盤裝置l，如圖20B所示，能夠減小根據(jù)讀取光束LR與軌道TR之間的位置關(guān)系引起的信號水平的變化。
此外，在光盤裝置l中，基于由主光束MB導(dǎo)致的主返回光束MBr的光量和由副光束SB導(dǎo)致的副返回光束SBr的光量，根據(jù)上述方程(4)來產(chǎn)生表示讀取光束LR的焦點(diǎn)與標(biāo)記層Y之間偏差的校正聚焦誤差信號SFEc。
因此，根據(jù)光盤裝置1，可以如圖19B所示減小根據(jù)讀取光束LR與軌道TR之間的位置關(guān)系引起的信號水平的變化，并且校正聚焦誤差信號SFEc能夠精確地表示讀取光束LR的焦點(diǎn)與標(biāo)記層Y之間的偏差。
換言之，即使在光盤裝置1處于開始再現(xiàn)信息之后執(zhí)行尋軌控制下的狀態(tài)下，即使在例如由擾動引起的偏軌狀況下，也可以通過使用校正聚焦誤差信號SFEc來以高精度執(zhí)行聚焦控制。在光盤裝置1中，由用作聚焦驅(qū)動單元的致動器17來驅(qū)動物鏡16，以使其在接近和遠(yuǎn)離光盤100的聚焦方向上移動。此外，在光盤裝置1中，當(dāng)校正引入信號SPIc變?yōu)榈扔诨蚋哂陬A(yù)定調(diào)焦閾值A(chǔ)FI時(shí)，將過零點(diǎn)ZC檢測為校正聚焦誤差信號SFEc (即，表示讀取光束LR的焦點(diǎn)與標(biāo)記層Y之間的偏差的聚焦偏差信號)與基準(zhǔn)水平SL相交的點(diǎn)。
光盤裝置1對在物鏡16移動通過從最大程度遠(yuǎn)離光盤100的最遠(yuǎn)位置到檢測結(jié)束位置的預(yù)定移動區(qū)域的同時(shí)檢測到的過零點(diǎn)的數(shù)量進(jìn)行計(jì)數(shù)。
在現(xiàn)有技術(shù)的光盤裝置中，當(dāng)作為主返回光束MBr的總光量提供的普通引入信號SPI變?yōu)榈扔诨虼笥陬A(yù)定調(diào)焦閾值A(chǔ)FI時(shí)，根據(jù)聚焦誤差信號SFE檢測到過零點(diǎn)ZC。因此，現(xiàn)有技術(shù)的光盤裝置由于施加在聚焦誤差信號SFE上的噪聲等而不能檢測到過零點(diǎn)ZC，僅能檢測標(biāo)記層Y。
但是，在使用其中不設(shè)置信號記錄表面而將記錄標(biāo)記RM形成在均勻的記錄層101中的光盤100等的情況下，主返回光束MBr的總光量不能表示讀取光束LR的焦點(diǎn)與軌道TR所屬的標(biāo)記層Y之間的距離。因此，以與現(xiàn)有技術(shù)光盤裝置中所使用的方式相同的方式不能精確檢測標(biāo)記層Y的數(shù)量。
相反，根據(jù)光盤裝置1，因?yàn)樾Ｕ胄盘朣PIc表示讀取光束LR的焦點(diǎn)與軌道TR所屬的標(biāo)記層Y之間的距離，所以與現(xiàn)有技術(shù)的光盤裝置不同，即使對于光盤100也能夠通過使用校正引入信號SPIc來精確地檢測標(biāo)記層Y的數(shù)量。
在光盤裝置1中，驅(qū)動物鏡16以使其在聚焦方向上移動，并基于校正聚焦誤差信號SFEc來反饋控制致動器17，使得校正聚焦誤差信號SFEc保持在基準(zhǔn)水平SL。此外，在光盤裝置1中，基于校正引入信號SPIc的信號水平來確認(rèn)是否精確地執(zhí)行反饋控制。
根據(jù)光盤裝置1，能夠通過使用其信號水平隨著軌道TR與讀取光束LR之間的位置關(guān)系而較小變化的校正引入信號SPIc來精確地確認(rèn)是否適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了反饋控制。
因此，即使在光盤裝置1在開始再現(xiàn)信息之后執(zhí)行尋軌控制中的狀態(tài)下，即使在例如由擾動引起的偏軌狀況下，也能夠通過使用校正引入信號SPIC來以高精度確認(rèn)是否適當(dāng)?shù)貓?zhí)行了反饋控制。
此外，在光盤裝置l中，當(dāng)校正引入信號SPIC變?yōu)榈扔诨虼笥陬A(yù)定調(diào)
焦閾值A(chǔ)FI時(shí)，根據(jù)校正聚焦誤差信號SFEc檢測過零點(diǎn)ZC，并與檢測到的過零點(diǎn)ZC相對應(yīng)地開始反饋控制。
因此，根據(jù)光盤裝置1，通過使用校正引入信號SPIc，可以避免由于施加在聚焦誤差信號SFE上的噪聲等而檢測到過零點(diǎn)ZC，并可以針對目標(biāo)標(biāo)記層YG可靠地開始反饋控制。
在光盤裝置1中，校正引入信號SPIc的信號水平被歸一化并乘以基準(zhǔn)增益，從而對校正聚焦誤差信號SFEc的信號水平進(jìn)行校正。
因此，根據(jù)光盤裝置1，因?yàn)榕c返回光束LRr的光量中的改變相對應(yīng)的校正聚焦誤差信號SFEc的變化能夠被補(bǔ)償，所以能夠提高聚焦控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
在光盤裝置l中，在徑向上驅(qū)動物鏡16，并基于表示返回光束LRr的焦點(diǎn)與標(biāo)記層Y之間的偏差的尋軌誤差信號STE來反饋控制致動器17，使得尋軌誤差信號STE保持在基準(zhǔn)水平SL。此外，在光盤裝置1中，基于表示主返回光束MBr的總光量的主引入信號SPIm來確認(rèn)是否適當(dāng)?shù)貓?zhí)行反饋控制。
因此，根據(jù)光盤裝置1，通過利用主引入信號SPIm的其光量隨著主光束MB與軌道TR之間的位置關(guān)系而較大變化的這種特性，相比其中基于引入信號SPI的略微變化來確認(rèn)是否適當(dāng)?shù)貓?zhí)行尋軌控制的光盤裝置，能夠以更高的精度來確認(rèn)是否適當(dāng)?shù)貓?zhí)行尋軌控制。
因此，在如上所述構(gòu)造的光盤裝置1中，主光束MB和副光束SB照射到軌道TR和未形成TR處的空間區(qū)域AR兩者，并基于由主光束MB和副光束SB中至少一者導(dǎo)致的返回光束LRr，來產(chǎn)生校正引入信號SPIc或校正聚焦誤差信號SFEc，作為表示讀取光束LR的焦點(diǎn)與標(biāo)記層Y之間的距離的標(biāo)記層距離信號。
因此，光盤裝置1能夠基于包括軌道TR和空間區(qū)域AR的標(biāo)記層Y整體導(dǎo)致的返回光束LRr來產(chǎn)生校正引入信號SPIc或校正聚焦誤差信號SFEc。結(jié)果，光盤裝置1所能夠?qū)崿F(xiàn)的光盤裝置和信號產(chǎn)生方法可以減小基于讀取光束LR相對于軌道TR的位置變化引起的返回光束LRr的光量改變，并可以提高標(biāo)記層距離信號的精度。(2)第二實(shí)施例
(2-1)副光束的照射和信號的產(chǎn)生
圖34至36圖示了第二實(shí)施例，其中與圖l至33所示的第一實(shí)施例中相對應(yīng)的那些部件由相同的附圖標(biāo)記表示。第二實(shí)施例與第一實(shí)施例的不同之處在于副光束SB相對于軌道TR的位置和副光點(diǎn)副光點(diǎn)SP的尺寸。根據(jù)第二實(shí)施例的光盤裝置111的構(gòu)造與根據(jù)第一實(shí)施例的光盤裝置1的構(gòu)造相同，因此這里不再重復(fù)其描述。
如圖34所示，與第一實(shí)施例中的光柵13相對應(yīng)的光柵113具有僅形成在光柵113的中心部分中的衍射光柵部分113A。衍射光柵部分U3A具有比讀取光束LR的光通量直徑小的尺寸，以產(chǎn)生副光束SB，每個(gè)副光束SB均具有與讀取光束LR的僅中心部分相對應(yīng)的較小光通量直徑。
換言之，具有較大光通量直徑的主光束MB和具有較小光通量直徑的副光束SB被形成為進(jìn)入物鏡16。因此，因?yàn)橹鞴馐鳰B使得物鏡16以作為具有與物鏡16自身的NA (數(shù)字孔徑)相同的NA的透鏡工作，所以如圖35所示，在軌道TR上形成具有更小直徑的主光點(diǎn)MP。
另一方面，因?yàn)楦惫馐鳶B使得物鏡16以作為具有比物鏡16自身的NA (數(shù)字孔徑)更小的NA的透鏡工作，所以在軌道TR上形成具有更大直徑的副光點(diǎn)SP。
通過衍射光柵部分113A的直徑來將副光點(diǎn)SP調(diào)節(jié)為具有基本等于軌道間距TP的光點(diǎn)直徑。因此，副光束SB照射到標(biāo)記層Y中的軌道TR和空間區(qū)域AS兩者。
如圖36所示，與第一實(shí)施例中的光電檢測器20相對應(yīng)的光電檢測器120與光電檢測器20相似地包括主光點(diǎn)檢測器121以及副光點(diǎn)檢測器122和123，它們每個(gè)均包括以在縱向和橫向的每個(gè)方向上被劃分為兩個(gè)的形式的四個(gè)檢測區(qū)域。在光電檢測器120中，副光點(diǎn)檢測器122和123的各個(gè)檢測區(qū)域122A至122D和123A至123D被形成為大于主光點(diǎn)檢測器121的檢測區(qū)域121A至121D。原因在于，副返回光束SBr具有比主返回光束MBr更大的光點(diǎn)直徑。
與第一實(shí)施例中信號處理單元4相對應(yīng)的信號處理單元104根據(jù)以下方程(8)來產(chǎn)生校正引入信號SPIc:
SPIc2 = (USla+USlb+USlc+USld)+(US2a+US2b+US2c+US2d) ... (8)
因此，在光盤裝置111中，因?yàn)楦惫馐鳶B每個(gè)都照射以覆蓋軌道TR和空間區(qū)域AS兩者，所以副光束SB可靠地照射到TR。因此，光盤裝置111通過僅使用副光束SB來產(chǎn)生校正引入信號SPIc。
此外，在光盤裝置111中，使用根據(jù)以下方程(9)由主光束MB產(chǎn)生的普通聚焦誤差信號SFE來代替校正聚焦誤差信號SFEc。
SFE=(UMa+UMc)—(UMb+UMd) ... (9)
此外，在光盤裝置111中，通過使用例如推挽方法或1光點(diǎn)推挽方法來由主光束MB產(chǎn)生尋軌誤差信號STE。
根據(jù)光盤裝置111，如上所述，副光點(diǎn)SP的光點(diǎn)直徑增大到副光束SB照射到軌道TR和空間區(qū)域AS兩者的程度。因此，光盤裝置lll確保副光束SB可靠地照射到軌道TR，并確保由副光束導(dǎo)致的返回光束SBr的總光量表示讀取光束LR的焦點(diǎn)與標(biāo)記層Y之間的距離。(2-2)操作和優(yōu)點(diǎn)
在如上所述構(gòu)造的光盤裝置111中，副光束SB的光點(diǎn)直徑增大為大于主光束MB的光點(diǎn)直徑，使得副光束照射到軌道TR和未形成軌道TR出的空間區(qū)域AS兩者。此外，在光盤裝置lll中，基于由副光束SB導(dǎo)致的副返回光束SBr來產(chǎn)生校正引入信號SPIc，作為標(biāo)記層距離信號。
因此，根據(jù)光盤裝置lll，因?yàn)闊o論軌道TR與副光束SB之間的位置關(guān)系如何，副光束SB均可靠地照射到TR，所以能夠產(chǎn)生其信號水平隨著軌道TR與副光束SB之間的位置關(guān)系而較小變化的校正引入信號SPIc。
此外，在光盤裝置111中，通過使副光束SB的光通量直徑小于主光束MB的光通量直徑，將副光束SB的光點(diǎn)直徑增大為大于主光束MB的光點(diǎn)直徑，達(dá)到使得副光束SB能夠照射到軌道TR和空間區(qū)域AS兩者的程度。
根據(jù)這樣構(gòu)造的光盤裝置111，副光束SB照射到軌道TR和空間區(qū)域AS兩者，并且基于由副光束SB導(dǎo)致的副返回光束SBr來產(chǎn)生校正引入信號SPIc。因?yàn)楦惫馐鳶B可靠地照射到軌道TR，所以光盤裝置lll能夠產(chǎn)生其信號水平隨著軌道TR與副光束SB之間的位置關(guān)系而較小變化的校正引入信號SPIc。(3)其他實(shí)施例
雖然已經(jīng)如上所述將第一實(shí)施例描述為基于主返回光束MBr和兩個(gè)副返回光束SBr來產(chǎn)生校正引入信號SPIc和校正聚焦誤差信號SFEc，但是本發(fā)明不限于該情況。在本發(fā)明的第一實(shí)施例中，必要的僅是基于由照射到軌道TR的至少一個(gè)讀取光束LR得到的返回光束LRr來產(chǎn)生校正引入信號SPIc或校正聚焦誤差信號SFEc。作為另一個(gè)示例，可以基于主返回光束MBr和一個(gè)副返回光束SBr來產(chǎn)生校正引入信號SPIc或校正聚焦誤差信號SFEc。
此外，光盤裝置可以修改為選擇主光束MB和副光束SB中的已經(jīng)照射到TR的至少一個(gè)，并基于所選擇的光束來產(chǎn)生校正引入信號SPIc或校正聚焦誤差信號SFEc。在該情況下，例如，通過計(jì)算由主光束MB導(dǎo)致的主返回光束MBr與由副光束SB導(dǎo)致的副返回光束SBr之間的光量比，來選擇照射到TR的光束，并基于所選擇的返回光束LRr來產(chǎn)生校正引入信號SPIc或校正聚焦誤差信號SFEc。
例如，在光盤裝置1中，根據(jù)前述方程(5)來產(chǎn)生表示主光束MB的光量的主引入信號SPIm，并根據(jù)以下方程(10)來產(chǎn)生表示副光束的光量的副引入信號SPIs:
SPIs=k{(USla+USlb+USlc+USld)+(US2a+US2b+US2c+US2d)} ... (10)
光盤裝置1采用具有更高信號水平的信號SPIm或SPIs作為校正引入信號SPIc。此外，在光盤裝置l中，當(dāng)副引入信號SPIs的光量更大時(shí)，根據(jù)以下方程(11)來產(chǎn)生副聚焦誤差信號SFEs。副聚焦誤差信號SFEs能夠用于層數(shù)計(jì)數(shù)處理。注意，也可以在第二實(shí)施例中產(chǎn)生相似的副聚焦誤差信號SFEs。
SFEs = (USla+USlc)-(USlb+USld)+(US2a+US2c)-(US2b+US2d)…(11)
雖然以上將第一和第二實(shí)施例描述為將主光束MB和兩個(gè)副光束SB照射到光盤100，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。例如，在本發(fā)明的
修改實(shí)施例中，可以如圖37所示照射四個(gè)副光束SB。在該修改方案中， 通過將這些光束形成為兩對副光束SB以軌道間距TP的1/3的間隔偏離主 光束MB，主光束MB或者副光束SB可以以更高的可靠程度照射到軌道 TR。
雖然以上將第一和第二實(shí)施例描述為對校正聚焦誤差信號SFEc和尋 軌誤差信號STE執(zhí)行AGC處理，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況，不 一定要執(zhí)行AGC處理。
雖然以上將第一實(shí)施例描述為基于在軌信號SOT來確認(rèn)是否適當(dāng)?shù)貓?zhí) 行尋軌控制，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況，不一定要確認(rèn)是否適當(dāng) 地執(zhí)行尋軌控制。
雖然以上將第二實(shí)施例描述為照射具有與軌道間距TP基本相等的直 徑的副光束SB，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。例如，在本發(fā)明的 另一實(shí)施例中，可以在將副光束SB的高斯分布考慮在內(nèi)的情況下，確定 副光束SB的光點(diǎn)直徑，使得在偏軌狀況下校正引入信號SPIc的信號水平 的變化最小化。注意，副光束SB的光點(diǎn)直徑可以與衍射光柵部分113A的 直徑相對應(yīng)地改變。
雖然以上將第一和第二實(shí)施例描述為根據(jù)像散方法來產(chǎn)生校正聚焦誤 差信號SFEc，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。在本發(fā)明的另一實(shí)施 例中，可以通過使用包括例如光點(diǎn)尺寸方法在內(nèi)的各種其他方法中的合適 一種來產(chǎn)生校正聚焦誤差信號SFEc。
雖然以上將第一和第二實(shí)施例描述為根據(jù)DPP (微分推挽)方法來產(chǎn) 生尋軌誤差信號STE，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。在本發(fā)明的另 一實(shí)施例中，可以通過使用包括例如推挽方法和DPD (微分相位檢測)方 法在內(nèi)的各種其他方法中的合適一種來產(chǎn)生尋軌誤差信號STE。
雖然以上將第一和第二實(shí)施例描述為在記錄層101中形成全息圖形式 的記錄標(biāo)記RM作為空間(三維)記錄標(biāo)記，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于 該情況。例如，記錄標(biāo)記RM可以形成為氣泡。
雖然以上將第一和第二實(shí)施例描述為在記錄層101中形成多個(gè)記錄層Y，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。作為另一示例，可以形成僅一個(gè)
記錄層Y。
雖然以上將第一和第二實(shí)施例描述為在記錄層101中以空間圖案形成 軌道TR，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。作為另一實(shí)施例，能夠以 同心圖案形成基準(zhǔn)軌道。
雖然以上結(jié)合被構(gòu)造為僅適于再現(xiàn)信息的信息再現(xiàn)設(shè)備的光盤裝置1 描述了第一和第二實(shí)施例，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。本發(fā)明還 可相似地應(yīng)用于適于記錄和再現(xiàn)信息的信息記錄和再現(xiàn)裝置。
雖然以上將第一實(shí)施例描述為在執(zhí)行信息再現(xiàn)處理時(shí)執(zhí)行層數(shù)計(jì)數(shù)處 理、聚焦引入處理和尋軌引入處理，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。 本發(fā)明的實(shí)施例可以例如修改為當(dāng)裝載光盤100時(shí)執(zhí)行層數(shù)計(jì)數(shù)處理，或 在開始信息再現(xiàn)處理時(shí)執(zhí)行層數(shù)計(jì)數(shù)處理、聚焦引入處理和尋軌引入處 理。
雖然以上將第一和第二實(shí)施例描述為將405mn的讀取光束LR照射到 光盤100，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。在本發(fā)明的另一實(shí)施例 中，光束可以以各種其他波長中合適的一種照射。
雖然以上將第一實(shí)施例描述為通過使用光柵13 (即，權(quán)利要求書中的 分光器)、物鏡16 (即，權(quán)利要求書中的物鏡)和信號處理單元4 (即， 權(quán)利要求書中的信號產(chǎn)生單元)來構(gòu)造光盤裝置1 (即，權(quán)利要求書中的 光盤裝置)，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于該情況。還可以通過使用分光 器、物鏡和信號產(chǎn)生單元(每個(gè)均具有與第一實(shí)施例所述的那些部件不同 的其他各種構(gòu)造中的合適一種構(gòu)造)，來構(gòu)造根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的
光盤裝置。
本申請包含于2008年7月31日遞交給日本專利局的日本在先專利申 請JP2008-198447相關(guān)的主題，其全文通過引用結(jié)合于此。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，只要仍在權(quán)利要求及其等同方案的范圍 內(nèi)，可以根據(jù)設(shè)計(jì)需求進(jìn)行各種修改、組合、子組合和替換。
權(quán)利要求
1.一種光盤裝置，包括分光器，其被配置為將從光源發(fā)射的光束分為主光束和副光束；物鏡，其被配置為當(dāng)所述光束被會聚并照射到具有均勻的記錄層且在所述記錄層中由記錄標(biāo)記形成軌道的光盤時(shí)，將所述副光束的至少一部分照射到在徑向上主光束未照射到的區(qū)域，所述徑向被界定為所述光盤的半徑的方向；以及信號產(chǎn)生單元，其被配置為基于由所述主光束和所述副光束中已經(jīng)照射到所述軌道的至少一者導(dǎo)致的返回光束，來產(chǎn)生表示所述光束的焦點(diǎn)與所述軌道所屬的標(biāo)記層之間的距離的標(biāo)記層距離信號。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其中，所述標(biāo)記層距離信號是校 正引入信號，所述校正引入信號具有隨著所述光束的焦點(diǎn)與所述標(biāo)記層之 間的距離減小而增大的信號水平。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其中，所述標(biāo)記層距離信號是校 正聚焦誤差信號，所述校正聚焦誤差信號表示所述光束的焦點(diǎn)與所述標(biāo)記 層之間的偏差。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其中，所述物鏡使具有與所述主 光束基本相等的光點(diǎn)直徑的副光束以在徑向上偏離所述主光束的狀態(tài)照 射。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光盤裝置，其中，所述信號產(chǎn)生單元基于由 所述主光束導(dǎo)致的主返回光束的總光量和由所述副光束導(dǎo)致的副返回光束 的總光量來產(chǎn)生校正引入信號，所述校正引入信號具有隨著所述光束的焦 點(diǎn)與所述標(biāo)記層之間的距離減小而增大的信號水平。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光盤裝置，其中，所述信號產(chǎn)生單元基于由 所述主光束導(dǎo)致的主返回光束的總光量和由所述副光束導(dǎo)致的副返回光束 的總光量來產(chǎn)生校正聚焦誤差信號，所述校正聚焦誤差信號表示所述光束 的焦點(diǎn)與所述標(biāo)記層之間的偏差。
7. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光盤裝置，還包括聚焦驅(qū)動單元，其被配置為驅(qū)動所述物鏡以使其在接近和遠(yuǎn)離所述光盤的聚焦方向上移動；聚焦過零點(diǎn)檢測單元，其被配置為當(dāng)所述校正引入信號變?yōu)榈扔诨蚋?于預(yù)定檢測閾值時(shí)檢測到過零點(diǎn)，在所述過零點(diǎn)，表示所述光束的焦點(diǎn)與 所述標(biāo)記層之間的偏差的聚焦偏差信號與基準(zhǔn)水平相交；以及計(jì)數(shù)單元，其被配置為對在所述物鏡移動通過預(yù)定移動區(qū)域的同時(shí)檢 測到的過零點(diǎn)的數(shù)量進(jìn)行計(jì)數(shù)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光盤裝置，其中，所述聚焦偏差信號是被獲 得作為所述標(biāo)記層距離信號的校正聚焦誤差信號。
9. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光盤裝置，還包括聚焦驅(qū)動單元，其被配置為驅(qū)動所述物鏡以使其在接近和遠(yuǎn)離所述光 盤的聚焦方向上移動；以及聚焦反饋控制單元，其被配置為基于表示所述光束的焦點(diǎn)與所述標(biāo)記 層之間的偏差的聚焦偏差信號來反饋控制所述聚焦驅(qū)動單元，使得所述聚 焦偏差信號保持在基準(zhǔn)水平，并被配置為基于所述校正引入信號的信號水 平來確認(rèn)是否適當(dāng)?shù)貓?zhí)行對所述聚焦驅(qū)動單元的反饋控制。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光盤裝置，還包括聚焦過零點(diǎn)檢測單元，其被配置為當(dāng)所述校正引入信號變?yōu)榈扔诨蚋?于預(yù)定檢測閾值時(shí)檢測到過零點(diǎn)，在所述過零點(diǎn)，表示所述光束的焦點(diǎn)與 所述標(biāo)記層之間的偏差的聚焦偏差信號與基準(zhǔn)水平相交；以及聚焦控制開始單元，其被配置為與所述過零點(diǎn)相對應(yīng)地開始由所述聚 焦反饋控制單元進(jìn)行的反饋控制。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光盤裝置，其中，所述聚焦反饋控制單元 根據(jù)所述校正引入信號的信號水平來校正所述聚焦偏差信號的信號水平。
12. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的光盤裝置，還包括 尋軌驅(qū)動單元，其被配置為在所述徑向上驅(qū)動所述物鏡；以及 尋軌反饋控制單元，其被配置為基于表示所述光束的焦點(diǎn)與所述標(biāo)記層之間的偏差的尋軌誤差信號來反饋控制所述尋軌驅(qū)動單元，使得所述尋 軌誤差信號保持在基準(zhǔn)水平，并被配置為基于所述主返回光束的總光量來確認(rèn)是否適當(dāng)?shù)貓?zhí)行所述尋軌驅(qū)動單元的反饋控制。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的光盤裝置，其中，所述物鏡使所述副光束 以在徑向上偏離所述主光束達(dá)軌道間距的一半的狀態(tài)照射。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其中，所述物鏡使所述副光束 的光點(diǎn)直徑增大為大于所述主光束的光點(diǎn)直徑，使得所述副光束照射到所 述軌道和未形成所述軌道的空間區(qū)域兩者，并且所述信號產(chǎn)生單元基于由所述副光束導(dǎo)致的副返回光束來產(chǎn)生所述標(biāo) 記層距離信號。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的光盤裝置，其中，所述分光器通過使所述 副光束的光通量直徑小于所述主光束的光通量直徑，來使所述副光束的光 點(diǎn)直徑增大為大于所述主光束的光點(diǎn)直徑
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的光盤裝置，其中，所述分光器是包括衍射 光柵的衍射元件，所述衍射光柵形成在小于所述光束的光通量直徑的區(qū)域 中。
17. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其中，所述信號產(chǎn)生單元選擇 所述主光束和所述副光束中已經(jīng)照射到所述軌道的至少一者，并基于所選 擇的光束產(chǎn)生所述標(biāo)記層距離信號。
18. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其中，所述信號產(chǎn)生單元基于 由所述主光束導(dǎo)致的主返回光束的總光量和由所述副光束導(dǎo)致的副返回光 束的總光量來選擇已經(jīng)照射到所述軌道的光束。
19. 一種信號產(chǎn)生方法，包括以下步驟 將從光源發(fā)射的光束分為主光束和副光束；當(dāng)所述光束被會聚并照射到具有均勻的記錄層且在所述記錄層中由記 錄標(biāo)記形成軌道的光盤時(shí)，將所述副光束的至少一部分照射到在徑向上主 光束未照射到的區(qū)域，所述徑向被界定為所述光盤的半徑的方向；并且基于由所述主光束和所述副光束中已經(jīng)照射到所述軌道的至少一者導(dǎo) 致的返回光束，來產(chǎn)生表示所述光束的焦點(diǎn)與所述軌道所屬的標(biāo)記層之間 的距離的標(biāo)記層距離信號。
20. —種光盤裝置，包括分光器，其被配置為將從光源發(fā)射的光束分為主光束和副光束； 物鏡，其被配置為當(dāng)所述光束被會聚并照射到具有均勻的記錄層且在 所述記錄層中由記錄標(biāo)記形成軌道的光盤時(shí)，將所述副光束或者將所述主 光束所述副光束兩者照射到所述軌道和未形成所述軌道的空間區(qū)域兩者； 并且信號產(chǎn)生單元，其被配置為基于由已經(jīng)照射到所述軌道和所述空間區(qū) 域兩者的所述副光束或者所述主光束和所述副光束兩者導(dǎo)致的一個(gè)或多個(gè) 返回光束，來產(chǎn)生表示所述光束的焦點(diǎn)與所述軌道所屬的標(biāo)記層之間的距 離的標(biāo)記層距離信號。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光盤裝置和信號產(chǎn)生方法。光盤裝置包括分光器、物鏡和信號產(chǎn)生單元，分光器被配置為將從光源發(fā)射的光束分為主光束和副光束，物鏡被配置為當(dāng)光束被會聚并照射到具有均勻的記錄層且在記錄層中由記錄標(biāo)記形成軌道的光盤時(shí)，將副光束的至少一部分照射到在徑向上主光束未照射到的區(qū)域，徑向被界定為光盤的半徑的方向，信號產(chǎn)生單元被配置為基于由主光束和副光束中已經(jīng)照射到所述軌道的至少一者導(dǎo)致的返回光束，來產(chǎn)生表示光束的焦點(diǎn)與軌道所屬的標(biāo)記層之間的距離的標(biāo)記層距離信號。
文檔編號G11B7/00GK101640044SQ20091016097
公開日2010年2月3日 申請日期2009年7月31日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月31日
發(fā)明者宮本浩孝, 林邦彥, 藤田五郎, 齊藤公博 申請人:索尼株式會社