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      光記錄介質(zhì)、信息的記錄方法和信息的讀取方法與流程

      文檔序號:40314658發(fā)布日期:2024-12-13 11:29閱讀:40來源:國知局
      光記錄介質(zhì)、信息的記錄方法和信息的讀取方法與流程

      本公開涉及光記錄介質(zhì)、信息的記錄方法和信息的讀取方法。


      背景技術(shù):

      1、作為用于增加光信息記錄介質(zhì)的記錄容量的技術(shù),已知在多層體中記錄信息的三維記錄。在三維記錄的領(lǐng)域中,為了提高記錄密度,必須實現(xiàn)更微細的光集聚點。從經(jīng)集聚的激光的衍射極限的觀點出發(fā),為了實現(xiàn)更微細的光集聚點,使用具有短波長的激光。作為該激光,可列舉出具有blu-ray(注冊商標(biāo))盤的規(guī)格即405nm的中心波長的激光。這樣一來,已知使用了具有405nm的中心波長的激光的光記錄介質(zhì)。

      2、光記錄介質(zhì)例如包括記錄層和位于記錄層上的電介質(zhì)層(例如,專利文獻1)。在專利文獻1中,包括由光信息記錄材料形成的記錄層的光記錄介質(zhì)能夠進行全息記錄。

      3、現(xiàn)有技術(shù)文獻

      4、專利文獻

      5、專利文獻1:日本專利第6448042號公報


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、發(fā)明所要解決的課題

      2、在現(xiàn)有技術(shù)中,對于光記錄介質(zhì)的記錄靈敏度,有改善的余地。

      3、用于解決課題的手段

      4、本公開的一個方案中的光記錄介質(zhì)包括:記錄層;和位于所述記錄層上并包含多孔性有機結(jié)構(gòu)體的電介質(zhì)層。

      5、發(fā)明效果

      6、本公開提供改善了記錄靈敏度的光記錄介質(zhì)。



      技術(shù)特征:

      1.一種光記錄介質(zhì),其包括:記錄層;和位于所述記錄層上并包含多孔性有機結(jié)構(gòu)體的電介質(zhì)層。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中,所述多孔性有機結(jié)構(gòu)體具有50m2/g以上的比表面積。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中,所述多孔性有機結(jié)構(gòu)體具有0.3nm以上且50nm以下的平均孔徑。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中,所述多孔性有機結(jié)構(gòu)體具有0.3nm以上且3nm以下的平均孔徑。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中,所述多孔性有機結(jié)構(gòu)體為固有微多孔性聚合物。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光記錄介質(zhì),其中,所述固有微多孔性聚合物包含由下述式(1)表示的結(jié)構(gòu)單元,

      7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光記錄介質(zhì),其中,所述固有微多孔性聚合物包含由下述式(2)表示的結(jié)構(gòu)單元,

      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中,所述記錄層包含具有非線性光學(xué)特性的有機化合物。

      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光記錄介質(zhì),其中,所述非線性光學(xué)特性為雙光子吸收特性。

      10.一種信息的記錄方法,其包括:準(zhǔn)備發(fā)出具有390nm以上且420nm以下的波長的光的光源;和將來自所述光源的所述光集聚,照射于權(quán)利要求1至9中任一項所述的光記錄介質(zhì)中的所述記錄層。

      11.一種信息的讀取方法,其是采用權(quán)利要求10所述的記錄方法記錄的信息的讀取方法,所述讀取方法包括:通過對所述光記錄介質(zhì)中的所述記錄層照射光,從而測定所述記錄層的光學(xué)特性;和從所述記錄層讀取信息。

      12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的讀取方法,其中,所述光學(xué)特性為在所述記錄層反射的光的強度。


      技術(shù)總結(jié)
      本公開的一個方案中的光記錄介質(zhì)(100)包括:記錄層(10);和位于記錄層(10)上并包含多孔性有機結(jié)構(gòu)體的電介質(zhì)層(20)。本公開的一個方案中的信息的記錄方法包括:準(zhǔn)備發(fā)出具有390nm以上且420nm以下的波長的光的光源;和將來自光源的光集聚,照射于光記錄介質(zhì)(100)中的記錄層(10)。

      技術(shù)研發(fā)人員:安藤伸治,橫山麻紗子,安藤康太,小原勇輝,荒瀨秀和
      受保護的技術(shù)使用者:松下知識產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會社
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/12
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