專利名稱：有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種有機發(fā)光二極管(Organic Light Emitted Diode，OLED)蒸鍍機臺，尤其是一種具備遮罩(shadow mask)線上(on-line)清理裝置的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺。
背景技術：
在眾多顯示技術中，有機發(fā)光二極管是一深受矚目的技術；比起其他小尺寸的液晶顯示器產(chǎn)品，有機發(fā)光二極管具有以下的優(yōu)點自發(fā)光、無視角限制、響應速度快、可全彩化、低耗電與低成本等。
當前應用于有機發(fā)光二極管的全彩化處理技術主要有下列三種(1)利用蒸著光罩法將紅綠藍各發(fā)光元件分別選擇性成長薄膜、(2)利用噴墨印刷法分別涂布紅綠藍各發(fā)光元件、以及(3)利用色變換層法(螢光變換)于藍色發(fā)光元件上方，涂布色變換層分別獲得綠色和紅色發(fā)光。而在上述三種方法中，以蒸著光罩法的成本最為低廉。
蒸著光罩法是利用遮罩1搭配真空成膜的技術將有機材料圖案化；如圖1A、1B與1C所示，是利用蒸著光罩法進行有機發(fā)光層選擇性薄膜成長的示意圖；在基板2上方以隔離壁21支撐遮罩1，以避免遮罩1直接與基板2的透明電極22接觸；有機發(fā)光材料利用蒸鍍的方式透過遮罩1上的開孔11沉積于透明電極22的表面；同時，利用步進方式調(diào)整遮罩1表面開孔11與基板2的相對位置；藉此，依序進行紅色有機鍍層3R、綠色有機鍍層3G與藍色有機鍍層3B的蒸鍍，以分別定義該紅色、綠色、藍色畫素的所在位置。
在上述蒸著光罩法成膜的過程中，并沒有經(jīng)歷微影技術(Lithography)等濕式制程，而是利用遮罩1定義有機發(fā)光層圖案，因此，可以避免成膜過程曝露在大氣下，防止因水分的吸收與粉塵的附著而造成元件劣化。
如圖2所示，是一公知有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺100的示意圖，該機臺包括一基板載入取出室101，其功用為載入或取出基板2時，避免破壞蒸鍍機臺其他部分的高真空。
一個以上的有機蒸鍍室102，用以蒸鍍有機發(fā)光材料，而且，利用有機蒸鍍室102載入有機材料，可以避免破壞蒸鍍機臺其他部分的高真空。
一個以上金屬蒸鍍室103，用以蒸鍍金屬與無機鹽類材料，而且，利用金屬蒸鍍室103載入金屬及無機鹽類材料，可以避免破壞蒸鍍機臺其他部分的高真空。
一前處理室106，用以在進行蒸鍍前，利用電漿對基板2表面進行干式清理。
一封裝室107，用以在完成蒸鍍后，直接利用封合蓋(未圖示)進行封合，以防止有機發(fā)光材料與大氣接觸產(chǎn)生缺陷。
一傳送室104，連接至上述各室101，102，103，106，107，并利用一機械手臂(未圖示)挾持基板2，使基板2可以于上述各室101，102，103，106，107間移動。
藉由上述有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺100進行有機發(fā)光二極管有機蒸鍍制程，可以確?；?不與大氣接觸，以避免基板2受到水氣影響而獲得高品質的元件。
透過遮罩1進行有機發(fā)光材料蒸鍍時，不可避免將產(chǎn)生諸如開孔11受到阻塞、遮罩1上吸附微粒等遮罩1污染的問題；如圖3所示，是遮罩1因有機發(fā)光材料蒸鍍產(chǎn)生開孔11阻塞的示意圖；由于有機材料阻塞，開孔的尺寸由w縮小為w’，因此，透過上述開孔11蒸鍍的有機鍍層3’將產(chǎn)生沉積圖案錯誤或是沉積薄膜厚度不足等問題。如圖4所示，是遮罩因微粒附著而導致所沉積的有機鍍層3產(chǎn)生缺陷的示意圖，上述缺陷除了造成有機鍍層沉積圖案錯誤，甚至會在有機發(fā)光二極管兩電極之間產(chǎn)生成一導通路徑，進而造成二極管元件壞死。
為避免上述遮罩1污染的問題，公知方法是在進行數(shù)批產(chǎn)品的蒸鍍后，將遮罩1自有機蒸鍍室102中抽出換新，或者對遮罩1進行離線清洗。然而，為了抽換遮罩1或是對遮罩1進行離線清洗，都必須破壞有機蒸鍍室102的真空；而將遮罩1定位后，又必須恢復有機蒸鍍室102的真空度；因此，將造成蒸鍍機臺的停滯與時間的浪費。
根據(jù)上述制程上的困難，本發(fā)明提出一種有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺100，可以對遮罩1進行線上清理。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，藉由一遮罩清理室線上清理有機蒸鍍的遮罩。
本發(fā)明的技術解決方案是一種有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，所述有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺包括一傳送室；至少一個有機蒸鍍室，連接至所述傳送室，該有機蒸鍍室內(nèi)裝設有至少一個遮罩，用以蒸鍍有機材料至基板上；以及一遮罩清理室，連接至該傳送室，于進行有機蒸鍍后，該遮罩經(jīng)由所述傳送室傳送至該遮罩清理室進行電漿清理。
如上所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，還包括一基板載入取出室連接至該傳送室，用以在不破壞該有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺真空度的情況下，載入或取出所述基板。
如上所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，還包括至少一個金屬蒸鍍室連接至所述傳送室，用以蒸鍍金屬及無機鹽類材料至所述基板上。
如上所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，所述傳送室利用一機械手臂傳遞該遮罩。
如上所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，還包括一前處理室連接至所述傳送室，用以在蒸鍍之前，對所述基板表面進行電漿清理。
如上所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，還包括一封裝室連接至該傳送室，用以在完成蒸鍍之后，對所述基板進行封合。
一種有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，所述有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺包括一傳送室；一基板載入取出室，連接至所述傳送室，用以在不破壞該有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺真空度的情況下，載入或取出基板；至少一個金屬蒸鍍室，連接至所述傳送室，用以蒸鍍金屬及無機鹽類材料至所述基板上；一前處理室連接至所述傳送室，用以在蒸鍍之前，對所述基板表面進行電漿清理；一封裝室連接至所述傳送室，用以在完成蒸鍍之后，對所述基板進行封合；至少一個有機蒸鍍室，連接至所述傳送室，該有機蒸鍍室內(nèi)裝設有至少一個遮罩，用以蒸鍍有機材料至所述基板上；以及一遮罩清理室，連接至該傳送室，于進行有機蒸鍍后，該遮罩經(jīng)由所述傳送室傳送至該遮罩清理室進行電漿清理。
如上所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，所述傳送室利用一機械手臂傳遞該遮罩。
本發(fā)明的特點和優(yōu)點是本發(fā)明有機發(fā)光二極管的蒸鍍機臺是于上述公知有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺中，再設置一遮罩清理室以利用電漿對有機蒸鍍使用的遮罩進行干式清理；且上述遮罩清理室亦連接至傳送室；并經(jīng)由傳送室進行遮罩的傳遞；從而克服了現(xiàn)有技術的缺陷，不僅可以線上清理遮罩，防止機臺停滯，亦可以避免遮罩污染，以確保制程的可靠度；同時，遮罩的清理時機可以根據(jù)制程需要靈活調(diào)整。


圖1是利用蒸著光罩法進行有機發(fā)光層選擇性薄膜成長的示意圖；圖2是一公知有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺的示意圖；圖3是遮罩因有機發(fā)光材料蒸鍍產(chǎn)生開孔阻塞的示意圖；圖4是遮罩因微粒附著而導致有機發(fā)光薄膜產(chǎn)生缺陷的示意圖；圖5是本發(fā)明有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺一優(yōu)選實施例的示意圖；圖6是本發(fā)明有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺的遮罩清理室一優(yōu)選實施例的示意圖。
附圖標號說明1、遮罩2、基板21、隔離壁22、透明電極11、開孔 3、3’、有機鍍層100、有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺101、基板載入取出室102、有機蒸鍍室103、金屬蒸鍍室104、傳送室105、遮罩清理室106、前處理室107、封裝室105A、腔體105B、氣體輸入管105C、交流電源供應器105D、上電極板105E、下電極板3R、紅色有機鍍層3G、綠色有機鍍層3B、藍色有機鍍層具體實施方式
關于本發(fā)明的技術方案、其特點及優(yōu)點，可以藉由以下的詳細描述及附圖得到進一步的了解。
如圖2所示，是一公知有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺100示意圖，包括一基板載入取出室101、至少一個的有機蒸鍍室102、至少一個的金屬蒸鍍室103、一封裝室107、一前處理室106與一傳送室104。
進行有機發(fā)光材料蒸鍍后，遮罩1表面不可避免會受到有機發(fā)光材料的污染；公知方法是在進行數(shù)批產(chǎn)品的蒸鍍后，將遮罩1自有機蒸鍍室102內(nèi)抽出換新，或者將遮罩1自有機蒸鍍室內(nèi)抽出，以進行離線濕式清洗；因而將造成機臺的停滯與時間的浪費。
為解決上述問題，本發(fā)明是于公知的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺100中，再加入一遮罩清理室105；如圖5所示，是本發(fā)明有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺100一優(yōu)選實施例的示意圖，其中的遮罩清理室105連接至傳送室104；因此，有機蒸鍍室102內(nèi)進行有機材料蒸鍍后，使用后的遮罩1可以利用一設置于傳送室104的機械手臂(未圖示)，經(jīng)由傳送室104傳遞至遮罩清理室105，隨后，于遮罩清理室105內(nèi)利用電漿對遮罩1表面進行干式清理；清理后的遮罩1，再利用上述的機械手臂，由遮罩清理室105經(jīng)由傳送室104傳遞至有機蒸鍍室102定位，以對下一批次的玻璃基板2進行有機蒸鍍。
為了節(jié)省遮罩1由有機蒸鍍室102經(jīng)由傳送室104傳遞至遮罩清理室105所需的時間，遮罩清理室105鄰近于有機蒸鍍室102以利遮罩1傳遞的進行。
如圖6所示，為本發(fā)明有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺100的遮罩清理室105的一優(yōu)選實施例的示意圖。該遮罩清理室105包括一腔體105A、一氣體輸入管105B、一交流電源供應器105C、一上電極板105D與一下電極板105E；其中，氣體輸入管105B用以通入氣體至腔體105A內(nèi)，以提供電漿(Plasma)產(chǎn)生所需的環(huán)境氣氛；交流電源供應器105C連接至下電極板105E，而上電極板105D與腔體105A均接地，籍以提供電漿產(chǎn)生所需的電場。
使用后的遮罩1以機械手臂置于下電極板105E上方，且遮罩1受污染的表面朝上，因而，該受污染的表面將承受離子轟擊(ion bombardment)，籍以清除有機材料的污染物。
上述遮罩清理室105所采用的電漿可以使用氧氣、或是氬氣作為環(huán)境氣氛(但不限于此)；而該電漿的形式可以是直流、交流、或是磁控(亦不限于此)。此外，為了配合制程需要，遮罩清理室105的電漿功率亦可以調(diào)高，以減少清理遮罩1所需的時間。
同時，在公知的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺100中，通常包括一機械手臂用以傳遞玻璃基板2；在簡化結構的目標下，傳遞玻璃基板2與傳遞遮罩1可以使用同一組機械手臂；然而，若是以提高效率為目標，則可以設置兩組機械手臂分別用以傳遞玻璃基板2與遮罩1。
除此之外，上述用以傳遞遮罩1所采用的方法除了使用機械手臂，亦可使用傳送帶、移動式載臺(但不限于此)的方式以進行遮罩1傳遞。
遮罩1的清理時機并不限于每次進行有機蒸鍍后；為了確保遮罩1的清潔，以獲致良好的制程可靠度，在有機蒸鍍進行前亦可以進行遮罩1的清理；此外，若是制程緊湊，亦可以配合制程需求，彈性調(diào)整遮罩1清理的時機。
如前述，上述遮罩清理室105與前處理室106，均是利用電漿進行干式清理；但是，二者是分別針對遮罩1上的有機鍍層，以及基板2表面的雜質進行清理；因此，為了避免電漿清理過程中，在同一腔體內(nèi)產(chǎn)生不同雜質微粒，造成不同材料的交互污染，前處理室106并不可以取代遮罩清理室105的功用；甚至，金屬蒸鍍室103內(nèi)所采用的遮罩，亦不可利用上述遮罩清理室105或前處理室106進行遮罩清理，以避免產(chǎn)生交互污染，而影響制程的可靠度。
雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例揭示，但其并非用以限定本發(fā)明，任何本領域的技術人員，在不脫離本發(fā)明的構思和范圍的前提下所作出的等同組件的置換，或依本發(fā)明專利保護范圍所作的等同變化與修飾，皆應仍屬本專利涵蓋之范疇。
權利要求
1.一種有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，其特征在于所述有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺包括一傳送室；至少一個有機蒸鍍室，連接至所述傳送室，該有機蒸鍍室內(nèi)裝設有至少一個遮罩，用以蒸鍍有機材料至基板上；以及一遮罩清理室，連接至該傳送室，于進行有機蒸鍍后，該遮罩經(jīng)由所述傳送室傳送至該遮罩清理室進行電漿清理。
2.如權利要求1所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，其特征在于還包括一基板載入取出室連接至該傳送室，用以在不破壞該有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺真空度的情況下，載入或取出所述基板。
3.如權利要求1所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，其特征在于還包括至少一個金屬蒸鍍室連接至所述傳送室，用以蒸鍍金屬及無機鹽類材料至所述基板上。
4.如權利要求1所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，其特征在于所述傳送室利用一機械手臂傳遞該遮罩。
5.如權利要求1所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，其特征在于還包括一前處理室連接至所述傳送室，用以在蒸鍍之前，對所述基板表面進行電漿清理。
6.如權利要求1所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，其特征在于還包括一封裝室連接至該傳送室，用以在完成蒸鍍之后，對所述基板進行封合。
7.一種有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，其特征在于所述有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺包括一傳送室；一基板載入取出室，連接至所述傳送室，用以在不破壞該有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺真空度的情況下，載入或取出基板；至少一個金屬蒸鍍室，連接至所述傳送室，用以蒸鍍金屬及無機鹽類材料至所述基板上；一前處理室連接至所述傳送室，用以在蒸鍍之前，對所述基板表面進行電漿清理；一封裝室連接至所述傳送室，用以在完成蒸鍍之后，對所述基板進行封合；至少一個有機蒸鍍室，連接至所述傳送室，該有機蒸鍍室內(nèi)裝設有至少一個遮罩，用以蒸鍍有機材料至所述基板上；以及一遮罩清理室，連接至該傳送室，于進行有機蒸鍍后，該遮罩經(jīng)由所述傳送室傳送至該遮罩清理室進行電漿清理。
8.如權利要求7所述的有機發(fā)光二極管蒸鍍機臺，其特征在于所述傳送室利用一機械手臂傳遞該遮罩。
全文摘要
一種有機發(fā)光二極管的蒸鍍機臺，包括有一遮罩清理室，用以對有機發(fā)光二極管蒸鍍所使用的遮罩進行電漿清理；由于利用遮罩清理室進行遮罩清理并不需要將遮罩自蒸鍍機臺中取出，從而克服了現(xiàn)有技術的缺陷，不僅可以線上清理遮罩，防止機臺停滯，亦可以避免遮罩污染，以確保制程的可靠度。
文檔編號H01L33/00GK1549351SQ0312858
公開日2004年11月24日 申請日期2003年5月7日 優(yōu)先權日2003年5月7日
發(fā)明者蕭調(diào)宏 申請人:友達光電股份有限公司