專(zhuān)利名稱(chēng):硅芯片封裝用引線(xiàn)框架、封裝方法及其形成的電子元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及硅芯片封裝技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及硅芯片封裝用的引線(xiàn)框架、封裝方法及封裝完畢所形成的電子元件。
背景技術(shù):
在電子元件的制造過(guò)程中,例如T0-252、T0-92或者T0-126封裝的電子元件,通常是先制造出引線(xiàn)框架,再將硅芯片固定在引線(xiàn)框架的載芯板上,然后通過(guò)內(nèi)引線(xiàn)將硅芯片的引腳和引線(xiàn)框架的相應(yīng)引腳連接起來(lái),再用塑封料將硅芯片、內(nèi)引線(xiàn)、引線(xiàn)框架的與內(nèi)引線(xiàn)連接的引腳端頭密封起來(lái),最后從引線(xiàn)框架上切割分離出單個(gè)的電子元件,此過(guò)程即為硅芯片的封裝過(guò)程。采用上述封裝工藝制作的電子元件主要依靠粘結(jié)在載芯板上的塑封料將硅芯片與外界隔離,以防止空氣中的雜質(zhì)對(duì)芯片電路的腐蝕而造成電氣性能下降,并且為芯片提供機(jī)械防護(hù),以便于電子元件的安裝和運(yùn)輸,因此,塑封料與載芯板的粘結(jié)牢固性對(duì)電子元件質(zhì)量的影響是至關(guān)重要的。然而,隨著電子元件表面組裝化和小型化的發(fā)展,電子元件在焊接組裝時(shí)所承受的高溫沖擊越來(lái)越大,以至于電子元件的塑封料與載芯板之間時(shí)常發(fā)生分層現(xiàn)象,例如 Τ0-252封裝的電子元件,其在使用時(shí)必須采用波峰焊方式進(jìn)行焊接組裝,而波峰焊使用的溫度一般高達(dá)260°C,在如此高的溫度沖擊下,加上接觸面積大,T0-252封裝的電子元件極容易發(fā)生包封用的塑封料和載芯板之間的分層,塑封料和載芯板的結(jié)合界面出現(xiàn)脫離和錯(cuò)位,這種分層輕則會(huì)造成整個(gè)產(chǎn)品密封性異常,最終導(dǎo)致外部水汽入侵,造成產(chǎn)品性能異常甚至失效,重則由于塑封料與載芯板分層而產(chǎn)生的拉升作用,造成電子元件內(nèi)部引線(xiàn)與芯片或者引腳脫離,造成虛焊和開(kāi)路。針對(duì)以上問(wèn)題,現(xiàn)有技術(shù)通常采用改選塑封料的方法,通過(guò)選用粘結(jié)能力更強(qiáng)的高檔塑封料,以期提高塑封料與載芯板之間的結(jié)合力。但選用高檔塑封料的方法一是不能徹底杜絕這種不良,二是大大增加了產(chǎn)品的成本,實(shí)際意義不大。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一是提供一種硅芯片封裝用引線(xiàn)框架,以提高引線(xiàn)框架與塑封料的結(jié)合牢固性。本發(fā)明的目的之二是提供一種硅芯片的封裝方法,以提高引線(xiàn)框架與塑封料的結(jié)合牢固性。本發(fā)明的目的之三是提供一種封裝有硅芯片的電子元件,以提高電子元件的載芯板與塑封料的結(jié)合牢固性。為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供的一種硅芯片封裝用引線(xiàn)框架,具有多個(gè)引腳, 所述引腳構(gòu)成硅芯片封裝完畢所形成的電子元件的管腳,在所述的多個(gè)引腳中,至少有一個(gè)引腳連接著一塊用于固定硅芯片的載芯板,在所述載芯板的固定硅芯片的板面上設(shè)有多個(gè)凹坑。作為進(jìn)一步改進(jìn),上述的硅芯片封裝用引線(xiàn)框架還可具有如下附屬的技術(shù)方案
所述凹坑為楔形盲孔,其坑口面積大于坑底面積。所述凹坑的坑口和坑底的形狀都是矩形。所述凹坑的坑口矩形邊長(zhǎng)為O. 08 O. 12毫米,所述凹坑的坑底矩形邊長(zhǎng)為
O.04 O. 07毫米,所述凹坑的深度為O. 03 O. I毫米。在所述載芯板的固定硅芯片的板面上,所述凹坑均勻分布。本發(fā)明還提供了一種硅芯片的封裝方法,依序包括以下步驟步驟I :制作引線(xiàn)框架;步驟2 :粘片,將硅芯片固定在引線(xiàn)框架的載芯板上;步驟3 :壓焊,通過(guò)內(nèi)引線(xiàn)將硅芯片的引腳和引線(xiàn)框架的相應(yīng)引腳連接起來(lái);步驟4:密封,將塑封料粘結(jié)在引線(xiàn)框架的載芯板上,由塑封料將硅芯片、內(nèi)引線(xiàn)、 引線(xiàn)框架的與內(nèi)引線(xiàn)連接的引腳端頭密封起來(lái);步驟5 :對(duì)密封后的產(chǎn)品進(jìn)行熱處理,熱處理的溫度為200 250°C,持續(xù)時(shí)間為 2 3小時(shí);步驟6 :分離成型,將在引線(xiàn)框架上封裝而成的電子元件切割分離出來(lái),形成獨(dú)立的電子元件;所述步驟I制作的引線(xiàn)框架是前述任一引線(xiàn)框架,而且在所述步驟4中,使塑封料進(jìn)入到所述引線(xiàn)框架的載芯板上的凹坑內(nèi)。作為進(jìn)一步改進(jìn),上述的硅芯片的封裝方法還可采取如下附屬的技術(shù)方案在所述步驟I之后,于所述步驟2之前,對(duì)所述引線(xiàn)框架進(jìn)行預(yù)熱處理,預(yù)熱處理的溫度在250 350°C之間,持續(xù)時(shí)間15 30秒,預(yù)熱處理后,保持引線(xiàn)框架的溫度至執(zhí)行所述步驟2。所述引線(xiàn)框架的材質(zhì)是銅或鍍銅金屬,所述塑封料是環(huán)氧樹(shù)脂,在所述步驟3之后,于所述步驟4之前,對(duì)所述引線(xiàn)框架進(jìn)行加熱,以促進(jìn)所述引線(xiàn)框架的表面所含銅材質(zhì)的氧化。為促進(jìn)所述引線(xiàn)框架的表面所含銅材質(zhì)的氧化,而對(duì)所述引線(xiàn)框架進(jìn)行加熱處理的溫度在100 180°C之間,持續(xù)時(shí)間8 12分鐘。在所述步驟6之后,對(duì)分離成型后的電子元件進(jìn)行熱處理,熱處理的溫度是150 200°C,持續(xù)時(shí)間3 12小時(shí)。在所述步驟I中,所述引線(xiàn)框架的載芯板上的凹坑采用機(jī)械沖壓方式成型。本發(fā)明還提供了一種封裝有硅芯片的電子元件,包括多個(gè)管腳,其中至少一個(gè)管腳連接著一塊載芯板,硅芯片固定在載芯板上,在所述載芯板的固定硅芯片的板面上粘結(jié)有塑封料,所述硅芯片包裹在所述塑封料中,在所述載芯板的固定硅芯片的板面上設(shè)有多個(gè)凹坑,所述塑封料嵌入并且粘結(jié)在所述凹坑中。作為進(jìn)一步改進(jìn),上述的封裝有硅芯片的電子元件還可具有如下附屬的技術(shù)方案所述凹坑為楔形盲孔,其坑口面積大于坑底面積。所述凹坑的坑口和坑底的形狀都是矩形。
所述凹坑的坑口矩形邊長(zhǎng)為O. 08 O. 12毫米,所述凹坑的坑底矩形邊長(zhǎng)為
O.04 O. 07毫米,所述凹坑的深度為O. 03 O. I毫米。在所述載芯板的固定硅芯片的板面上,所述凹坑均勻分布。本發(fā)明的有益技術(shù)效果是由于塑封料注入到載芯板的凹坑內(nèi),因此大大增加了塑封料與載芯板,也就是與引線(xiàn)框架的結(jié)合力,極大地減少了電子元件的塑封料與載芯板之間的分層現(xiàn)象,提高了電子元件的質(zhì)量和可靠性。下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作詳細(xì)說(shuō)明。
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具體實(shí)施例方式根據(jù)本發(fā)明提供的一種引線(xiàn)框架如圖I所示,該引線(xiàn)框架I具有三個(gè)引腳2a、2b、 2c,該三個(gè)引腳構(gòu)成硅芯片封裝完畢所形成的電子元件的管腳。引腳的實(shí)際數(shù)量根據(jù)在引線(xiàn)框架I上所要形成的電子元件的數(shù)量,以及每個(gè)電子元件所需的管腳數(shù)量而定。在圖I 的示例中,僅畫(huà)出引線(xiàn)框架I的局部部位,在該局部部位中,用虛線(xiàn)圍成的部位可封裝出一個(gè)電子元件,該電子元件具有三個(gè)管腳,引線(xiàn)框架的其他未畫(huà)出的部位是該虛線(xiàn)所圍成部位的重復(fù),每重復(fù)多一個(gè),就能在引線(xiàn)框架上多封裝出一個(gè)電子元件。在三個(gè)引腳2a、2b、2c中,其中一個(gè)引腳2a連接著一塊用于固定娃芯片的載芯板
3。載芯板3與三個(gè)引腳2a、2b、2c是整體成型的。載芯板3的固定硅芯片的板面上均勻分布有多個(gè)凹坑4,凹坑4的數(shù)量越多,載芯板3與塑封料的結(jié)合力越好。凹坑4采用機(jī)械沖壓方式成型。實(shí)際上,所有引腳2a、2b、2c、載芯板3、凹坑4,包括將各引腳連成一體的連接條5都是在同一塊金屬板上沖壓形成的。引線(xiàn)框架I的材質(zhì)可以是銅、銅合金或者鐵、鐵鎳
坐寸ο同時(shí)參見(jiàn)圖I、圖2和圖3,凹坑4為楔形盲孔,其坑口面積大于坑底面積。凹坑的坑口和坑底的形狀都是矩形,坑口的矩形邊長(zhǎng)LI和L2為O. 08 O. 12毫米,坑底的矩形邊長(zhǎng)L3和L4為O. 04 O. 07毫米,凹坑的深度H為O. 03 O. I毫米。楔形盲孔具有較大的表面積,有利于與塑封料的充分接觸。利用圖I所示的引線(xiàn)框架封裝而成的電子元件如圖4和圖5所示。該電子元件包括三個(gè)管腳6a、6b、6c,其中一個(gè)管腳6a連接著一塊載芯板3。實(shí)際上,該電子元件的三個(gè)管腳6a、6b、6c就是從圖I中的引線(xiàn)框架的三個(gè)引腳2a、2b、2c切割而成,電子元件的載芯板3就是圖I中的引線(xiàn)框架的載芯板3。在電子元件的載芯板3上固定有硅芯片8,硅芯片 8包裹在塑封料9中。塑封料9直接與載芯板3粘結(jié)。塑封料9通常采用環(huán)氧樹(shù)脂。在載芯板3的固定硅芯片的板面上設(shè)有多個(gè)凹坑4,塑封料9嵌入并且直接粘結(jié)在凹坑4中。圖 5中的凹坑4實(shí)際上就是圖I中的凹坑4,此處不再贅述。
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下面詳細(xì)說(shuō)明將硅芯片封裝在圖I所示的引線(xiàn)框架I上,進(jìn)而形成圖4所示電子元件的方法。首先制作圖I所示結(jié)構(gòu)的引線(xiàn)框架1,引線(xiàn)框架I的材質(zhì)最好是銅或鍍銅金屬。接下來(lái)可進(jìn)行粘片,就是將硅芯片8固定在引線(xiàn)框架I的載芯板3上。但在粘片之前,最好對(duì)引線(xiàn)框架I進(jìn)行預(yù)熱處理,預(yù)熱處理的溫度在250 350°C之間,持續(xù)時(shí)間 15 30秒,預(yù)熱處理后,保持引線(xiàn)框架I的溫度至執(zhí)行粘片步驟。此步預(yù)熱處理的有益效果在于,一方面,粘片時(shí)的溫度一般在300 400°C,如果引線(xiàn)框架從室溫驟然升到400°C, 其里面會(huì)積蓄大量的應(yīng)力,這些應(yīng)力一旦釋放,就會(huì)將粘結(jié)在載芯板上的硅芯片撕裂,另一方面,引線(xiàn)框架與硅芯片的熱膨脹系數(shù)不一樣,如果引線(xiàn)框架溫升過(guò)快,也會(huì)造成硅芯片撕裂,因此,在粘片之前對(duì)引線(xiàn)框架進(jìn)行預(yù)熱處理,可以顯著提高封裝質(zhì)量。粘片的方法可以采用點(diǎn)焊料,或者通過(guò)融化硅芯片背面的金層來(lái)連接硅芯片與載芯板。完成粘片之后可進(jìn)行壓焊,就是通過(guò)內(nèi)引線(xiàn)將硅芯片8的引腳和引線(xiàn)框架I的相應(yīng)引腳2a、2b、2c連接起來(lái),所連接的引腳2a、2b、2c就構(gòu)成電子元件的管腳6a、6b、6c。接下來(lái)可進(jìn)行密封,將引線(xiàn)框架放入模具中,用液壓機(jī)(通常采用250噸液壓機(jī)) 將塑封料壓入模具,使塑封料粘結(jié)到載芯板3上,以此將硅芯片8、內(nèi)引線(xiàn)、引線(xiàn)框架的三個(gè)引腳2a、2b、2c的端頭密封起來(lái)。在往模具中注入塑封料的時(shí)候,塑封料進(jìn)入到引線(xiàn)框架的載芯板上的凹坑4內(nèi),從而大大增加塑封料與載芯板3,也就是與引線(xiàn)框架I的結(jié)合力。如果引線(xiàn)框架I的材質(zhì)是銅或鍍銅金屬,而且塑封料是環(huán)氧樹(shù)脂,那么在上述密封步驟之前,最好先對(duì)引線(xiàn)框架I進(jìn)行加熱,以促進(jìn)引線(xiàn)框架表面所含銅材質(zhì)的氧化,加熱處理的溫度在100 180°C之間,持續(xù)時(shí)間8 12分鐘。此步加熱處理的有益效果在于,銅氧化對(duì)銅和環(huán)氧樹(shù)脂的結(jié)合有很大程度的促進(jìn)作用,從而能進(jìn)一步提高環(huán)氧樹(shù)脂與載芯板 3的結(jié)合力。密封完畢后,對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行熱處理,熱處理的溫度為200 250°C,持續(xù)時(shí)間為2 3 小時(shí)。此步驟可以很好地釋放產(chǎn)品的內(nèi)部應(yīng)力。接下來(lái)可根據(jù)實(shí)際需要對(duì)引線(xiàn)框架的引腳2a、2b、2c進(jìn)行電鍍,使各引腳均勻鍍
上一層錫。接著進(jìn)行分離成型,將在引線(xiàn)框架I上封裝而成的電子元件切割分離出來(lái),形成獨(dú)立的電子元件,就是將圖I中的虛線(xiàn)所圍成的部位切割出來(lái),并且切斷三個(gè)引腳2a、2b、 2c之間的連接條5,將各引腳2a、2b、2c切成想要的尺寸,從而得到圖4所示的電子元件。由于切割引腳時(shí)會(huì)形成內(nèi)應(yīng)力,因此當(dāng)用戶(hù)對(duì)電子元件進(jìn)行高溫焊接時(shí),管腳根部的塑封料容易產(chǎn)生分層現(xiàn)象,而且管腳越短,分層現(xiàn)象越容易發(fā)生。為克服此缺陷,可在上述的分離成型步驟之后,對(duì)電子元件進(jìn)行熱處理,熱處理的溫度是150 200°C,持續(xù)時(shí)間3 12小時(shí)。以此可釋放管腳的內(nèi)應(yīng)力。以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明,并非對(duì)本發(fā)明的限制,本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行的修改或者等同替換都涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求所限定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種硅芯片封裝用引線(xiàn)框架,具有多個(gè)引腳,所述引腳構(gòu)成硅芯片封裝完畢所形成的電子元件的管腳,在所述的多個(gè)引腳中,至少有一個(gè)引腳(2a)連接著一塊用于固定硅芯片的載芯板(3),其特征是在所述載芯板(3)的固定硅芯片的板面上設(shè)有多個(gè)凹坑(4)。
2.如權(quán)利要求I所述的硅芯片封裝用引線(xiàn)框架,其特征是所述凹坑(4)為楔形盲孔, 其坑口面積大于坑底面積。
3.如權(quán)利要求2所述的硅芯片封裝用引線(xiàn)框架,其特征是所述凹坑(4)的坑口和坑底的形狀都是矩形。
4.如權(quán)利要求3所述的硅芯片封裝用引線(xiàn)框架,其特征是所述凹坑(4)的坑口邊長(zhǎng)為O. 08 O. 12毫米,所述凹坑(4)的坑底邊長(zhǎng)為O. 04 O. 07毫米,所述凹坑(4)的深度為O. 03 O. I毫米。
5.如權(quán)利要求I至4任一項(xiàng)所述的硅芯片封裝用引線(xiàn)框架,其特征是在所述載芯板(3)的固定硅芯片的板面上,所述凹坑(4)均勻分布。
6.一種硅芯片的封裝方法,依序包括以下步驟步驟1:制作引線(xiàn)框架(I);步驟2 :粘片,將硅芯片⑶固定在引線(xiàn)框架⑴的載芯板(3)上;步驟3:壓焊,通過(guò)內(nèi)引線(xiàn)將硅芯片⑶的引腳和引線(xiàn)框架⑴的相應(yīng)引腳連接起來(lái);步驟4 :密封,將塑封料(9)粘結(jié)在引線(xiàn)框架的載芯板(3)上,用塑封料(9)將硅芯片(8)、內(nèi)引線(xiàn)、引線(xiàn)框架的與內(nèi)引線(xiàn)連接的引腳端頭密封起來(lái);步驟5 :對(duì)密封后的產(chǎn)品進(jìn)行熱處理,熱處理的溫度為200 250°C,持續(xù)時(shí)間為2 3 小時(shí);步驟6:分離成型,將在引線(xiàn)框架上封裝而成的電子元件切割分離出來(lái),形成獨(dú)立的電子元件;其特征在于所述步驟I制作的引線(xiàn)框架(I)是權(quán)利要求I至5任一項(xiàng)所述的硅芯片封裝用引線(xiàn)框架;在所述步驟4中,使塑封料(9)進(jìn)入到所述引線(xiàn)框架的載芯板上的凹坑(4)內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的一種硅芯片的封裝方法,其特征是在所述步驟I之后,于所述步驟2之前,對(duì)所述引線(xiàn)框架(I)進(jìn)行預(yù)熱處理,預(yù)熱處理的溫度在.250 350°C之間,持續(xù)時(shí)間15 30秒,預(yù)熱處理后,保持引線(xiàn)框架(I)的溫度至執(zhí)行所述步驟2。
8.如權(quán)利要求6所述的一種硅芯片的封裝方法,其特征是所述引線(xiàn)框架(I)的材質(zhì)是銅或鍍銅金屬,所述塑封料(9)是環(huán)氧樹(shù)脂,在所述步驟3之后,于所述步驟4之前,對(duì)所述引線(xiàn)框架(I)進(jìn)行加熱,以促進(jìn)所述引線(xiàn)框架(I)的表面所含銅材質(zhì)的氧化。
9.如權(quán)利要求8所述的一種硅芯片的封裝方法,其特征是所述引線(xiàn)框架(I)進(jìn)行加熱處理的溫度在100 180°C之間,持續(xù)時(shí)間為8 12分鐘。
10.如權(quán)利要求6所述的一種硅芯片的封裝方法,其特征是在所述步驟6之后,對(duì)分離成型后的電子元件進(jìn)行熱處理,熱處理的溫度是150 200°C,持續(xù)時(shí)間為3 12小時(shí)。
11.一種封裝有硅芯片的電子元件,包括多個(gè)管腳,其中至少一個(gè)管腳連接著一塊載芯板(3),硅芯片(8)固定在載芯板(3)上,在所述載芯板(3)的固定硅芯片的板面上粘結(jié)有塑封料(9),所述硅芯片(8)包裹在所述塑封料(9)中,其特征是所述載芯板(3)采用權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的硅芯片封裝用引線(xiàn)框架的載芯板(3)。
全文摘要
本發(fā)明提出了一種硅芯片封裝用引線(xiàn)框架,其具有多個(gè)引腳,所述引腳構(gòu)成硅芯片封裝完畢所形成的電子元件的管腳,在所述的多個(gè)引腳中,至少有一個(gè)引腳連接著一塊用于固定硅芯片的載芯板,在所述載芯板的固定硅芯片的板面上設(shè)有多個(gè)凹坑。本發(fā)明還提出了一種硅芯片的封裝方法,其主要步驟包括制作上述硅芯片封裝用引線(xiàn)框架;將硅芯片固定在引線(xiàn)框架的載芯板上;通過(guò)內(nèi)引線(xiàn)將硅芯片的引腳和引線(xiàn)框架的相應(yīng)引腳連接起來(lái);將塑封料粘結(jié)在引線(xiàn)框架的載芯板上,用塑封料將硅芯片、內(nèi)引線(xiàn)、引線(xiàn)框架的與內(nèi)引線(xiàn)連接的引腳端頭密封起來(lái);對(duì)密封后的產(chǎn)品進(jìn)行熱處理和分離成型。以上述方法為基礎(chǔ),本發(fā)明進(jìn)一步提出了一種封裝有硅芯片的電子元件。
文檔編號(hào)H01L23/495GK102610585SQ20111042802
公開(kāi)日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者嚴(yán)向陽(yáng), 代新鵬, 張國(guó)俊, 張國(guó)光, 楊全忠, 楊譜, 王光明, 董安意, 袁鳳江, 陳杰堯, 陳逸晞, 黃榮華 申請(qǐng)人:佛山市藍(lán)箭電子有限公司