国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      配向膜、彩膜基板、陣列基板、液晶顯示裝置及制造方法

      文檔序號(hào):7109239閱讀:226來源:國知局
      專利名稱:配向膜、彩膜基板、陣列基板、液晶顯示裝置及制造方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域,特別涉及一種配向膜、彩膜基板、陣列基板、液晶顯示裝置及制造方法。
      背景技術(shù)
      液晶顯示器是目前常用的平板顯示器,其中薄膜晶體管液晶顯示器(Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display,簡稱TFT-IXD)是液晶顯示器中的主流產(chǎn)品。 TFT-IXD是由多個(gè)構(gòu)件組成的一個(gè)精密而復(fù)雜的器件。圖13為現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖13所示,該液晶顯示裝置包括相對(duì)設(shè)置的彩膜基板和陣列基板,彩膜基板和陣列基板之間填充有液晶層10,彩膜基板和陣列基板之間還形成有隔墊物12,該隔墊物12用于支撐相對(duì)設(shè)置的彩膜基板和陣列基板。其中,該彩膜基板包括彩膜基板結(jié)構(gòu)4和形成于彩膜基板結(jié)構(gòu)4之上的彩膜基板配向膜18,彩膜基板配向膜18位于液晶顯示裝置的顯示區(qū)域(Active Area)和周邊區(qū)域(Peripheral Area);該陣列基板包括陣列基板結(jié)構(gòu)7和形成于陣列基板結(jié)構(gòu)7之上的陣列基板配向膜19,陣列基板配向膜19位于液晶顯示裝置的顯示區(qū)域和周邊區(qū)域。在周邊區(qū)域中,彩膜基板配向膜18和陣列基板配向膜19之間還形成有封框膠11。在液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域中,周邊區(qū)域?yàn)轱@示區(qū)域與液晶顯示裝置邊緣之間的區(qū)域,而將從顯示區(qū)域到液晶顯示裝置邊緣之間的距離稱為封框膠涂布區(qū)域(SealingArea)。例如上述液晶顯示裝置可以為扭曲向列(Twisted Nematic,以下簡稱TN)型液晶顯示裝置或者高級(jí)超維場轉(zhuǎn)換(Advanced Super DimensionSwitch,以下簡稱ADS)型液晶顯示裝置。以液晶顯示裝置為TN型液晶顯示裝置為例,彩膜基板結(jié)構(gòu)具體可包括彩膜襯底基板、彩色矩陣、黑矩陣和公共電極,彩色矩陣和黑矩陣以矩陣形式形成于彩膜襯底基板上,且彩色矩陣設(shè)置于黑矩陣之間,公共電極形成于彩色矩陣和黑矩陣之上并覆蓋彩膜襯底基板。其中,彩色矩陣形成于顯示區(qū)域,黑矩陣形成于顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,公共電極形成于顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,則在周邊區(qū)域中,彩膜基板配向膜18的下方形成有公共電極。換言之,彩膜基板結(jié)構(gòu)可以包括彩膜基板中除彩膜基板配向膜18之外的其它所有組成結(jié)構(gòu)。其中,陣列基板結(jié)構(gòu)具體可包括陣列襯底基板、柵線和數(shù)據(jù)線,柵線和數(shù)據(jù)線限定出像素區(qū)域,像素區(qū)域內(nèi)部形成有像素電極,其中,柵線和數(shù)據(jù)線之間形成有絕緣層,數(shù)據(jù)線上方形成有鈍化層,絕緣層和鈍化層均覆蓋整個(gè)陣列襯底基板,鈍化層上形成有過孔,像素電極填充于過孔中以將數(shù)據(jù)線和像素電極電連接。其中,像素電極形成于顯示區(qū)域,其余組成結(jié)構(gòu)均形成于顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,則在周邊區(qū)域中,陣列基板配向膜19的下方形成有鈍化層。換言之,陣列基板結(jié)構(gòu)可以包括陣列基板中除陣列基板配向膜之外的其它所有組成結(jié)構(gòu)。窄邊框(Nairow Bezel)是以后液晶顯示裝置的發(fā)展趨勢(shì),特別是對(duì)于小尺寸的平板電腦和手機(jī)用的液晶屏,對(duì)窄邊框的要求越來越高,但是由于液晶顯示裝置周邊制作工藝的限制,目前窄邊框產(chǎn)品的設(shè)計(jì)狀況還有很大的改進(jìn)和提升空間。而窄邊框設(shè)計(jì)的關(guān)鍵就是減小封框膠涂布區(qū)域的大小,目前TFT-LCD行業(yè)減小封框膠涂布區(qū)域主要是通過減小周邊區(qū)域中配向膜的寬度、減小封框膠自身的膠寬、讓封框膠與彩膜基板上的ITO(圖中未示出)重疊一部分或者全部重疊、或者讓封框膠與配向膜部分重疊等方法實(shí)現(xiàn)。周邊區(qū)域的配向膜尺寸由于受到TFT-LCD產(chǎn)線エ藝精度的限制,必須要大于一定的值以保證配向膜的制成質(zhì)量,這就給通過減小配向膜的寬度來減小封框膠涂布區(qū)域造成一定的困難。因此,現(xiàn)有技術(shù)中通常通過讓封框膠與配向膜部分重疊的方式來減小封框膠涂布區(qū)域的寬度。圖14為現(xiàn)有技術(shù)中封框膠與配向膜部分重疊的示意圖,如圖14所示,在該液晶顯示裝置中,封框膠11的一部分與彩膜基板配向膜18和陣列基板配向膜19重疊,另一部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)4和陣列基板結(jié)構(gòu)7重疊。由于封 框膠與配向膜之間的粘接カ較弱,因此為了達(dá)到粘接力的要求,現(xiàn)有技術(shù)中僅能采取封框膠11部分與配向膜接觸、部分與配向膜外側(cè)的彩膜基板結(jié)構(gòu)和陣列基板結(jié)構(gòu)接觸的方案,這極大的限制了封框膠與顯示區(qū)域之間距離的減小,從而造成封框膠涂布區(qū)域的寬度較大。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明提供一種配向膜、彩膜基板、陣列基板、液晶顯示裝置及制造方法,用以減小封框膠涂布區(qū)域的寬度。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種配向膜,包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,所述配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)??蛇x地,所述配向膜周邊部分包括多個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu),所述鏤空結(jié)構(gòu)為相鄰所述環(huán)形結(jié)構(gòu)之間的間隔??蛇x地,所述環(huán)形結(jié)構(gòu)之間間隔的寬度大于0. 05mm且小于0. 3mm。可選地,與所述配向膜中間部分相連接的配向膜周邊部分的寬度大于或等于0. Imm0為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種彩膜基板,包括彩膜基板結(jié)構(gòu)和形成于所述彩膜基板結(jié)構(gòu)之上的彩膜基板配向膜,所述彩膜基板配向膜采用上述配向膜。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種陣列基板,包括陣列基板結(jié)構(gòu)和形成于所述陣列基板結(jié)構(gòu)之上的陣列基板配向膜,所述陣列基板配向膜采用上述配向。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了ー種液晶顯示裝置,包括彩膜基板和陣列基板,所述彩膜基板和所述陣列基板相對(duì)設(shè)置,所述彩膜基板和所述陣列基板之間填充有液晶層,所述彩膜基板和所述陣列基板之間還形成有封框膠,所述彩膜基板采用如上述彩膜基板,和/或所述陣列基板采用如上述陣列基板??蛇x地,所述封框膠的內(nèi)側(cè)邊緣與顯示區(qū)域邊緣的距離大于或等于0. 1_。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種彩膜基板的制造方法,包括形成彩膜基板結(jié)構(gòu);在所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜基板配向膜,所述彩膜基板配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,所述配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)??蛇x地,所述在所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜基板配向膜包括
      在所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜配向膜液態(tài)材料;將干涉板放置于所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上,所述干涉板包括基底和設(shè)置于所述基底上的間隔探針,所述間隔探針與所述彩膜基板結(jié)構(gòu)接觸并位于所述周邊區(qū)域中,所述間隔探針用于使所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu);對(duì)所述彩膜配向膜液態(tài)材料進(jìn)行加熱處理,形成所述彩膜基板配向膜;將所述干涉板和所述彩膜基板結(jié)構(gòu)分離??蛇x地,所述間隔探針為環(huán)形探針。可選地,所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意組合。 可選地,所述間隔探針的表面具有疏水性。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種陣列基板的制造方法,包括形成陣列基板結(jié)構(gòu);在所述陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列基板配向膜,所述陣列基板配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,所述配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)。可選地,所述在所述陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列基板配向膜包括在所述陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列配向膜液態(tài)材料;將干涉板放置于所述陣列基板結(jié)構(gòu)上,所述干涉板包括基底和設(shè)置于所述基底上的間隔探針,所述間隔探針與所述陣列基板結(jié)構(gòu)接觸并與所述周邊區(qū)域的位置對(duì)應(yīng),所述間隔探針用于使所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu);對(duì)所述陣列配向膜液態(tài)材料進(jìn)行加熱處理,形成所述陣列基板配向膜;將所述干涉板和所述陣列基板結(jié)構(gòu)分離??蛇x地,所述間隔探針為環(huán)形探針??蛇x地,所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意組合。可選地,所述間隔探針的表面具有疏水性。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種液晶顯示裝置的制造方法,包括制備彩膜基板和陣列基板,所述彩膜基板采用權(quán)利要求9至13任一所述的彩膜基板的制造方法制備和/或所述陣列基板采用權(quán)利要求14至18任一所述的陣列基板的制造方法制備;將所述彩膜基板和所述陣列基板相對(duì)設(shè)置;在所述彩膜基板和所述陣列基板之間填充液晶層;在所述彩膜基板的配向膜周邊部分和所述陣列基板的配向膜周邊部分之間形成封框膠。本發(fā)明具有以下有益效果本發(fā)明提供的配向膜、彩膜基板、陣列基板、液晶顯示裝置及制造方法的技術(shù)方案中,配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和/或陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘接力的基礎(chǔ)上減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的距離,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的覽度。


      圖I為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種配向膜的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本發(fā)明實(shí)施例ニ提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為本發(fā)明實(shí)施例四提供的ー種液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
      圖5為本發(fā)明實(shí)施例五提供的一種彩膜基板的制造方法的流程圖;圖6為在彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜配向膜液態(tài)材料的示意圖;圖7為干涉板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖8為圖7中A-A向剖面圖;圖9為將干渉板放置于彩膜基板結(jié)構(gòu)上的示意圖;圖10為本發(fā)明實(shí)施例六提供的一種陣列基板的制造方法的流程圖;圖11為在陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列配向膜液態(tài)材料的示意圖;圖12為將干涉板放置于陣列基板結(jié)構(gòu)上的示意圖;圖13為現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;圖14為現(xiàn)有技術(shù)中封框膠與配向膜部分重疊的示意圖。
      具體實(shí)施例方式為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案,下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明提供的配向膜、彩膜基板、陣列基板、液晶顯示裝置及制造方法進(jìn)行詳細(xì)描述。圖I為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種配向膜的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖I所示,該配向膜包括配向膜中間部分I和配向膜周邊部分2,配向膜中間部分I形成于顯示區(qū)域,配向膜周邊部分2形成于顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,配向膜周邊部分2具有鏤空結(jié)構(gòu)。需要說明的是,當(dāng)配向膜應(yīng)用于液晶顯示裝置中時(shí),本發(fā)明所述的顯示區(qū)域?qū)?yīng)于液晶顯示裝置的顯示區(qū)域,所述的周邊區(qū)域?qū)?yīng)于液晶顯示裝置的周邊區(qū)域。配向膜中間部分I為形成于顯示區(qū)域的連續(xù)膜層,換言之,配向膜中間部分I連續(xù)形成于顯示區(qū)域。配向膜周邊部分2圍繞配向膜中間部分I設(shè)置,配向膜周邊部分2是斷開的而非連續(xù)設(shè)置,即配向膜周邊部分2是鏤空結(jié)構(gòu)的,該配向膜周邊部分2形成有間隔3,該間隔3的間隔寬度dl大于0. 05mm且小于0. 3臟,優(yōu)選地,間隔寬度dl為0. 1mm。所述間隔即為一種配向膜周邊部分2的鏤空結(jié)構(gòu)。本發(fā)明中,根據(jù)產(chǎn)品類型的不同,間隔寬度還可以采用其它值,本實(shí)施例中設(shè)定的間隔寬度并非是對(duì)該間隔寬度的限制。優(yōu)選地,配向膜周邊部分2包括多個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu),該環(huán)形結(jié)構(gòu)之間具有間隔3。例如該環(huán)形結(jié)構(gòu)可以為方環(huán)或者圓環(huán),本實(shí)施例中,環(huán)形結(jié)構(gòu)為方環(huán)。在實(shí)際應(yīng)用中,配向膜周邊部分2還可以采用其它的結(jié)構(gòu),只要該結(jié)構(gòu)能夠滿足間隔形成于周邊區(qū)域即可。如圖I所示,優(yōu)選地,為保證顯示區(qū)域的畫面顯示效果,位于顯示區(qū)域的配向膜中間部分I的邊緣應(yīng)與配向膜周邊部分2相連接,而并非與配向膜周邊部分2的間隔3相鄰。將與配向膜中間部分I相連接的配向膜周邊部分2的寬度d2設(shè)為大于或等于0. 1_。需要說明的是本實(shí)施例中,配向膜中間部分I和配向膜周邊部分2的材料相同且同步形成,其中,配向膜中間部分I采用空白圖案填充,配向膜周邊部分2采用點(diǎn)狀圖案填充。液晶顯示裝置可包括彩膜基板和陣列基板,在彩膜基板和/或陣列基板中可包括配向膜這ー結(jié)構(gòu)。當(dāng)配向膜應(yīng)用于彩膜基板中時(shí),該配向膜可以為彩膜基板配向膜,當(dāng)配向膜應(yīng)用于陣列基板中時(shí),該配向膜可以為陣列基板配向膜。本實(shí)施例提供的配向膜應(yīng)用于液晶顯示裝置中時(shí),配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于配向膜的鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和/或陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘接力要求的同時(shí)減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的距離,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的寬度。 圖2為本發(fā)明實(shí)施例ニ提供的一種彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖2所示,該彩膜基板包括彩膜基板結(jié)構(gòu)4和形成于彩膜基板結(jié)構(gòu)4之上的彩膜基板配向膜,彩膜基板配向膜包括配向膜中間部分5和配向膜周邊部分6,配向膜中間部分5形成于顯示區(qū)域,配向膜周邊部分6形成于顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,配向膜周邊部分6具有鏤空結(jié)構(gòu)。本實(shí)施例中,彩膜基板結(jié)構(gòu)具體可包括彩膜襯底基板、彩色矩陣、黑矩陣和公共電極,彩色矩陣和黑矩陣以矩陣形式形成于彩膜襯底基板上,且彩色矩陣設(shè)置于黑矩陣之間,公共電極形成于彩色矩陣和黑矩陣之上并覆蓋彩膜襯底基板。其中,彩色矩陣形成于顯示區(qū)域,黑矩陣形成于顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,公共電極形成于顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,則在周邊區(qū)域中,配向膜周邊部分6的下方形成有公共電極。上述彩膜基板結(jié)構(gòu)僅為ー種實(shí)施例,在實(shí)際應(yīng)用中還可以采用其它彩膜基板結(jié)構(gòu),例如黑矩陣形成于公共電極之上的結(jié)構(gòu)等。配向膜中間部分5為形成于顯示區(qū)域的連續(xù)膜層,換言之,配向膜中間部分5連續(xù)形成于顯示區(qū)域。配向膜周邊部分6圍繞配向膜中間部分5設(shè)置,配向膜周邊部分6是斷開的而非連續(xù)設(shè)置,即配向膜周邊部分6是鏤空結(jié)構(gòu)的,該配向膜周邊部分6形成有間隔3,該間隔3的間隔寬度dl可大于0. 05mm且小于0. 3mm,優(yōu)選地,間隔寬度dl為0. 1mm。優(yōu)選地,配向膜周邊部分6包括多個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu),該環(huán)形結(jié)構(gòu)之間具有間隔3。例如該環(huán)形結(jié)構(gòu)可以為方環(huán)或者圓環(huán),本實(shí)施例中,環(huán)形結(jié)構(gòu)為方環(huán)。在實(shí)際應(yīng)用中,配向膜周邊部分6還可以采用其它的結(jié)構(gòu),只要該結(jié)構(gòu)能夠滿足間隔形成于周邊區(qū)域即可。如圖2所示,優(yōu)選地,為保證顯示區(qū)域的畫面顯示效果,位于顯示區(qū)域的配向膜中間部分5的邊緣應(yīng)與配向膜周邊部分6連接,而并非與配向膜周邊部分6的間隔3相鄰。將與配向膜中間部分5相連接的配向膜周邊部分6的寬度d2設(shè)為大于或等于0. 1_。需要說明的是,本實(shí)施例中,配向膜中間部分5和配向膜周邊部分6的材料相同,且同步形成,其中,配向膜中間部分5采用空白圖案填充,配向膜周邊部分6采用點(diǎn)狀圖案填充。本實(shí)施例提供的彩膜基板的技術(shù)方案中,配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于配向膜的鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘接力要求的前提下減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的距離,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的寬度。圖3為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖3所示,該陣列基板包括陣列基板結(jié)構(gòu)7和形成于陣列基板結(jié)構(gòu)7之上的陣列基板配向膜,陣列基板配向膜包括配向膜中間部分8和配向膜周邊部分9,配向膜中間部分8形成于顯示區(qū)域,配向膜周邊部分9形成于顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)。本實(shí)施例中,陣列基板結(jié)構(gòu)具體可包括陣列襯底基板、柵線和數(shù)據(jù)線,柵線和數(shù)據(jù)線限定出像素區(qū)域,像素區(qū)域內(nèi)部形成有像素電極,其中,柵線和數(shù)據(jù)線之間形成有絕緣層,數(shù)據(jù)線上方形成有鈍化層,絕緣層和鈍化層均覆蓋整個(gè)陣列襯底基板,鈍化層上形成有過孔,像素電極填充于過孔中以將數(shù)據(jù)線和像素電極電連接。其中,像素電極形成于顯示區(qū)域,其余組成結(jié)構(gòu)均形成于顯示區(qū)域和周邊區(qū)域,則在周邊區(qū)域中,配向膜周邊部分9的下方形成有鈍化層。上述陣列基板結(jié)構(gòu)僅為ー種實(shí)施例,在實(shí)際應(yīng)用中還可以采用其它陣列基板結(jié)構(gòu),例如數(shù)據(jù)線形成于柵線之上的結(jié)構(gòu)等。
      配向膜中間部分8為形成于顯示區(qū)域的連續(xù)膜層,換言之,配向膜中間部分8連續(xù)形成于顯示區(qū)域。配向膜周邊部分9圍繞配向膜中間部分8設(shè)置,配向膜周邊部分9之間具備一定的間隔寬度,配向膜周邊部分9之間是斷開而非連續(xù)設(shè)置,即配向膜周邊部分9之間形成有間隔3,該間隔3的間隔寬度dl可大于0. 05mm且小于0. 3mm,優(yōu)選地,間隔寬度dl為0. 1_。換言之,配向膜周邊部分9可按照間隔寬度間隔形成于周邊區(qū)域。優(yōu)選地,配向膜周邊部分9為環(huán)形結(jié)構(gòu)。例如該環(huán)形結(jié)構(gòu)可以為方環(huán)或者圓環(huán),本實(shí)施例中,該環(huán)形結(jié)構(gòu)為方環(huán)。在實(shí)際應(yīng)用中,配向膜周邊部分9還可以采用其它的結(jié)構(gòu),只要能夠滿足間隔形成于周邊區(qū)域即可。如圖3所示,優(yōu)選地,為保證顯示區(qū)域的畫面顯示效果,位于顯示區(qū)域的配向膜中間部分8的邊緣應(yīng)與一個(gè)配向膜周邊部分9連接,而并非與配向膜周邊部分9之間的間隔3相鄰。則與配向膜中間部分8連接的配向膜周邊部分9的寬度d2設(shè)為大于或等于0. 1_。需要說明的是,本實(shí)施例中,配向膜中間部分8和配向膜周邊部分9的材料相同,且同步形成,其中,配向膜中間部分8采用空白圖案填充,配向膜周邊部分9采用點(diǎn)狀圖案填充。本實(shí)施例提供的陣列基板的技術(shù)方案中,配向膜周邊部分間隔形成于周邊區(qū)域,使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于配向膜的鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘接力要求的前提下減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的寬度,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的寬度。圖4為本發(fā)明實(shí)施例四提供的ー種液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖4所示,該液晶顯示裝置包括彩膜基板和陣列基板,彩膜基板和陣列基板相對(duì)設(shè)置,彩膜基板和陣列基板之間填充有液晶層10,彩膜基板和陣列基板之間還形成有封框膠11。其中,彩膜基板可采用上述實(shí)施例ニ中的彩膜基板,和/或陣列基板可采用上述實(shí)施例三中的陣列基板,此處不再贅述。其中,封框膠11形成于彩膜基板的配向膜周邊部分6和陣列基板的配向膜周邊部分9之間。當(dāng)彩膜基板采用上述實(shí)施例ニ中的彩膜基板時(shí),封框膠11填充于彩膜基板的配向膜周邊部分6的間隔3 ;當(dāng)陣列基板采用上述實(shí)施例三中的陣列基板時(shí),封框膠11填充于陣列基板的配向膜周邊部分9的間隔3。
      進(jìn)一步地,該液晶顯示裝置還可以包括隔墊物12,該隔墊物12用于支撐彩膜基板和陣列基板。封框膠11的內(nèi)側(cè)邊緣與顯示區(qū)域邊緣的距離d3大于或等于O. 1mm,這樣可以使得封框膠11不會(huì)完全覆蓋與顯示區(qū)域連接的彩膜基板的配向膜周邊部分6和陣列基板的配向膜周邊部分9,從而保證了顯示區(qū)域的畫面顯示效果。本發(fā)明中,由于封框膠涂布區(qū)域?qū)?yīng)的彩膜基板上形成有黑矩陣,因此對(duì)封框膠進(jìn)行紫外線固化時(shí)紫外線需要從陣列基板一側(cè)照射。如果封框膠涂布區(qū)域?qū)?yīng)的陣列基板上形成有金屬信號(hào)線,則該封框膠涂布區(qū)域的信號(hào)線采用網(wǎng)狀(mesh)處理,使金屬信號(hào)線上形成鏤空部分,從而使得紫外線從鏤空部分透過以照射到封框膠,保證了封框膠的紫外 線固化效果。另外,金屬信號(hào)線僅部分被鏤空,不會(huì)改變金屬信號(hào)線的導(dǎo)電性質(zhì)。本實(shí)施例提供的液晶顯示裝置的技術(shù)方案中,彩膜基板的配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),和/或陣列基板的配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于配向膜的鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和/或陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘接力的基礎(chǔ)上減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的距離,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的寬度。本發(fā)明中,液晶顯示裝置可以為TN型液晶顯示裝置或者ADS型液晶顯示裝置。本發(fā)明實(shí)施例中均以TN型液晶顯示裝置為例進(jìn)行具體描述,在實(shí)際應(yīng)用中液晶顯示裝置還可以采用ADS型液晶顯示裝置。圖5為本發(fā)明實(shí)施例五提供的一種彩膜基板的制造方法的流程圖,如圖5所示,該彩膜基板的制造方法包括步驟101、形成彩膜基板結(jié)構(gòu)。對(duì)彩膜基板結(jié)構(gòu)的具體描述如實(shí)施例二中的描述,本實(shí)施例中可采用液晶顯示器制造領(lǐng)域的構(gòu)圖工藝形成彩膜基板結(jié)構(gòu)。步驟102、在彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜基板配向膜,彩膜基板配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,配向膜周邊部分形成于顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)。本實(shí)施例中,步驟102具體可包括步驟1021、在彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜配向膜液態(tài)材料。圖6為在彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜配向膜液態(tài)材料的示意圖,如圖6所示,在彩膜基板結(jié)構(gòu)4上形成彩膜配向膜液態(tài)材料13,具體地,可在彩膜基板結(jié)構(gòu)4上印刷彩膜配向膜液態(tài)材料13。彩膜配向膜液態(tài)材料13同時(shí)形成于顯示區(qū)域和周邊區(qū)域。步驟1022、將干涉板放置于所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上,干涉板包括基底和設(shè)置于基底上的間隔探針,間隔探針與彩膜基板結(jié)構(gòu)接觸位于周邊區(qū)域中,間隔探針用于使配向膜周邊部具有鏤空結(jié)構(gòu)。圖7為干涉板的結(jié)構(gòu)示意圖,圖8為圖7中A-A向剖面圖,如圖7和圖8所示,干涉板包括基底14和設(shè)置于基底14上的間隔探針15。將干涉板放置于彩膜基板結(jié)構(gòu)上時(shí),間隔探針15位于周邊區(qū)域中,即間隔探針15的位置與周邊區(qū)域的位置對(duì)應(yīng)。間隔探針15的結(jié)構(gòu)與配向膜周邊部分的結(jié)構(gòu)是對(duì)應(yīng)的,其用于使配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),因此間隔探針15之間具備一定的間隔距離,即間隔探針15之間形成有探針間隔處16。優(yōu)選地,間隔探針15為環(huán)形探針。例如該環(huán)形探針可以為方環(huán)探針或者圓環(huán)探針,本實(shí)施例中,間隔探針15為圓環(huán)探針。在實(shí)際應(yīng)用中,若彩膜基板的配向膜周邊部分6采用了其它的結(jié)構(gòu),相應(yīng)地,間隔探針15也改為可采用相應(yīng)的結(jié)構(gòu)。干渉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意組合。為保證間隔探針15與彩膜配向膜液態(tài)材料13接觸時(shí)彼此之間具備很好的分離性,需要間隔探針15的表面具有疏水性。具體地,可對(duì)干涉板進(jìn)行紫外光照射處理、激光處理或者等離子體處理,從而使得間隔探針15具有疏水性。圖9為將干渉板放置于彩膜基板結(jié)構(gòu)上的示意圖,如圖9所示,將干涉板沿垂直于彩膜基板結(jié)構(gòu)4上表面的方向向下移動(dòng),直至間隔探針15與彩膜基板結(jié)構(gòu)4的上表面接觸,從而完成了將干涉板放置于彩膜基板結(jié)構(gòu)4上的過程。在將干涉板放置于彩膜基板結(jié)構(gòu)4吋,為提高干渉板和彩膜基板結(jié)構(gòu)4的對(duì)位精度,可在干渉板和彩膜基板結(jié)構(gòu)4上分別設(shè)置對(duì)位標(biāo)記,并通過對(duì)位標(biāo)記將干渉板放置于彩膜基板結(jié)構(gòu)4上,優(yōu)選地對(duì)位精度為0. 1mm。其中,在形成彩膜配向膜的過程中,間隔探針15對(duì)應(yīng)于間隔3,探針間隔處16對(duì)應(yīng)于配向膜周邊部分6的環(huán)形結(jié)構(gòu)。 步驟1023、對(duì)彩膜配向膜液態(tài)材料進(jìn)行加熱處理,形成彩膜基板配向膜。具體地,可將圖9中放置有干渉板的彩膜基板結(jié)構(gòu)放入烘烤設(shè)備,并對(duì)放置有干涉板的彩膜基板結(jié)構(gòu)進(jìn)行烘烤加熱,烘烤加熱的過程可使得彩膜配向膜液態(tài)材料固定成型,從而形成彩膜基板配向膜。步驟1024、將干涉板和彩膜基板結(jié)構(gòu)分離。將干涉板和彩膜基板結(jié)構(gòu)4分離,即形成了如圖2所示的彩膜基板。本實(shí)施例提供的彩膜基板的制造方法可用于制造上述實(shí)施例ニ中的彩膜基板。采用本實(shí)施例提供的彩膜基板的制造方法制造出的彩膜基板中,配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于配向膜的鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘接力的基礎(chǔ)上減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的距離,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的寬度。圖10為本發(fā)明實(shí)施例六提供的一種陣列基板的制造方法的流程圖,如圖10所示,該陣列基板的制造方法包括步驟201、形成陣列基板結(jié)構(gòu)。對(duì)陣列基板結(jié)構(gòu)的具體描述可實(shí)施例三中的描述,本實(shí)施例中可采用液晶顯示器制造領(lǐng)域的構(gòu)圖エ藝形成陣列基板結(jié)構(gòu)。步驟202、在陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列基板配向膜,陣列基板配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,配向膜周邊部分形成于顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)。本實(shí)施例中,步驟202具體可包括步驟2021、在陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列配向膜液態(tài)材料。圖11為在陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列配向膜液態(tài)材料的示意圖,如圖11所示,在陣列基板結(jié)構(gòu)7上形成陣列配向膜液態(tài)材料17,具體地,可在陣列基板結(jié)構(gòu)7上印刷陣列配向膜液態(tài)材料17。陣列配向膜液態(tài)材料17同時(shí)形成于顯示區(qū)域和周邊區(qū)域。步驟2022、將干涉板放置于所述陣列基板結(jié)構(gòu)上,干渉板包括基底和設(shè)置于基底上的間隔探針,間隔探針與陣列基板結(jié)構(gòu)接觸位于周邊區(qū)域中,間隔探針用于使配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)。如圖7和圖8所不,干涉板包括基底14和設(shè)直于基底14上的間隔探針15。當(dāng)將干涉板放置于陣列基板結(jié)構(gòu)上時(shí),間隔探針15位于周邊區(qū)域中,即間隔探針15的位置與周邊區(qū)域的位置對(duì)應(yīng)。間隔探針15的結(jié)構(gòu)與配向膜周邊部分的結(jié)構(gòu)是對(duì)應(yīng)的,其用于使配向膜周邊部分間隔形成于周邊區(qū)域,因此間隔探針15之間具備一定的間隔距離,即間隔探針15之間形成有探針間隔處16。優(yōu)選地,間隔探針15為環(huán)形探針。例如該環(huán)形探針可以為方環(huán)探針或者圓環(huán)探針,本實(shí)施例中,間隔探針15為圓環(huán)探針。在實(shí)際應(yīng)用中,若陣列基板的配向膜周邊部分6采用了其它的結(jié)構(gòu),相應(yīng)地,間隔探針15也改為可采用相應(yīng)的結(jié)構(gòu)。干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意組合。為保證間隔探針15與陣列配向膜液態(tài)材料13接觸時(shí)彼此之間具備很好的分離性,需要間隔探針15的表面具有疏水性。具體地,可對(duì)干涉板進(jìn)行紫外光照射處理、激光處理或者等離子體處理,從而使得間隔探針15具有疏水性。
      圖12為將干涉板放置于陣列基板結(jié)構(gòu)上的示意圖,如圖12所示,將干涉板沿垂直于陣列基板結(jié)構(gòu)7上表面的方向向下移動(dòng),直至間隔探針15與陣列基板結(jié)構(gòu)7的上表面接觸,從而完成了將干涉板放置于陣列基板結(jié)構(gòu)7上的過程。在將干涉板放置于陣列基板結(jié)構(gòu)7時(shí),為提高干涉板和陣列基板結(jié)構(gòu)7的對(duì)位精度,可在干涉板和陣列基板結(jié)構(gòu)7上分別設(shè)置對(duì)位標(biāo)記,并通過對(duì)位標(biāo)記將干涉板放置于陣列基板結(jié)構(gòu)7上,優(yōu)選地對(duì)位精度為O. 1mm。其中,在形成陣列配向膜的過程中,間隔探針15對(duì)應(yīng)于間隔3,探針間隔處16對(duì)應(yīng)于配向膜周邊部分9的環(huán)形部分。步驟2023、對(duì)陣列配向膜液態(tài)材料進(jìn)行加熱處理,形成陣列基板配向膜。具體地,可將圖12中放置有干涉板的陣列基板結(jié)構(gòu)放入烘烤設(shè)備,并對(duì)放置有干涉板的陣列基板結(jié)構(gòu)進(jìn)行烘烤加熱,烘烤加熱的過程可使得陣列配向膜液態(tài)材料固定成型,從而形成陣列基板配向膜。步驟2024、將干涉板和陣列基板結(jié)構(gòu)分離。將干涉板和陣列基板結(jié)構(gòu)7分離,即形成了如圖3所示的陣列基板。本實(shí)施例提供的陣列基板的制造方法可用于制造上述實(shí)施例三中的陣列基板。采用本實(shí)施例提供的陣列基板的制造方法制造出的陣列基板中,配向膜周邊部分具有結(jié)構(gòu),使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于配向膜的鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘接力的基礎(chǔ)上減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的距離,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的寬度。本發(fā)明實(shí)施例七提供了液晶顯示裝置的制造方法,該方法包括步驟301、制備彩膜基板和陣列基板。本實(shí)施例中,彩膜基板可采用實(shí)施例五提供的彩膜基板的制造方法制備出和/或陣列基板采用實(shí)施例六提供的陣列基板的制造方法制備出,此處不再贅述。步驟302、將彩膜基板和陣列基板相對(duì)設(shè)置。步驟303、在彩膜基板和陣列基板之間填充液晶層。步驟304、在彩膜基板的配向膜周邊部分和陣列基板的配向膜周邊部分之間形成封框膠。封框膠位于彩膜基板的配向膜周邊部分和陣列基板的配向膜周邊部分之間。當(dāng)彩膜基板采用上述實(shí)施例五提供的制造方法制備出時(shí),封框膠填充于彩膜基板的配向膜周邊部分的間隔;當(dāng)陣列基板采用上述實(shí)施例六中的陣列基板制備出時(shí),封框膠填充于陣列基板配向膜周邊部分的間隔。本實(shí)施例提供的液晶顯示裝置的制造方法可用于制造上述實(shí)施例四提供的液晶顯示裝置。采用本實(shí)施例提供的液晶顯示裝置的制造方法制造出的液晶顯示裝置中,彩膜基板的配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)和/或陣列基板的配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于配向膜的鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和/或陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘 接力的基礎(chǔ)上減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的距離,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的寬度。本發(fā)明的技術(shù)方案中突破了現(xiàn)有技術(shù)中配向膜制成工藝精度的限制,實(shí)現(xiàn)了液晶顯示裝置的窄邊框的設(shè)計(jì)??梢岳斫獾氖牵陨蠈?shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式,然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言,在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下,可以做出各種變型和改進(jìn),這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
      權(quán)利要求
      1.一種配向膜,包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,所述配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,其特征在于,所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的配向膜,其特征在于,所述配向膜周邊部分包括多個(gè)環(huán)形結(jié)構(gòu),所述鏤空結(jié)構(gòu)為相鄰所述環(huán)形結(jié)構(gòu)之間的間隔。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的配向膜,其特征在于,所述環(huán)形結(jié)構(gòu)之間間隔的寬度大于O.05mm 且小于 O. 3mm。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的配向膜,其特征在于,與所述配向膜中間部分相連接的配向膜周邊部分的寬度大于或等于O. 1_。
      5.一種彩膜基板,其特征在于,包括彩膜基板結(jié)構(gòu)和形成于所述彩膜基板結(jié)構(gòu)之上 的彩膜基板配向膜,所述彩膜基板配向膜采用上述權(quán)利要求I至4任一所述的配向膜。
      6.一種陣列基板,其特征在于,包括陣列基板結(jié)構(gòu)和形成于所述陣列基板結(jié)構(gòu)之上的陣列基板配向膜,所述陣列基板配向膜采用上述權(quán)利要求I至4任一所述的配向膜。
      7.一種液晶顯示裝置,包括彩膜基板和陣列基板,所述彩膜基板和所述陣列基板相對(duì)設(shè)置,所述彩膜基板和所述陣列基板之間填充有液晶層,所述彩膜基板和所述陣列基板之間還形成有封框膠,其特征在于, 所述彩膜基板采用如上述權(quán)利要求5所述的彩膜基板,和/或所述陣列基板采用如上述權(quán)利要求6所述的陣列基板。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置,其特征在于,所述封框膠的內(nèi)側(cè)邊緣與顯示區(qū)域邊緣的距離大于或等于O. 1mm。
      9.一種彩膜基板的制造方法,其特征在于,包括 形成彩膜基板結(jié)構(gòu); 在所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜基板配向膜,所述彩膜基板配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,所述配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造方法,其特征在于,在所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜基板配向膜包括 在所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上形成彩膜配向膜液態(tài)材料; 將干涉板放置于所述彩膜基板結(jié)構(gòu)上,所述干涉板包括基底和設(shè)置于所述基底上的間隔探針,所述間隔探針與所述彩膜基板結(jié)構(gòu)接觸并位于所述周邊區(qū)域中,所述間隔探針用于使所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu); 對(duì)所述彩膜配向膜液態(tài)材料進(jìn)行加熱處理,形成所述彩膜基板配向膜; 將所述干涉板和所述彩膜基板結(jié)構(gòu)分離。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制造方法,其特征在于,所述間隔探針為環(huán)形探針。
      12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制造方法,其特征在于,所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意組合。
      13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制造方法,其特征在于,所述間隔探針的表面具有疏水性。
      14.一種陣列基板的制造方法,其特征在于,包括 形成陣列基板結(jié)構(gòu);在所述陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列基板配向膜,所述陣列基板配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,所述配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域,所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu)。
      15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制造方法,其特征在于,在所述陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列基板配向膜包括 在所述陣列基板結(jié)構(gòu)上形成陣列配向膜液態(tài)材料; 將干涉板放置于所述陣列基板結(jié)構(gòu)上,所述干涉板包括基底和設(shè)置于所述基底上的間隔探針,所述間隔探針與所述陣列基板結(jié)構(gòu)接觸并與所述周邊區(qū)域的位置對(duì)應(yīng),所述間隔探針用于使所述配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu); 對(duì)所述陣列配向膜液態(tài)材料進(jìn)行加熱處理,形成所述陣列基板配向膜; 將所述干涉板和所述陣列基板結(jié)構(gòu)分離。
      16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造方法,其特征在于,所述間隔探針為環(huán)形探針。
      17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造方法,其特征在于,所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意組合。
      18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造方法,其特征在于,所述間隔探針的表面具有疏水性。
      19.一種液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,包括 制備彩膜基板和陣列基板,所述彩膜基板采用權(quán)利要求9至13任一所述的彩膜基板的制造方法制備和/或所述陣列基板采用權(quán)利要求14至18任一所述的陣列基板的制造方法制備; 將所述彩膜基板和所述陣列基板相對(duì)設(shè)置; 在所述彩膜基板和所述陣列基板之間填充液晶層; 在所述彩膜基板的配向膜周邊部分和所述陣列基板的配向膜周邊部分之間形成封框膠。
      全文摘要
      本發(fā)明公開了一種配向膜、彩膜基板、陣列基板、液晶顯示裝置及制造方法。該配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分,所述配向膜中間部分形成于顯示區(qū)域,所述配向膜周邊部分間隔形成于所述顯示區(qū)域周邊的周邊區(qū)域。本發(fā)明中,配向膜周邊部分具有鏤空結(jié)構(gòu),使得封框膠可形成于彩膜基板配向膜和陣列基板配向膜之間,并填充于鏤空結(jié)構(gòu)中,使封框膠部分與彩膜基板結(jié)構(gòu)和/或陣列基板結(jié)構(gòu)接觸,在滿足粘接力的前提下減小了封框膠與顯示區(qū)域之間的距離,從而減小了封框膠涂布區(qū)域的寬度。
      文檔編號(hào)H01L21/77GK102854663SQ20121037210
      公開日2013年1月2日 申請(qǐng)日期2012年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月28日
      發(fā)明者王輝, 郭磊, 王春, 葉訢, 秦鋒 申請(qǐng)人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
      1