專利名稱：一種上轉位裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及鏈式清洗、刻蝕設備，尤其是涉及一種鏈式濕法刻蝕設備的上轉位裝置。
背景技術：
現有鏈式濕法刻蝕設備通常采用傳動桿轉動來帶動硅片朝前運動，但是，以前鏈式濕法刻蝕設備的結構設置使得硅片不能旋轉，導致硅片邊緣刻蝕不均勻，從而影響硅片的質量。為了解決這ー問題，現有采用下旋轉的方式讓硅片旋轉一定角度來提升硅片刻蝕均勻性。如圖2所示。現有鏈式濕法刻蝕設備的下旋轉裝置包括可升降的旋轉軸81和位于旋轉軸81前端的吸盤82。工作吋，旋轉軸81上升，吸盤82吸附位于傳動桿83上的硅片84，然后旋轉軸81再旋轉，從而保證傳動桿83上的硅片84回轉一定的角度。該種方式雖然也能實現硅片旋轉，但是，由于吸盤直接與硅片接觸，因此，吸盤內的凝結水污染硅片，從*而影響硅片的質量。

實用新型內容本實用新型為了解決現有技術鏈式濕法刻蝕設備采用下旋轉的方式讓硅片旋轉一定角度，吸盤直接與硅片接觸，吸盤內的凝結水污染硅片，從而影響硅片的質量的技術問題，提供了一種上轉位裝置。為解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案為設計一種上轉位裝置，所述上轉位裝置包括可旋轉的旋轉軸、設于旋轉軸底端且可隨所述旋轉軸旋轉的非接觸吸盤、與所述旋轉軸固定連接且設于非接觸吸盤兩側的吸盤固定桿和設于吸盤固定桿底端且與所述非接觸吸盤錯開通氣的輔助吸盤，所述非接觸吸盤的底端高于所述輔助吸盤的底端。所述吸盤固定桿為空心桿，且與所述輔助吸盤相通，所述空心桿的頂端連接有用于進氣的進氣管。本實用新型通過設置非接觸吸盤和輔助吸盤，吸附時，利用非接觸吸盤產生的吸力吸附硅片，并利用輔助吸盤支撐吸附的硅片，然后通過旋轉軸的旋轉帶動硅片旋轉。由于輔助吸盤的底端低于非接觸吸盤的底端，因此，硅片不與非接觸吸盤接觸，而只與輔助吸盤接觸，而由于輔助吸盤與非接觸吸盤錯開通氣，從而在不吸附吋，輔助吸盤通氣，可防止輔助吸盤內凝結水，避免輔助吸盤與硅片直接接觸時對硅片的污染，提高了硅片的質量。

下面結合實施例和附圖對本實用新型進行詳細說明，其中圖I是本實用新型上轉位裝置的結構示意圖；圖2是現有技術下轉位裝置的結構示意圖。
具體實施方式
[0010]請參見圖I。本實用新型上轉位裝置包括旋轉軸I、非接觸吸盤2、吸盤固定桿3和輔助吸盤4。其中旋轉軸I主要用于旋轉，以帶動非接觸吸盤和硅片5旋轉。硅片5置于傳動桿6上方。非接觸吸盤2設于旋轉軸底端且可隨所述旋轉軸旋轉，其主要用于產生吸力吸附硅片5。吸盤固定桿3與所述旋轉軸固定連接且設于非接觸吸盤兩側，主要用干支撐。在本具體實施例中，吸盤固定桿為空心桿，且與所述輔助吸盤相通，所述空心桿的頂端連接有用于進氣的進氣管。輔助吸盤4設于吸盤固定桿底端且與所述非接觸吸盤錯開通氣的，所述非接觸吸盤的底端高于所述輔助吸盤的底端。本實用新型的工作原理為第一歩當硅片5運行到上轉位裝置下方時，吸盤固定桿3的頂端進氣通過輔助吸盤吹出，以保證輔助吸盤的干燥；第二歩非接觸吸盤2通氣，產生吸力將硅片5吸上，由輔助吸盤4支撐硅片。此時，輔助吸盤不通氣； 第三步旋轉軸I旋轉帶動非接觸吸盤2和輔助吸盤4旋轉，從而帶動硅片5旋轉；第四歩停止非接觸吸盤2通氣，同時使輔助吸盤通氣，放下硅片5于傳動桿6上。從而完成硅片的旋轉。在本實用新型中采用了上吸式、非接觸吸盤使硅片旋轉，解決刻蝕均勻性問題，同時在不吸片的過程中，在負責支撐硅片的輔助吸盤4中通入空氣，有效防止輔助吸盤內凝結水污染硅片，且由于整個上轉位裝置設置在傳動桿的上方，裝配、維修較為方便。本實用新型通過設置非接觸吸盤和輔助吸盤，吸附時，利用非接觸吸盤產生的吸力吸附硅片，并利用輔助吸盤支撐吸附的硅片，然后通過旋轉軸的旋轉帶動硅片旋轉。由于輔助吸盤的底端低于非接觸吸盤的底端，因此，硅片不與非接觸吸盤接觸，而只與輔助吸盤接觸，而由于輔助吸盤與非接觸吸盤錯開通氣，從而在不吸附吋，輔助吸盤通氣，可防止輔助吸盤內凝結水，避免輔助吸盤與硅片直接接觸時對硅片的污染，提高了硅片的質量。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
權利要求1.一種上轉位裝置，其特征在于所述上轉位裝置包括可旋轉的旋轉軸、設于旋轉軸底端且可隨所述旋轉軸旋轉的非接觸吸盤、與所述旋轉軸固定連接且設于非接觸吸盤兩側的吸盤固定桿和設于吸盤固定桿底端且與所述非接觸吸盤錯開通氣的輔助吸盤，所述非接觸吸盤的底端高于所述輔助吸盤的底端。
2.根據權利要求I所述的上轉位裝置，其特征在于所述吸盤固定桿為空心桿，且與所述輔助吸盤相通，所述空心桿的頂端連接有用于進氣的進氣管。
專利摘要本實用新型公開了一種上轉位裝置，旨在提供一種可旋轉硅片且不會因吸盤內的凝結水污染硅片的轉位裝置，所述上轉位裝置包括可旋轉的旋轉軸、設于旋轉軸底端且可隨所述旋轉軸旋轉的非接觸吸盤、與所述旋轉軸固定連接且設于非接觸吸盤兩側的吸盤固定桿和設于吸盤固定桿底端且與所述非接觸吸盤錯開通氣的輔助吸盤，所述非接觸吸盤的底端高于所述輔助吸盤的底端。本實用新型可用于鏈式清洗、刻蝕設備。
文檔編號H01L21/683GK202434488SQ201220015379
公開日2012年9月12日 申請日期2012年1月13日 優(yōu)先權日2012年1月13日
發(fā)明者磨建新, 謝鑫 申請人:深圳市捷佳偉創(chuàng)新能源裝備股份有限公司