專利名稱：發(fā)光按鍵及其鍵盤的制作方法
發(fā)光按鍵及其鍵盤技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種按鍵及其鍵盤，尤指一種發(fā)光按鍵及其鍵盤。
背景技術(shù)：
就目前個人電腦的使用習(xí)慣而言,鍵盤為不可或缺的輸入設(shè)備之一,用以輸入文 字、符號或數(shù)字。近來，隨著電子產(chǎn)品小型化的發(fā)展趨勢，鍵盤皆朝向輕、薄、短、小的方向發(fā) 展。然而，習(xí)知的鍵盤具有鍵帽、剪刀腳、彈性件等元件，其具有一定的體積而不利于產(chǎn)品小 型化的發(fā)展趨勢。除此之外，隨著消費者對視覺訴求以及操作手感的要求日益提升，一種可 于使用時發(fā)光并具有操作手感的鍵盤亦為業(yè)界新的發(fā)展方向之一，因此如何設(shè)計出同時具 有發(fā)光功能與操作手感的薄型化發(fā)光鍵盤便成為設(shè)計人員所需挑戰(zhàn)的課題。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種發(fā)光按鍵及其鍵盤，以解決上述的問題。
本發(fā)明揭露一種發(fā)光按鍵，其包含發(fā)光底板、支撐架、第一磁吸單元、鍵帽以及第 二磁吸單元。該支撐架設(shè)置于該發(fā)光底板上；該第一磁吸單元設(shè)置于該支撐架；該鍵帽以 可活動方式設(shè)置于該支撐架內(nèi)，該鍵帽具有透光區(qū)域與非透光區(qū)域，該發(fā)光底板所輸出的 背光光線經(jīng)由該透光區(qū)域透出該鍵帽；該第二磁吸單元設(shè)置于該鍵帽的該非透光區(qū)域，該 第一磁吸單元與該第二磁吸單元產(chǎn)生磁力，用以驅(qū)動該鍵帽分離該發(fā)光底板且貼附在該支 撐架上。
作為可選的技術(shù)方案，該發(fā)光底板包含光源與導(dǎo)光板，該光源設(shè)置于該導(dǎo)光板的 水平側(cè)，該光源發(fā)出光源光線，該光源光線進(jìn)入該導(dǎo)光板后轉(zhuǎn)換為該背光光線。
作為可選的技術(shù)方案，該支撐架具有限位部，該限位部與該發(fā)光底板之間形成容 置空間，該鍵帽的該非透光區(qū)域和該支撐架密合，使得該背光光線被局限在該容置空間內(nèi)。
作為可選的技術(shù)方案，該發(fā)光底板包含基座與導(dǎo)光模組，該導(dǎo)光模組鋪設(shè)于該基 座的表面。
作為可選的技術(shù)方案，該透光區(qū)域為形成于該鍵帽表面的破孔；或者該透光區(qū)域 為該鍵帽由透明材質(zhì)所組成的區(qū)塊。
作為可選的技術(shù)方案，該發(fā)光按鍵另包含薄膜電路板，設(shè)置于該發(fā)光底板上，該薄 膜電路板與該支撐件以一體成型方式設(shè)置于該發(fā)光底板。
根據(jù)另一具體實施方式
，本發(fā)明提供一種具發(fā)光功能的鍵盤，其包含復(fù)數(shù)個上述 的發(fā)光按鍵。
根據(jù)另一具體實施方式
，本發(fā)明提供一種發(fā)光按鍵，其包含發(fā)光底板、支撐架、第 一磁吸元件、第二磁吸元件、鍵帽、第三磁吸元件以及第四磁吸元件。該支撐架設(shè)置于該發(fā) 光底板上，該支撐架具有開孔，該開孔具有第一輪廓的內(nèi)側(cè)壁，該內(nèi)側(cè)壁沿著預(yù)設(shè)方向線性 延伸，該內(nèi)側(cè)壁具有第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，該第一側(cè)壁和該第二側(cè)壁為不相鄰的相對兩側(cè)； 該第一磁吸元件設(shè)置于鄰近該第一側(cè)壁的上端處；該第二磁吸元件設(shè)置于鄰近該第二側(cè)壁的上端處；該鍵帽具有鍵帽上部和鍵帽底部，該鍵帽上部具有透光區(qū)域，該發(fā)光底板所輸出 的背光光線經(jīng)由該透光區(qū)域透出該鍵帽，該鍵帽底部具有第二輪廓的外側(cè)壁，該外側(cè)壁具 有第三側(cè)壁和第四側(cè)壁，該第三側(cè)壁和該第四側(cè)壁分別對應(yīng)于該第一側(cè)壁和該第二側(cè)壁； 該第三磁吸元件設(shè)置于鄰近該第三側(cè)壁處，該第一磁吸元件與該第三磁吸元件產(chǎn)生第一磁 性吸附力；該第四磁吸元件設(shè)置于鄰近該第四側(cè)壁處，該第二磁吸元件與該第四磁吸元件 產(chǎn)生第二磁性吸附力；其中該第二輪廓吻合該第一輪廓，且該第二輪廓小于該第一輪廓，使 得該鍵帽沿著該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動時，該鍵帽底部和該支撐架間不會發(fā)生干 涉；其中該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力從不相鄰兩側(cè)吸引該鍵帽，用以驅(qū)動該鍵 帽上升，進(jìn)而使該鍵帽上部穿出該開孔。
作為可選的技術(shù)方案，該支撐架更具有限位部，該限位部與該發(fā)光底板之間形成 容置空間，該限位部用來限制該鍵帽底部脫離該容置空間。
作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽上部和該限位部間具有預(yù)留間隙，使得該鍵帽沿著 該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動時，該鍵帽上部和該限位部間不會發(fā)生干涉。
作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽底部為非透光材質(zhì)，該鍵帽底部和該支撐架密合，使 得該背光光線被局限在該容置空間內(nèi)。
作為可選的技術(shù)方案，該第一磁吸元件與該第三磁吸元件沿著該預(yù)設(shè)方向相鄰設(shè) 置以產(chǎn)生該第一磁性吸附力。
作為可選的技術(shù)方案，該第三磁吸元件與該第四磁吸元件以環(huán)繞方式設(shè)置于該鍵 帽底部。
根據(jù)另一具體實施方式
，本發(fā)明提供一種發(fā)光按鍵，其包含發(fā)光底板、支撐架、第 一磁吸元件、第二磁吸元件、鍵帽、第三磁吸元件以及第四磁吸元件。該支撐架設(shè)置于該發(fā) 光底板上，該支撐架具有開孔和限位部，該開孔具有第一輪廓的內(nèi)側(cè)壁，該內(nèi)側(cè)壁沿著預(yù)設(shè) 方向線性延伸，該內(nèi)側(cè)壁具有第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，該第一側(cè)壁和該第二側(cè)壁為不相鄰的 相對兩側(cè)，該限位部與該發(fā)光底板之間形成容置空間；該第一磁吸元件設(shè)置于鄰近該第一 側(cè)壁的上端處；該第二磁吸元件設(shè)置于鄰近該第二側(cè)壁的上端處；該鍵帽具有鍵帽上部和 鍵帽底部，該鍵帽上部具有透光區(qū)域，該發(fā)光底板所輸出的背光光線經(jīng)由該透光區(qū)域透出 該鍵帽，該鍵帽底部具有第二輪廓的外側(cè)壁，該外側(cè)壁具有第三側(cè)壁和第四側(cè)壁，該第三側(cè) 壁和該第四側(cè)壁分別對應(yīng)于該第一側(cè)壁和該第二側(cè)壁，且該鍵帽底部受到該限位部限制而 無法脫離該容置空間；該第三磁吸元件設(shè)置于鄰近該第三側(cè)壁處，該第一磁吸元件與該第 三磁吸元件產(chǎn)生第一磁性吸附力；該第四磁吸元件設(shè)置于鄰近該第四側(cè)壁處，該第二磁吸 元件與該第四磁吸元件產(chǎn)生第二磁性吸附力，其中該容置空間具有垂直高度與水平寬度， 該垂直高度與該水平寬度的比值小于O. 3，如此該鍵帽在該容置空間內(nèi)所能具有的傾斜角 度的最大值小于17度；其中該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力從不相鄰兩側(cè)吸引該 鍵帽，用以驅(qū)動該鍵帽上升，進(jìn)而使該鍵帽上部穿出該開孔。
作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽被按壓以沿著該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動的 行程接近且小于該容置空間的該垂直高度，且該容置空間的該水平寬度接近且小于該鍵帽 底部的表面寬度。
作為可選的技術(shù)方案，該垂直高度與該水平寬度比值小于O. 05，該鍵帽在該容置 空間內(nèi)所能具有的傾斜角度的最大值小于3度。
作為可選的技術(shù)方案，該第二輪廓吻合該第一輪廓，且該第二輪廓小于該第一輪 廓，使得該鍵帽沿著該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動時，該鍵帽底部和該支撐架間不會 發(fā)生干涉。
作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽上部和該限位部間具有預(yù)留間隙，使得該鍵帽沿著 該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動時，該鍵帽上部和該限位部間不會發(fā)生干涉。
作為可選的技術(shù)方案，該第一磁吸元件與該第三磁吸元件沿著該預(yù)設(shè)方向相鄰設(shè) 置以產(chǎn)生該第一磁性吸附力。
作為可選的技術(shù)方案，該鍵帽底部為非透光材質(zhì)，當(dāng)該鍵帽底部抵接于該限位部 時，該鍵帽底部和該支撐架密合，使得該背光光線被局限在該容置空間內(nèi)。
作為可選的技術(shù)方案，該第三磁吸元件與該第四磁吸元件以環(huán)繞方式設(shè)置于該鍵 帽底部。
本發(fā)明的發(fā)光按鍵及其鍵盤使用發(fā)光底板弓I入背光光線，并搭配具有透光區(qū)域的 鍵帽，以將背光光線自發(fā)光底板導(dǎo)向鍵帽而改善按鍵的視覺效果。本發(fā)明的發(fā)光按鍵利用 磁吸單元(磁吸元件)作為驅(qū)動鍵帽復(fù)位的機(jī)制，因此可大幅縮減發(fā)光按鍵的結(jié)構(gòu)厚度，使 發(fā)光按鍵同時保有較佳的操作手感與亮麗的外觀設(shè)計，并可應(yīng)用在薄型鍵盤，提升產(chǎn)品的 市場競爭力。
關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點與精神可以藉由以下的發(fā)明詳述及所附圖得到進(jìn)一步的了解。


圖1為本發(fā)明實施例的鍵盤的示意圖。
圖2為本發(fā)明第一實施例的發(fā)光按鍵的示意圖。
圖3與圖4分別為本發(fā)明不同實施例的發(fā)光底板的示意圖。
圖5為本發(fā)明第二實施例的發(fā)光按鍵的示意圖。
圖6為本發(fā)明實施例的鍵帽的示意圖。
圖7為本發(fā)明第三實施例的發(fā)光按鍵的示意圖。
具體實施方式
請參閱圖1，圖1為本發(fā)明實施例的鍵盤10的示意圖。鍵盤10包含有發(fā)光底板 12以及復(fù)數(shù)個發(fā)光按鍵14，復(fù)數(shù)個發(fā)光按鍵14分別設(shè)置在發(fā)光底板12上的不同位置處， 使得鍵盤10具有發(fā)光效果。請參閱圖2，圖2為本發(fā)明第一實施例的發(fā)光按鍵14的示意 圖。發(fā)光按鍵14包含支撐架16、第一磁吸單元18、鍵帽20以及第二磁吸單元22。支撐架 16可選擇以一體成型方式或可拆卸方式設(shè)置于發(fā)光底板12。第一磁吸單兀18固定在支撐 架16上。鍵帽20以可活動方式設(shè)置于支撐架16內(nèi)。鍵帽20具有透光區(qū)域24與非透光 區(qū)域26，發(fā)光底板12所輸出的背光光線經(jīng)由透光區(qū)域24透出鍵帽20。第二磁吸單元22 設(shè)置于鍵帽20的非透光區(qū)域26，第一磁吸單元18與第二磁吸單元22產(chǎn)生磁吸力，用以驅(qū) 動鍵帽20相對底板12遠(yuǎn)離且貼附在支撐架16上。
支撐架16具有至少一個限位部28，限位部28與發(fā)光底板12之間可形成容置空間 30。當(dāng)鍵帽20貼附在支撐架16時，鍵帽20的非透光區(qū)域26和支撐架16的限位部28可 實質(zhì)密合，使得背光光線被局限在容置空間30內(nèi)，背光光線僅經(jīng)由透光區(qū)域24而透出發(fā)光按鍵14。其中，鍵帽20的表面可形成破孔201以作為透光區(qū)域24，或者破孔201可由透明 材質(zhì)填充而形成透光區(qū)域24。發(fā)光按鍵14另可包含薄膜電路板32。薄膜電路板32可為 設(shè)置在發(fā)光底板12的獨立元件，或者薄膜電路板32還可以一體成型方式設(shè)置在發(fā)光底板12。鍵帽20被按壓時，鍵帽20底部的致動件(未示于圖中)可碰觸薄膜電路板32的連接 端子，藉以觸發(fā)薄膜電路板32發(fā)出訊號。
請參閱圖3與圖4，圖3與圖4分別為本發(fā)明不同實施例的發(fā)光底板12的示意圖。 如圖3所不,發(fā)光底板12可包含光源34以及導(dǎo)光板36。光源34設(shè)置在導(dǎo)光板36的水平 側(cè)。光源34發(fā)出光源光線,光源光線進(jìn)入導(dǎo)光板36后經(jīng)由全反射破壞自導(dǎo)光板36的出光 面透出導(dǎo)光板36而轉(zhuǎn)換為背光光線。如圖4所發(fā)光底板12另可包含基座38以及導(dǎo)光 模組40?；?8為承載座，承載座的表面用以承載具有發(fā)光功能的導(dǎo)光模組40，以形成可 提供光線的發(fā)光底板12。然而發(fā)光底板12的形式可不限于上述實施例所述，端視設(shè)計需求 而定。
請參閱圖5，圖5為本發(fā)明第二實施例的發(fā)光按鍵14’的示意圖。第二實施例中， 與第一實施例相同編號的元件具有相同的結(jié)構(gòu)及功能，于此不再詳述。第二實施例與第一 實施例的差異在于，發(fā)光按鍵14’另包含第一磁吸兀件42、第二磁吸兀件44、至少一第三磁 吸元件46以及至少一第四磁吸元件48。發(fā)光按鍵14’的支撐架16具有開孔50。支撐架 16具有第一輪廓的內(nèi)側(cè)壁161，內(nèi)側(cè)壁161沿著預(yù)設(shè)方向D線性延伸，且內(nèi)側(cè)壁161具有第 一側(cè)壁162和第二側(cè)壁163。發(fā)光按鍵14’的鍵帽20具有鍵帽上部52和鍵帽底部54。透 光區(qū)域24形成于鍵帽上部52。鍵帽底部54具有至少一個致動部件(因視角限制未示于圖 中)和第二輪廓的外側(cè)壁541。外側(cè)壁541具有第三側(cè)壁542和第四側(cè)壁543，且第三側(cè)壁 542與第四側(cè)壁543分別對應(yīng)第一側(cè)壁162及第二側(cè)壁163。
第一磁吸元件42設(shè)置于鄰近第一側(cè)壁162的上端處，第二磁吸元件44設(shè)置于鄰 近第二側(cè)壁163的上端處。第三磁吸元件46設(shè)置于鄰近第三側(cè)壁542的位置，且第一磁吸 元件42與第三磁吸元件46沿著預(yù)設(shè)方向D相鄰設(shè)置以產(chǎn)生第一磁性吸附力。第四磁吸元 件48設(shè)置于鄰近第四側(cè)壁543的位置，且第二磁吸元件44與第四磁吸元件48沿著預(yù)設(shè)方 向D相鄰設(shè)置以產(chǎn)生第二磁性吸附力。第一磁性吸附力和第二磁性吸附力分別用來帶動鍵 帽20復(fù)位，使得鍵帽20可平穩(wěn)地相對發(fā)光底板12移動。再者，外側(cè)壁541的第二輪廓實 質(zhì)吻合內(nèi)側(cè)壁161的第一輪廓，且外側(cè)壁541的第二輪廓小于且較佳地略小于內(nèi)側(cè)壁161 的第一輪廓，因此兩磁性吸附力可從不相鄰兩側(cè)吸引鍵帽20，驅(qū)動鍵帽20沿著預(yù)設(shè)方向D 相對底板12運動，使得鍵帽上部52可穿出開孔50，且鍵帽底部54和支撐架16之間不會發(fā) 生干涉。
鍵帽上部52和限位部28之間具有預(yù)留空隙I，因此鍵帽20被外力按壓、或被第一 磁性吸附力與第二磁性吸附力吸引向上運動時，鍵帽上部52和限位部28不會發(fā)生結(jié)構(gòu)干 涉。雖然鍵帽底部54為非透光材質(zhì)組成，但鍵帽底部54可挖出穿孔(因視角限制未標(biāo)于 圖中)，使得發(fā)光底板12可將背光光線經(jīng)由穿孔導(dǎo)往鍵帽上部52的透光區(qū)域24。鍵帽底 部54的尺寸實質(zhì)密合支撐架16，因此背光光線可被局限在容置空間30而不外露。此外，請 參閱圖6，圖6為本發(fā)明實施例的鍵帽20的示意圖。第三磁吸元件46與第四磁吸元件48 可為小面積元件，故發(fā)光按鍵14’包含多個第三磁吸元件46及第四磁吸元件48，分別以環(huán) 繞方式設(shè)置于鍵帽底部54，以配合相應(yīng)的第一磁吸元件42與第二磁吸元件44產(chǎn)生磁性吸附力。
請參閱圖7，圖7為本發(fā)明第三實施例的發(fā)光按鍵14”的示意圖。第三實施例中， 與前述實施例相同編號的元件具有相同的結(jié)構(gòu)及功能，于此不再詳述。第三實施例與前述 實施例的差異在于，發(fā)光按鍵14”的容置空間30具有垂直高度H與水平寬度W。垂直高度 H與水平寬度W的比值可實質(zhì)小于O. 3，使得鍵帽20在容置空間30內(nèi)的最大傾斜角度可實 質(zhì)小于17度。其中，鍵帽20被按壓而相對發(fā)光底板12向下移動(平行于預(yù)設(shè)方向D)的 運動行程實質(zhì)接近垂直高度H，且鍵帽底部54的表面寬度實質(zhì)接近且小于水平寬度W。
如此一來，發(fā)光按鍵14”雖使用磁吸元件提供鍵帽20復(fù)位的驅(qū)動力，鍵帽20未有 實體的支撐機(jī)構(gòu)，但藉由容置空間30的尺寸設(shè)計仍可確保鍵帽20在按壓過程中不會過度 傾斜。欲進(jìn)一步將發(fā)光按鍵14”應(yīng)用在薄型鍵盤，可將垂直高度H與水平寬度W的比值設(shè) 計為實質(zhì)小于O. 05，如此鍵帽20在容置空間46內(nèi)的最大傾斜角度則會實質(zhì)小于3度，以避 免鍵帽20在按壓過程有過大的傾斜翻轉(zhuǎn)，進(jìn)而可提高發(fā)光按鍵14”的操作手感。
綜上所述，本發(fā)明的發(fā)光按鍵及其鍵盤使用發(fā)光底板引入背光光線，并搭配具有 透光區(qū)域的鍵帽，以將背光光線自發(fā)光底板導(dǎo)向鍵帽而改善按鍵的視覺效果。本發(fā)明的發(fā) 光按鍵利用磁吸單元(磁吸元件)作為驅(qū)動鍵帽復(fù)位的機(jī)制，因此可大幅縮減發(fā)光按鍵的 結(jié)構(gòu)厚度，使發(fā)光按鍵同時保有較佳的操作手感與亮麗的外觀設(shè)計，并可應(yīng)用在薄型鍵盤， 提升產(chǎn)品的市場競爭力。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明權(quán)利要求所做的均等變化與修 飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光按鍵，其特征在于包含發(fā)光底板；支撐架，設(shè)置于該發(fā)光底板上；第一磁吸單元，設(shè)置于該支撐架；鍵帽，以可活動方式設(shè)置于該支撐架內(nèi)，該鍵帽具有透光區(qū)域與非透光區(qū)域，該發(fā)光底板所輸出的背光光線經(jīng)由該透光區(qū)域透出該鍵帽；以及第二磁吸單元，設(shè)置于該鍵帽的該非透光區(qū)域，該第一磁吸單元與該第二磁吸單元產(chǎn)生磁力，用以驅(qū)動該鍵帽與該發(fā)光底板分離且貼附在該支撐架上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該發(fā)光底板包含光源與導(dǎo)光板，該光源設(shè)置于該導(dǎo)光板的水平側(cè)，該光源發(fā)出光源光線，該光源光線進(jìn)入該導(dǎo)光板后轉(zhuǎn)換為該背光光線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該支撐架具有限位部，該限位部與該發(fā)光底板之間形成容置空間，該鍵帽的該非透光區(qū)域和該支撐架密合，使得該背光光線被局限在該容置空間內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該發(fā)光底板包含基座與導(dǎo)光模組，該導(dǎo)光模組鋪設(shè)于該基座的表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該透光區(qū)域為形成于該鍵帽表面的破孔；或者該透光區(qū)域為該鍵帽由透明材質(zhì)所組成的區(qū)塊。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光按鍵，其特征在于另包含薄膜電路板，設(shè)置于該發(fā)光底板上，該薄膜電路板與該支撐件以一體成型方式設(shè)置于該發(fā)光底板。
7.一種具發(fā)光功能的鍵盤，其特征在于包含復(fù)數(shù)個如權(quán)利要求1至6中任意一項所述的發(fā)光按鍵。
8.一種發(fā)光按鍵，其特征在于包含發(fā)光底板；支撐架，設(shè)置于該發(fā)光底板上，該支撐架具有開孔，該開孔具有第一輪廓的內(nèi)側(cè)壁，該內(nèi)側(cè)壁沿著預(yù)設(shè)方向線性延伸，該內(nèi)側(cè)壁具有第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，該第一側(cè)壁和該第二側(cè)壁為不相鄰的相對兩側(cè)；第一磁吸元件，設(shè)置于鄰近該第一側(cè)壁的上端處；第二磁吸元件，設(shè)置于鄰近該第二側(cè)壁的上端處；鍵帽，該鍵帽具有鍵帽上部和鍵帽底部，該鍵帽上部具有透光區(qū)域，該發(fā)光底板所輸出的背光光線經(jīng)由該透光區(qū)域透出該鍵帽，該鍵帽底部具有第二輪廓的外側(cè)壁，該外側(cè)壁具有第三側(cè)壁和第四側(cè)壁，該第三側(cè)壁和該第四側(cè)壁分別對應(yīng)于該第一側(cè)壁和該第二側(cè)壁； 第三磁吸元件，設(shè)置于鄰近該第三側(cè)壁處，該第一磁吸元件與該第三磁吸元件產(chǎn)生第一磁性吸附力；以及第四磁吸元件，設(shè)置于鄰近該第四側(cè)壁處，該第二磁吸元件與該第四磁吸元件產(chǎn)生第二磁性吸附力；其中該第二輪廓吻合該第一輪廓，且該第二輪廓小于該第一輪廓，使得該鍵帽沿著該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動時，該鍵帽底部和該支撐架間不會發(fā)生干涉；其中該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力從不相鄰兩側(cè)吸引該鍵帽，用以驅(qū)動該鍵帽上升，進(jìn)而使該鍵帽上部穿出該開孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該支撐架還具有限位部，該限位部與該發(fā)光底板之間形成容置空間，該限位部用來限制該鍵帽底部脫離該容置空間。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該鍵帽上部和該限位部間具有預(yù)留間隙，使得該鍵帽沿著該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動時，該鍵帽上部和該限位部間不會發(fā)生干涉。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光按鍵，該鍵帽底部為非透光材質(zhì)，該鍵帽底部和該支撐架密合，使得該背光光線被局限在該容置空間內(nèi)。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該第一磁吸元件與該第三磁吸元件沿著該預(yù)設(shè)方向相鄰設(shè)置以產(chǎn)生該第一磁性吸附力。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該第三磁吸元件與該第四磁吸元件以環(huán)繞方式設(shè)置于該鍵帽底部。
14.一種發(fā)光按鍵，其特征在于包含發(fā)光底板；支撐架，設(shè)置于該發(fā)光底板上，該支撐架具有開孔和限位部，該開孔具有第一輪廓的內(nèi)側(cè)壁，該內(nèi)側(cè)壁沿著預(yù)設(shè)方向線性延伸，該內(nèi)側(cè)壁具有第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，該第一側(cè)壁和該第二側(cè)壁為不相鄰的相對兩側(cè)，該限位部與該發(fā)光底板之間形成容置空間；第一磁吸元件，設(shè)置于鄰近該第一側(cè)壁的上端處；第二磁吸元件，設(shè)置于鄰近該第二側(cè)壁的上端處；鍵帽，該鍵帽具有鍵帽上部和鍵帽底部，該鍵帽上部具有透光區(qū)域，該發(fā)光底板所輸出的背光光線經(jīng)由該透光區(qū)域透出該鍵帽，該鍵帽底部具有第二輪廓的外側(cè)壁，該外側(cè)壁具有第三側(cè)壁和第四側(cè)壁，該第三側(cè)壁和該第四側(cè)壁分別對應(yīng)于該第一側(cè)壁和該第二側(cè)壁， 且該鍵帽底部受到該限位部限制而無法脫離該容置空間；第三磁吸元件，設(shè)置于鄰近該第三側(cè)壁處，該第一磁吸元件與該第三磁吸元件產(chǎn)生第一磁性吸附力；以及第四磁吸元件，設(shè)置于鄰近該第四側(cè)壁處，該第二磁吸元件與該第四磁吸元件產(chǎn)生第二磁性吸附力，其中該容置空間具有垂直高度與水平寬度，該垂直高度與該水平寬度的比值小于O. 3， 該鍵帽在該容置空間內(nèi)所能具有的傾斜角度的最大值小于17度；其中該第一磁性吸附力和該第二磁性吸附力從不相鄰兩側(cè)吸引該鍵帽，用以驅(qū)動該鍵帽上升，進(jìn)而使該鍵帽上部穿出該開孔。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該鍵帽被按壓以沿著該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動的行程接近且小于該容置空間的該垂直高度，且該容置空間的該水平寬度接近且小于該鍵帽底部的表面寬度。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該垂直高度與該水平寬度比值小于O. 05，該鍵帽在該容置空間內(nèi)所能具有的傾斜角度的最大值小于3度。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該第二輪廓吻合該第一輪廓，且該第二輪廓小于該第一輪廓，使得該鍵帽沿著該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動時，該鍵帽底部和該支撐架間不會發(fā)生干涉。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該鍵帽上部和該限位部間具有預(yù)留間隙，使得該鍵帽沿著該預(yù)設(shè)方向相對于該發(fā)光底板運動時，該鍵帽上部和該限位部間不會發(fā)生干涉。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該第一磁吸元件與該第三磁吸元件沿著該預(yù)設(shè)方向相鄰設(shè)置以產(chǎn)生該第一磁性吸附力。
20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光按鍵，該鍵帽底部為非透光材質(zhì)，當(dāng)該鍵帽底部抵接于該限位部時，該鍵帽底部和該支撐架密合，使得該背光光線被局限在該容置空間內(nèi)。
21.根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)光按鍵，其特征在于該第三磁吸元件與該第四磁吸元件以環(huán)繞方式設(shè)置于該鍵帽底部。
全文摘要
本發(fā)明關(guān)于一種發(fā)光按鍵及其鍵盤，該發(fā)光按鍵包含發(fā)光底板、支撐架、第一磁吸單元、鍵帽以及第二磁吸單元。該支撐架設(shè)置于該發(fā)光底板上。該第一磁吸單元設(shè)置于該支撐架。該鍵帽以可活動方式設(shè)置于該支撐架內(nèi)。該鍵帽具有透光區(qū)域與非透光區(qū)域，該發(fā)光底板所輸出的背光光線經(jīng)由該透光區(qū)域透出該鍵帽。該第二磁吸單元設(shè)置于該鍵帽的該非透光區(qū)域。該第一磁吸單元系與該第二磁吸單元產(chǎn)生磁力，用以驅(qū)動該鍵帽分離該發(fā)光底板且貼附在該支撐架上。本發(fā)明的發(fā)光按鍵及其鍵盤使用發(fā)光底板引入背光光線，并搭配具有透光區(qū)域的鍵帽，以將背光光線自發(fā)光底板導(dǎo)向鍵帽而改善按鍵的視覺效果。
文檔編號H01H13/83GK103064523SQ20131000006
公開日2013年4月24日 申請日期2013年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月5日
發(fā)明者趙令溪, 顏志仲 申請人:蘇州達(dá)方電子有限公司, 達(dá)方電子股份有限公司