公開的實施方式涉及試樣保持件。

背景技術：

1、存在保持被等離子體處理的半導體晶片等試樣的試樣保持件。相關的試樣保持件將具有試樣保持面的陶瓷板與金屬制的冷卻構(gòu)件接合來構(gòu)成。

2、此外，作為試樣保持件，提出將陶瓷板的周緣部分通過夾緊以及螺栓而固定于冷卻構(gòu)件的構(gòu)造(例如，參照專利文獻1)。

3、在先技術文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：jp特開2013-232642號公報

技術實現(xiàn)思路

1、實施方式的一方式的試樣保持件具備陶瓷板、基底構(gòu)件和固定機構(gòu)。陶瓷板具有第1面以及位于第1面的相反位置的第2面?；讟?gòu)件位于陶瓷板的第2面，具有：與第2面的對置面即第3面；位于第3面的相反位置的第4面；和位于與比陶瓷板的周緣更內(nèi)側(cè)對應的位置且將第3面以及第4面貫通的貫通孔。固定機構(gòu)與基底構(gòu)件的貫通孔對應地設置，將基底構(gòu)件和陶瓷板固定。

技術特征：

1.一種試樣保持件，具備：

2.根據(jù)權利要求1所述的試樣保持件，其中，

3.根據(jù)權利要求2所述的試樣保持件，其中，

4.根據(jù)權利要求3所述的試樣保持件，其中，

5.根據(jù)權利要求4所述的試樣保持件，其中，

6.根據(jù)權利要求3～5中任一項所述的試樣保持件，其中，

7.根據(jù)權利要求3～5中任一項所述的試樣保持件，其中，

8.根據(jù)權利要求3～5中任一項所述的試樣保持件，其中，

9.根據(jù)權利要求8所述的試樣保持件，其中，

10.根據(jù)權利要求3～5中任一項所述的試樣保持件，其中，

11.根據(jù)權利要求3～5中任一項所述的試樣保持件，其中

12.根據(jù)權利要求2～11中任一項所述的試樣保持件，其中，

13.根據(jù)權利要求12所述的試樣保持件，其中，

14.根據(jù)權利要求2～13中任一項所述的試樣保持件，其中，

15.根據(jù)權利要求2～14中任一項所述的試樣保持件，其中，

16.根據(jù)權利要求2～15中任一項所述的試樣保持件，其中，

17.根據(jù)權利要求2～15中任一項所述的試樣保持件，其中，

18.根據(jù)權利要求2～17中任一項所述的試樣保持件，其中，

19.根據(jù)權利要求1～18中任一項所述的試樣保持件，其中，

20.根據(jù)權利要求1～19中任一項所述的試樣保持件，其中，

技術總結(jié)
試樣保持件具備陶瓷板、基底構(gòu)件和固定機構(gòu)。陶瓷板具有第1面以及位于第1面的相反位置的第2面?；讟?gòu)件位于陶瓷板的第2面，具有：與第2面的對置面即第3面；位于第3面的相反位置的第4面；和位于與比陶瓷板的周緣更內(nèi)側(cè)對應的位置且將第3面以及第4面貫通的貫通孔。固定機構(gòu)與基底構(gòu)件的貫通孔對應地位置，將基底構(gòu)件和陶瓷板固定。

技術研發(fā)人員：森田武藏
受保護的技術使用者：京瓷株式會社
技術研發(fā)日：
技術公布日：2024/11/11