本發(fā)明涉及基片處理系統(tǒng)、輸送方法、輸送程序和保持器具。

背景技術：

1、已知在設置于處理室的內(nèi)部的載置臺上載置基片來進行等離子體處理的等離子體處理裝置。這樣的等離子體處理裝置中存在因反復等離子體處理而逐漸消耗的消耗部件。

2、消耗部件例如是設置在載置臺所載置的基片的外周的聚焦環(huán)。聚焦環(huán)暴露于等離子體中而被削減，需要定期更換。

3、例如，專利文獻1提出了以不將處理室開放于大氣的方式送入送出聚焦環(huán)的聚焦環(huán)更換方法。另外，提出了縮短因進行基片載置臺的表面部的狀態(tài)的確認和該表面部的更換而引起的真空處理的停止時間的技術(專利文獻2)。另外，提出了用于更換消耗部件的容器(專利文獻3)。

4、現(xiàn)有技術文獻

5、專利文獻

6、專利文獻1：日本特開2018-10992號公報。

7、專利文獻2：日本特開2012-216614號公報。

8、專利文獻3：日本特開2017-98540號公報。

技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的技術問題

2、本發(fā)明提供一種通過縮短真空處理室內(nèi)的消耗部件的更換時間，來提高基片處理系統(tǒng)的工作效率的技術。

3、用于解決問題的技術手段

4、本發(fā)明的一個方式的基片處理系統(tǒng)包括常壓輸送室、真空處理室、一個以上的裝載互鎖單元、真空輸送室、多個安裝部、第1輸送機構、第2輸送機構、控制部。常壓輸送室用于在常壓氣氛下輸送基片和消耗部件。真空處理室用于對基片執(zhí)行真空處理。一個以上的裝載互鎖單元配置在常壓輸送室與真空處理室之間，供被輸送的基片和消耗部件通過。真空輸送室配置在真空處理室與一個以上的裝載互鎖單元之間，用于在減壓氣氛下輸送基片和消耗部件。多個安裝部設置在常壓輸送室，且具有能夠使在用于收納基片或者消耗部件的多個保管部的各保管部與常壓輸送室之間被輸送的基片或者消耗部件通過的端口。多個安裝部能夠可拆裝地安裝多個保管部的每一個。第1輸送機構在一個以上的裝載互鎖單元與真空處理室之間經(jīng)由真空輸送室輸送基片和消耗部件。第2輸送機構在多個保管部與一個以上的裝載互鎖單元之間經(jīng)由常壓輸送室輸送基片和消耗部件?？刂撇渴沟?輸送機構和第2輸送機構并行地執(zhí)行以下輸送，即：從保管部經(jīng)由常壓輸送室和一個以上的裝載互鎖單元中的一個裝載互鎖單元向真空處理室去的消耗部件的輸送；和從真空處理室經(jīng)由真空輸送室和一個以上的裝載互鎖單元中的另一個裝載互鎖單元的消耗部件的輸送。

5、發(fā)明效果

6、根據(jù)本發(fā)明，能夠縮短真空處理室內(nèi)的消耗部件的更換時間，從而提高基片處理系統(tǒng)的工作效率。

技術特征：

1.一種基片處理系統(tǒng)，其具有：

2.如權利要求1所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

3.如權利要求1或2所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

4.如權利要求3所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

5.如權利要求1～4中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

6.如權利要求1～5中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

7.如權利要求1～6中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

8.如權利要求1～7中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

9.如權利要求1～8中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

10.如權利要求1～9中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

11.如權利要求1～9中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

12.如權利要求1～11中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

13.如權利要求1～12中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

14.如權利要求13所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

15.如權利要求1～14中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

16.一種基片處理系統(tǒng)，其具有：

17.如權利要求16所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

18.如權利要求16或17所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

19.如權利要求16～18中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

20.如權利要求16～19中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

21.如權利要求16～20中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

22.如權利要求16～21中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

23.如權利要求16～22中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

24.如權利要求23所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

25.如權利要求23或24所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

26.如權利要求23～25中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

27.如權利要求23～26中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

28.如權利要求23～27中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

29.如權利要求23～28中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

30.如權利要求23～29中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

31.如權利要求23～30中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

32.如權利要求25所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

33.如權利要求23～32中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

34.如權利要求23～33中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

35.如權利要求23～34中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

36.如權利要求23～35中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

37.如權利要求23～36中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

38.如權利要求37所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

39.如權利要求38所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

40.如權利要求16～39中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

41.如權利要求40所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

42.如權利要求16～41中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

43.如權利要求16～42中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

44.如權利要求16～43中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

45.如權利要求44所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

46.如權利要求45所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

47.如權利要求46所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

48.如權利要求46或47所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

49.如權利要求48所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

50.如權利要求46～49中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

51.如權利要求46～50中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

52.如權利要求45～51中任一項所述的基片處理系統(tǒng)，其中，

53.一種系統(tǒng)，其具有：

54.如權利要求53所述的系統(tǒng)，其中，

55.如權利要求53或54所述的系統(tǒng)，其中，

56.如權利要求53～55中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

57.如權利要求56所述的系統(tǒng)，其中，

58.如權利要求56或57所述的系統(tǒng)，其中，

59.如權利要求56～58中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

60.如權利要求56～59中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

61.如權利要求56～60中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

62.如權利要求56～61中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

63.如權利要求53～62中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

64.如權利要求53～63中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

65.如權利要求53～64中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

66.如權利要求53～65中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

67.如權利要求53～66中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

68.如權利要求53～67中任一項所述的系統(tǒng)，其中，

技術總結
本發(fā)明提供一種基片處理系統(tǒng)，其包括常壓輸送室、真空處理室、一個以上的裝載互鎖單元、真空輸送室、多個安裝部、第1輸送機構、第2輸送機構和控制部。多個安裝部設置在常壓輸送室。多個安裝部能夠可拆裝地安裝多個保管部的每一個。控制部與第1輸送機構和第2輸送機構并行地執(zhí)行以下輸送，即：從保管部經(jīng)由常壓輸送室和一個以上的裝載互鎖單元中的一個裝載互鎖單元向真空處理室去的消耗部件的輸送；和從真空處理室經(jīng)由真空輸送室和一個以上的裝載互鎖單元中的另一個裝載互鎖單元的消耗部件的輸送。根據(jù)本發(fā)明，能夠縮短真空處理室內(nèi)的消耗部件的更換時間，從而提高基片處理系統(tǒng)的工作效率。

技術研發(fā)人員：沼倉雅博,豐卷俊明,貝瀬精一,武山裕紀
受保護的技術使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會社
技術研發(fā)日：
技術公布日：2024/10/10