專利名稱：定位裝置、模糊修正裝置以及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及定位裝置，模糊修正裝置和電子設(shè)備以及定位裝置的制造方法。
背景技術(shù)：
已知使用了驅(qū)動裝置和位置檢測裝置的定位裝置為例如設(shè)置在照相機(jī)中的裝置(參見日本的特開2002-196382號公報)。
這種以往的定位裝置存在以下問題，即難以通過在設(shè)置于驅(qū)動裝置上的磁鐵與設(shè)置于位置檢測裝置上的磁鐵之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩進(jìn)行定位。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了能夠提高定位精度的定位裝置、模糊修正裝置和電子設(shè)備以及定位裝置的制造方法。
本發(fā)明的定位裝置包括第1部件、第2部件、驅(qū)動部件、第1檢測部以及第2檢測部。
在第1部件上，設(shè)有沿第1軸配置的第1磁鐵以及沿與上述第1軸交叉的第2軸配置的第2磁鐵；第2部件相對于上述第1部件設(shè)置。
驅(qū)動部件具有設(shè)置在第1部件上的第1要素以及設(shè)置在第2部件上的第2要素，通過第1要素與第2要素之間的電磁作用，相對驅(qū)動第1部件和第2部件。
第1檢測部與第1磁鐵協(xié)動來檢測與第1軸方向相關(guān)的第1部件與第2部件的相對移動；第2檢測部與第2磁鐵協(xié)動來檢測與第2軸方向相關(guān)的第1部件與第2部件的相對移動。
并且，以降低由第2磁鐵與第2要素的電磁耦合產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方式，配置第1磁鐵。
根據(jù)本發(fā)明的定位裝置，由于能夠降低第2磁鐵與第2要素之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩，因此，能夠提高定位精度。
本發(fā)明的定位裝置的制造方法包括以下工序在第1磁鐵或第2磁鐵中的至少一個磁鐵上賦予識別磁極的標(biāo)記的工序；以及將賦予了標(biāo)記的磁鐵裝附在第1部件上的工序。
根據(jù)本發(fā)明其它觀點(diǎn)的定位裝置的制造方法包括以下工序在驅(qū)動磁鐵上賦予識別磁極的標(biāo)記的工序；以及將賦予了標(biāo)記的驅(qū)動磁鐵裝附在第1部件或第2部件上的工序。
根據(jù)本發(fā)明的定位裝置的制造方法，由于易于識別磁鐵的磁極，因此，能夠防止磁極的錯誤組裝


圖1是表示第1實(shí)施例的數(shù)碼照相機(jī)的透視圖；圖2A以及圖2B是表示設(shè)置在圖1所示的數(shù)碼照相機(jī)中的模糊修正裝置的圖；圖3A和3B是表示設(shè)置在圖2A、2B的模糊修正裝置的VCM上的磁鐵的磁極的配置以及設(shè)置在位置檢測部上的磁鐵的磁極的配置的圖；圖4A以及圖4B是表示比較例的模糊修正裝置中磁鐵的磁極的配置；
圖5A～5D是表示設(shè)置在實(shí)施例以及比較例的模糊修正裝置上的磁鐵的磁極的配置以及作用于移動部上的轉(zhuǎn)動力矩的關(guān)系的圖；圖6是表示第3實(shí)施例的模糊修正裝置的圖；圖7A～7D是表示實(shí)施例以及變形例的模糊修正裝置的圖；圖8A～8D是表示實(shí)施例以及變形例的模糊修正裝置的圖；圖9A以及圖9B是表示實(shí)施例中的磁鐵的透視圖；圖9C是表示在磁鐵上賦予標(biāo)記的實(shí)施例的透視圖；圖10是表示實(shí)施例的制造方法的流程圖；圖11是表示設(shè)置在圖2A，2B的模糊修正裝置的VCM上的磁鐵的磁極的配置以及設(shè)置在位置檢測部上的磁鐵的磁極的配置與標(biāo)記的位置關(guān)系的圖。
標(biāo)號說明10模糊修正裝置 20固定部 30移動部 40模糊修正透鏡50VCM 51磁鐵 52線圈 53軛鐵60位置傳感器 60位置檢測部 61磁鐵 100數(shù)碼照相機(jī)A1、A2光軸 M標(biāo)記具體實(shí)施方式
下面，參照附圖，對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行更詳細(xì)的說明。另外，以作為電子設(shè)備的數(shù)碼照相機(jī)為例進(jìn)行說明以下的實(shí)施例。
<第1，第2實(shí)施例>
圖1是表示第1以及第2實(shí)施例的數(shù)碼照相機(jī)的透視圖。
圖2A以及圖2B是表示設(shè)置在圖1所示的數(shù)碼照相機(jī)中的模糊修正裝置。圖2A是表示模糊修正裝置的平面圖，圖2B是表示圖2A中IIB-IIB部的向視剖面圖。
數(shù)碼照相機(jī)100(以下，稱為照相機(jī)100)為透鏡非替換式照相機(jī)，其設(shè)有機(jī)身110以及透鏡鏡筒120。
機(jī)身110為例如由合成樹脂材料或鋁合金等金屬材料、以大致長方體形形成并且在內(nèi)部設(shè)有空間的箱型容器。
透鏡鏡筒120被容納在設(shè)置于機(jī)身110內(nèi)部的空間中，并設(shè)有第1透鏡組1、棱鏡2、CCD(電荷耦合器件)3以及模糊修正裝置10。開關(guān)SW例如為在快門開關(guān)操作、模糊修正裝置的控制等中使用的開關(guān)。開關(guān)SW設(shè)置在機(jī)身110中第1透鏡組1的相反側(cè)。開關(guān)VRSW為在或使模糊修正裝置工作或使其停止的操作中使用的開關(guān)。開關(guān)VRSW設(shè)置在機(jī)身110中第1透鏡組1的相反側(cè)。
第1透鏡組1在容納于透鏡120中的攝像光學(xué)系統(tǒng)中，最靠近被攝像體側(cè)的透鏡組。在其入射面露出的狀態(tài)下，將該第1透鏡組1設(shè)置于機(jī)身110表面部中在攝像時面向被攝像體的表面部。
棱鏡2位于機(jī)身110的內(nèi)部并設(shè)置在第1透鏡組1的出射側(cè)，其為全反射從第1透鏡組1射出的光并使其前進(jìn)方向例如折射90°的直角棱鏡。
下面，分別在棱鏡2的入射側(cè)的光軸、出射側(cè)的光軸上標(biāo)出符號A1、A2以對照相機(jī)100的攝像光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行說明。
CCD3為光-電轉(zhuǎn)換元件，其用于將含有第1透鏡組1的照相機(jī)100的攝像光學(xué)系統(tǒng)獲得的被攝像體圖像光轉(zhuǎn)換為電信號。該CCD3在棱鏡2的出射側(cè)，在照相機(jī)100的正常攝像位置處設(shè)置于棱鏡2的垂直方向的下方。另外，照相機(jī)100例如可以將CMOS(互補(bǔ)型金屬氧化物半導(dǎo)體)等作為攝像元件使用。
此處，在本說明書中，照相機(jī)100的正常攝像位置指以光軸A1呈大致水平并攝像橫長的圖像時的照相機(jī)100的姿態(tài)。
CCD3的攝像畫面在照相機(jī)100處于正常攝像位置的狀態(tài)下，呈大致水平狀態(tài)。
另外，雖然在圖1中被省略，但是，透鏡鏡筒120在第1透鏡組1與棱鏡2之間以及在棱鏡2與CCD3之間設(shè)有含有變焦透鏡或聚焦透鏡的多個透鏡組。
模糊修正裝置10在棱鏡2與CCD3之間，并設(shè)置在光軸A2上。
如圖2A以及2B所示，模糊修正裝置10設(shè)有固定部20、移動部30、模糊修正透鏡40、音圈電機(jī)50(以下，稱為VCM50)、位置檢測部60以及鋼珠70。
下面，以使移動部30相對于固定部20對中的狀態(tài)為基準(zhǔn)說明設(shè)置在以下說明的模糊修正裝置10上的各個要素的配置。另外，使移動部30對中的狀態(tài)指模糊修正透鏡40的光軸與光軸A2實(shí)質(zhì)上一致的狀態(tài)。
該模糊修正裝置10通過圖1所示的固定在機(jī)身110內(nèi)部的回轉(zhuǎn)傳感器4檢測照相機(jī)100的傾角，根據(jù)該傾角，VCM50，相對于固定部20，在與光軸A2垂直的面內(nèi)驅(qū)動移動部30，從而使糊修正透鏡40移動，由此能夠降低攝像時手振動等的影響。通過圖1所示的控制裝置5，控制VCM50的驅(qū)動。
固定部20為固定在透鏡鏡筒120上的模糊修正裝置10的基部。以可相對于固定部20在與光軸A2垂直的面內(nèi)移動的方式支承移動部30。與固定部20相比，移動部30更靠近棱鏡2側(cè)。
如圖2所示，在從光軸A2的方向看去的情況下，這些固定部20以及移動部30以與光軸A1以及光軸A2正交的方向(在圖2A中，為左右方向。以下，稱為縱向)的尺寸大于與光軸A1平行的尺寸(在圖2A中，為上下方向)的大致矩形板狀形成。
將糊修正透鏡40安裝在位于移動部30縱向的大致中央部的攝像者側(cè)的區(qū)域。
音圈電機(jī)50為相對于固定部20、在與光軸A2正交的面內(nèi)驅(qū)動移動部30的電磁致動器。
VCM50沿固定部20以及移動部30的縱向分離形成一組并以夾持模糊修正透鏡40的方式設(shè)置。
下面，對于表示該VCM50以及后面所述的位置檢測部60以及它們所含的各個要素的符號，在照相機(jī)100的正常攝像位置處，從攝像者側(cè)觀察，對設(shè)置在光軸A2右側(cè)的部分賦予標(biāo)號R，對設(shè)置在左側(cè)的部分賦予標(biāo)號L進(jìn)行說明。
由VCM50L、VCM50R形成的移動部30的驅(qū)動方向(推力方向)D1、D2分別相對于固定部20以及移動部30的縱向，例如傾斜45°。通過使傾斜角達(dá)到45°，能夠?qū)崿F(xiàn)簡化與三角函數(shù)相關(guān)的運(yùn)算的效果。但是，也不必一定是45°。
此處，若將通過VCM50L并與驅(qū)動方向D1平行的軸線作為驅(qū)動軸線DL，將通過VCM50R并與驅(qū)動方向D2平行的軸線作為驅(qū)動軸線DR，則驅(qū)動軸線DL與驅(qū)動軸線DR的交點(diǎn)在含有光軸A1和光軸A2的平面上，與光軸A2相比，更靠近被攝像體的區(qū)域內(nèi)。
如圖2B所示，VCM50L設(shè)有磁鐵51L、線圈52L以及軛鐵53L。
磁鐵51L為在與移動部30相對的狀態(tài)下固定在固定部20上的永久磁鐵。后面，對該磁鐵51L(以及磁鐵51R)的磁極的配置進(jìn)行詳細(xì)說明。
線圈52L為在與移動部30相對的狀態(tài)下固定在移動部30上的電繞線。
軛鐵53L為例如通過鐵系金屬材料等以板狀形成的磁性體。該軛鐵53L在與線圈52L的相對磁鐵51L的面相反側(cè)的面相對的狀態(tài)下固定在移動部30上。
VCM50R具有與上述VCM50L相同的結(jié)構(gòu)。
位置檢測部60為位置傳感器，其用于檢測在與光軸A2正交的面內(nèi)的移動部30相對于固定部20的位置。
位置檢測部60與VCM50相同地沿固定部20以及移動部30的縱向分離形成一組并以夾持含有光軸A1和光軸A2的平面的方式設(shè)置。這些位置檢測部60L、60R分別位于VCM50L、50R的驅(qū)動軸線DL、DR上，并被設(shè)置在模糊修正裝置10的被攝像體側(cè)的區(qū)域中。
位置檢測部60L與VCM50L相鄰設(shè)置，其檢測軸的軸線方向D3與VCM50R的驅(qū)動軸線D2平行。
與其相比，位置檢測部60R與VCM50R相鄰設(shè)置，其檢測軸的軸線方向D4與VCM50L的驅(qū)動軸線D1平行。
另外，位置檢測部60L、60R以其檢測軸在模糊修正透鏡40的光軸上交叉的方式設(shè)置。
位置檢測部60L設(shè)有磁鐵61L以及霍爾元件62L。
磁鐵61L為在相對于固定部20的狀態(tài)下固定在移動部30上的永久磁鐵。后面，將對該磁鐵61L(以及磁鐵61R)的磁極的配置進(jìn)行詳細(xì)說明。
霍爾元件62L為在相對于磁鐵61L的狀態(tài)下固定在固定部20上的磁傳感器。該霍爾元件62L為檢測磁鐵61L的磁場根據(jù)移動部30相對于固定部20位移而變化的元器件。
另外，位置檢測部60R具有與上述位置檢測部60L相同的結(jié)構(gòu)。
鋼珠70為相對于固定體20、在與光軸A2正交的面內(nèi)可移動地支承移動部30的轉(zhuǎn)動體。
鋼珠70容納在形成于固定部20與移動部30相對的表面部的凹部21中，并被夾持在凹部21的底面與相對于該底面的移動部30的表面之間。
如圖2A所示，鋼珠70例如設(shè)有3個。鋼珠70中的一個在模糊修正裝置10的被攝像體側(cè)的端部并設(shè)置在模糊修正裝置10的縱向的大致中央部。另外，鋼珠70中的另兩個在模糊修正裝置10的被攝像體側(cè)的端部并分別設(shè)置在固定部20的縱向的左右端部附近。
另外，由于固定在固定部20上的磁鐵51L、51R通過磁力吸引固定在相對于它們的移動部30側(cè)的軛鐵53L、53R，因此，移動部30不會從固定部20上脫落。
下面，將對設(shè)置在VCM50上的磁鐵51的磁極的配置以及設(shè)置在位置檢測部60上的磁鐵61的磁極的配置進(jìn)行說明。
圖3A和3B是表示設(shè)置在VCM50上的磁鐵51的磁極的配置以及設(shè)置在位置檢測部60上的磁鐵61的磁極的配置的圖，圖3A為從光軸A2方向觀察模糊修正裝置10的平面圖，圖3B為僅表示磁鐵51、61的透視圖。
另外，在該圖3A中表示，磁鐵51的磁極的配置是從棱鏡2觀察固定部20所得的配置，磁鐵61的磁極的配置是從CCD3側(cè)觀察移動部30所得的配置。
VCM50L的磁鐵51L為以長方體狀形成的多極磁鐵。
如圖2和3所示，該磁鐵51L以沿光軸A2的方向使2個平板型磁鐵重疊的方式形成，這2個平板型磁鐵是沿VCM50L的驅(qū)動方向D1、以相反方向配置S極和N極。
還有，磁鐵51L是將S極配置在最接近位置檢測部60L的磁鐵61L的部分。
位置檢測部60L的磁鐵61L也為以與VCM50L的磁鐵51L相同的方式、以大致長方體狀形成的多極磁鐵。
該磁鐵61L以沿光軸 A2的方向使2個平板型磁鐵重疊的方式形成，這2個平板型磁鐵是沿位置檢測部60L的磁鐵61L的檢測軸的軸線方向D3、以相反方向配置S極和N極。
還有，磁鐵61L是在最接近VCM50L的磁鐵51L的部分，使N極緊鄰模糊修正透鏡40來設(shè)置(參見圖3A、圖3B)。
VCM50R的磁鐵51R、位置檢測部60R的磁鐵61R分別形成與磁鐵51L、磁鐵61L相同的結(jié)構(gòu)，其磁極的配置應(yīng)采用以含有光軸A1和光軸A2的面為基準(zhǔn)面的面對稱形式。
下面，與比較例相對比，說明第1實(shí)施例的模糊修正裝置10的效果。
在以下說明的比較例及其他實(shí)施例中，能夠?qū)崿F(xiàn)與上面所述的第1以及第2實(shí)施例相同的功能的部分采用了相同的標(biāo)號或在末尾統(tǒng)一的標(biāo)號，從而能夠適當(dāng)?shù)厥÷灾貜?fù)性說明、附圖。
如圖3A所示，磁鐵61L在最接近磁鐵51L的部分，與S極相比，將N極設(shè)置在模糊修正裝置10的中央側(cè)，在磁鐵51L中，將S極設(shè)置在最接近磁鐵61L的部分。
因此，通過在磁鐵51L與磁鐵61L之間產(chǎn)生的引力以及排斥力，在磁鐵51L與磁鐵61L之間，在從棱鏡2側(cè)觀察模糊修正裝置10的情況下，產(chǎn)生使移動部30相對于固定部20順時針轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動力矩(參見圖3A的箭頭XL)。
與其相比，如該圖所示，磁鐵61R在最接近磁鐵51R的部分，與S極相比，將N極設(shè)置在模糊修正裝置10的中央側(cè)；在磁鐵51R中，將S極設(shè)置在最接近磁鐵61R的部分。
因此，在磁鐵51R與磁鐵61R之間能夠產(chǎn)生使移動部30相對于固定部20逆時針轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動力矩(參見圖3A的箭頭XR)。
這樣，在第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中，產(chǎn)生于磁鐵51L與磁鐵61L之間的轉(zhuǎn)動力矩的方向與產(chǎn)生于磁鐵51R與磁鐵61R之間的轉(zhuǎn)動力矩的方向相反。
此處，作為第1實(shí)施例的模糊修正裝置10的比較例，例如，可以考慮與第1實(shí)施例的模糊修正裝置10相比，磁鐵61L的磁極的配置相反的模糊修正裝置。
圖4A以及圖4B是表示比較例的模糊修正裝置中磁鐵的磁極的配置的圖，這些附圖分別表示第1比較例、第2比較例的模糊修正裝置。
在圖4A所示的第1比較例的模糊修正裝置210中，代替第1實(shí)施例的磁鐵61L，設(shè)有S極、N極的配置相反的磁鐵261L。
在該第1比較例的模糊修正裝置210中，產(chǎn)生于磁鐵51R與磁鐵61R之間的轉(zhuǎn)動力矩(參見圖4A的箭頭XR)與第1實(shí)施例相同，為逆時針方向。
與其對應(yīng)，由于在磁鐵261L中，與N極相比，將S極設(shè)置在模糊修正裝置210的中央側(cè)，因此，在磁鐵51L與磁鐵61L之間，會產(chǎn)生與產(chǎn)生于磁鐵51R與磁鐵61R之間的轉(zhuǎn)動力矩相同的逆時針方向的轉(zhuǎn)動力矩(參見圖4A的箭頭XL)。
在第2比較例的模糊修正裝置310中，代替第1實(shí)施例的磁鐵61R，設(shè)有S極、N極的配置相反的磁鐵361R。
該第2比較例的模糊修正裝置310也與第1實(shí)施例相同，在接近配置的2個磁鐵之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方向分別是相同的(參見圖4B的箭頭XL、XR)。
對于以上說明的第1以及第2比較例的模糊修正裝置210、310而言，由于產(chǎn)生于接近的磁鐵之間的轉(zhuǎn)動力矩的方向是相同的，因此，通過合成這些轉(zhuǎn)動力矩，能夠產(chǎn)生使移動部30相對于固定部20轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動力矩。
圖5A～5D是表示磁鐵的磁極的配置與作用于移動部上的轉(zhuǎn)動力矩的方向之間的關(guān)系的圖。所述圖5A～5D中的左圖顯示了磁極的配置，右圖顯示了移動部的配置。
圖5A顯示了第1實(shí)施例的模糊修正裝置10。
由于在各個磁鐵之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方向是相反的，因此，通過使這些轉(zhuǎn)動力矩相互抵消，從而該模糊修正裝置10能夠降低作用于移動部30上的轉(zhuǎn)動力矩。在所述第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中，移動部30相對于固定部20，以與光軸A1大致平行的方式向攝像者側(cè)移動。
圖5B顯示了第1比較例的模糊修正裝置210。
由于在各個磁鐵之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方向是相同的并且該方向都為逆時針方向，因此，該模糊修正裝置210會作用移動部30相對于固定部20逆時針轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動力矩。
另外，由于該轉(zhuǎn)動力矩的轉(zhuǎn)動中心不在光軸A2上，因此，模糊修正透鏡40的光軸會偏離光軸A2。
圖5C顯示了第2比較例的模糊修正裝置310。
對于該模糊修正裝置310而言，由于在移動部30上作用了順時針轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動力矩，因此，移動部30相對于固定部20順時針轉(zhuǎn)動，并且，與第1比較例相同，模糊修正透鏡40的光軸會偏離光軸A2。
圖5D顯示了模糊修正裝置410，其作為第二實(shí)施例的模糊修正裝置410，與第1實(shí)施例相同，在各個磁鐵之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方向相反。但是，在各個磁鐵之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方向分別與第1實(shí)施例的方向相反。
該模糊修正裝置410與第1實(shí)施例的模糊修正裝置10相同，使作用于移動部30上的轉(zhuǎn)動力矩相互抵消，移動部30相對于固定部20以與光軸A1大致平行的方式向攝像體側(cè)移動。
此處，如第1比較例以及第2比較例那樣，在對移動部30作用轉(zhuǎn)動力矩的狀態(tài)下，模糊修正裝置的位置檢測部60難以正確進(jìn)行移動部30相對于固定部20的位置檢測。
另外，在第1比較例以及第2比較例中，在移動部30的轉(zhuǎn)動量較大的情況下，磁鐵61與霍爾元件62分離，從而存在不可能通過檢測位置檢測部60進(jìn)行位置檢測的可能性。
與其相比，在第1實(shí)施例的模糊修正裝置10以及第2實(shí)施例的模糊修正裝置410中，由于移動部30是沿光軸A1大致平行移動的，因此，易于校正位置檢測部60的輸出，從而能夠可靠地進(jìn)行移動部30的位置檢測。
另外，由于能夠減小移動部30相對于固定部20的轉(zhuǎn)動，因此，不必設(shè)置轉(zhuǎn)動止動件等，或者，可以使用對應(yīng)較小轉(zhuǎn)動負(fù)載的小型轉(zhuǎn)動止動件，從而能夠?qū)崿F(xiàn)模糊修正裝置10、410的小型化。
<第3實(shí)施例>
下面，將對作為電子設(shè)備的第3實(shí)施例的數(shù)碼照相機(jī)進(jìn)行說明。
圖6是表示設(shè)置在第3實(shí)施例的數(shù)碼照相機(jī)中的模糊修正裝置510的圖，是與顯示第1實(shí)施例的模糊修正裝置10的圖2B相對應(yīng)的圖。
第3實(shí)施例的數(shù)碼照相機(jī)設(shè)有與第1實(shí)施例的模糊修正裝置10相比，磁鐵51、線圈52、軛鐵53的配置不同的模糊修正裝置510。
模糊修正裝置510的VCM550L(用于D1方向驅(qū)動的VCM)設(shè)有磁鐵551L、線圈552L、軛鐵553L。
磁鐵551L在與固定部20相對的狀態(tài)下，固定在移動部30上。
線圈552L在與磁鐵551L相對的狀態(tài)下，通過軛鐵553L固定在固定部20上。
軛鐵553L在與線圈552L的相對磁鐵551L的面的相反側(cè)的面相對的狀態(tài)下，固定在固定部20上。
軛鐵553L為與第1實(shí)施例的磁鐵51相同的多極磁鐵，在與軛鐵553L相對的部分，將N極設(shè)置在接近位置檢測部60L的磁鐵61L的部分。
此處，在該模糊修正裝置510中，軛鐵553L被磁鐵551L磁化。因此，軛鐵553L能起到與將S極設(shè)置在最接近位置檢測部60L的磁鐵61L的部分的磁鐵即第1實(shí)施例的磁鐵51L相同的功能。
另外，設(shè)置在圖中未示出的VCM550R(用于D2方向驅(qū)動的VCM)上的圖中未示出的軛鐵553R也同樣被VCM550R的磁鐵551R磁化，并能起到與第1實(shí)施例的磁鐵51R相同的功能。
這樣，第3實(shí)施例的模糊修正裝置510與第1實(shí)施例的模糊修正裝置10相同，以使在各個磁鐵之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩相抵消的方式設(shè)置磁鐵551、磁鐵61，以此方式，能夠防止移動部30相對于固定部20轉(zhuǎn)動。因此，模糊修正裝置510能夠可靠地進(jìn)行移動部30的位置檢測。
并且，第3實(shí)施例的模糊修正裝置510由于將線圈552設(shè)置在固定部20上，因此，與將線圈52設(shè)置在移動部30側(cè)的第1實(shí)施例相比，易于進(jìn)行配線等的處理，并且，能夠更順利地進(jìn)行實(shí)現(xiàn)移動部30的移動。
<制造方法的實(shí)施例>
在此，在實(shí)施例的模糊修正裝置中，磁鐵51L、51R以及磁鐵61L、61R的磁極的設(shè)置方向是重要的，若磁極的方向有誤，則不能實(shí)現(xiàn)實(shí)施例的效果。因此，應(yīng)對各個磁鐵51L、51R、61L、61R賦予能夠識別磁極的標(biāo)記M。
以圖3B所示的磁鐵61L為例進(jìn)行說明。圖9A為顯示磁鐵61L的透視圖，其為以已描述的大致長方體狀形成的多極磁鐵，其通過重疊貼合2塊平板狀磁鐵形成。本例子中的磁鐵61L在鑄造或燒結(jié)了鐵素體等磁性體后以所希望的形狀加工，并被磁化為S極和N極。還有，在磁化后，以防止氧化或碰傷為目的，進(jìn)行鎳等電鍍處理。
之后，使2塊平板狀磁鐵重疊貼合，在以此方式獲得的磁鐵61L的六個面中任意一個面上，如圖9所示，通過墨水等賦予磁極識別標(biāo)記M。
在賦予磁極識別標(biāo)記M時，如圖9C所示，以磁極的方向相同的方式層疊多個磁鐵61，若以一次性進(jìn)行標(biāo)記，則能夠以短時間賦予標(biāo)記M。
另外，在采用圖9A、9B所示的長方體狀磁鐵61L的情況下，若在六個面中任意一個面上賦予磁極識別標(biāo)記M，則能夠識別磁鐵61L的磁極的方向。但是，也可以在長方體狀磁鐵61L的2個以上的面上賦予標(biāo)記M。
還有，也可以使標(biāo)記M位于長方體狀磁鐵61L的表面的中心，也可以使其位于離開中心的部分。另外，標(biāo)記M例如也可以采用顏色與磁鐵61L的表面顏色不同的墨水、涂料，也可以采用凸起、槽等。還有，標(biāo)記M也可以采用線、點(diǎn)、三角形、四邊形、圓等圖形，所賦予的標(biāo)記M也可以為2個以上。
如圖9A所示，在將賦予了磁極識別標(biāo)記M的磁鐵61裝附于移動部30上的作業(yè)中，將對應(yīng)于磁極配置的移動部30的磁極識別標(biāo)記M的位置定為作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。對于其它磁鐵61R、51L、51R，也賦予相同的磁極識別標(biāo)記M。
下面，參照附圖10，說明本實(shí)施例的定位裝置的制造方法。在本實(shí)施例的定位裝置的制造方法中，首先，如圖11所示，在磁鐵61L、61R、51L、51R上形成磁極識別標(biāo)記M。接著，由操作者或自動組裝機(jī)等識別磁極識別標(biāo)記M。隨后，利用磁極識別標(biāo)記M，組裝固定部20(參見圖2A)和移動部30(參見圖2A)。由于通過該磁極識別標(biāo)記M，能夠識別磁鐵的磁極的方向，因此，能夠防止磁極方向的錯誤組裝。
<變形例>
本發(fā)明不應(yīng)局限于上面說明的實(shí)施例，可以采用各種變形或改進(jìn)，這些變形和改進(jìn)也應(yīng)包含在技術(shù)范圍內(nèi)。
(1)本發(fā)明的定位裝置、模糊修正裝置、電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)不應(yīng)局限于實(shí)施例，也可以進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖冃?，例如，雖然實(shí)施例中的電子設(shè)備為數(shù)碼照相機(jī)，但是電子設(shè)備不應(yīng)局限于此，例如，也可以是膠片照相機(jī)、攝像機(jī)、便攜式電話、含有模糊修正裝置的替換鏡筒、與照相機(jī)一體安裝的非替換式透鏡鏡筒。
另外，雖然實(shí)施例中的模糊修正裝置為在與光軸垂直的平面內(nèi)驅(qū)動模糊修正透鏡的透鏡移動式裝置，但不應(yīng)局限于此，也可以采用將CCD等攝像元件安裝在移動部上并且使該攝像元件移動的方式。
(2)設(shè)置在實(shí)施例的模糊修正裝置中的磁鐵的磁極的配置可以采用能夠使在接近的磁鐵之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩相互抵消的配置，但不應(yīng)局限于實(shí)施例的形式。
圖7A～7D以及圖8A～8D是表示實(shí)施例以及變形例的模糊修正裝置的圖。
圖7A表示第1實(shí)施例的模糊修正裝置10。
在圖7B的模糊修正裝置600中，代替圖7A所示的第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中的磁鐵61L、61R，設(shè)有S極、N極的配置分別與它們相反的磁鐵61L-0、61R-0。
在圖7C的模糊修正裝置610中，代替圖7A所示的第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中的磁鐵51L、51R，設(shè)有S極、N極的配置分別與它們相反的磁鐵51L-1、51R-1。
在圖7D的模糊修正裝置620中，代替圖7A所示的第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中的磁鐵51L、51R以及61L、61R，設(shè)有S極、N極的配置分別與它們相反的磁鐵51L-2、51R-2，以及磁鐵61L-2、61R-2。
如圖7A～7D所示，在模糊修正裝置10、600、610、620中，VCM50的磁鐵51與位置檢測部60的磁鐵61分別以含有光軸A1以及光軸A2的面為基準(zhǔn)面，以面對稱的方式設(shè)置S極、N極。
在圖8A的模糊修正裝置630中，代替圖7A所示的第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中的磁鐵51L和磁鐵61L，設(shè)有S極、N極的配置分別與它們相反的磁鐵51L-3、61L-3。
在圖8B的模糊修正裝置640中，代替圖7A所示的第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中的磁鐵51R和磁鐵61R，設(shè)有S極、N極的配置分別與它們相反的磁鐵51R-4、61R-4。
在圖8C的模糊修正裝置650中，代替圖7A所示的第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中的磁鐵51R以及磁鐵61R，設(shè)有S極、N極的配置分別與它們相反的磁鐵51R-5、61R-5。
在圖8D的模糊修正裝置660中，代替圖7A所示的第1實(shí)施例的模糊修正裝置10中的磁鐵51R以及磁鐵61L，設(shè)有S極、N極的配置分別與它們相反的磁鐵51R-6、61L-6。
由于在以上說明的圖7A～圖7D，圖8A～圖8D所示的各種模糊修正裝置中，在接近的磁極之間產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方向是相反的，因此，能夠獲得與實(shí)施例的模糊修正裝置相同的效果。
(3)雖然在第1實(shí)施例中，將VCM的磁鐵設(shè)置在固定部上，將位置檢測部的磁鐵設(shè)置在移動部上，但是，這些磁鐵的配置不應(yīng)局限于此，也可以與上述情況相反，將VCM的磁鐵設(shè)置在移動部上，將位置檢測部的磁鐵設(shè)置在固定部上。
雖然第3實(shí)施例的磁鐵與VCM、位置檢測部的磁鐵一起設(shè)置在移動部上，但是，這些磁鐵的配置不應(yīng)局限于此，也可以與上述情況相反，將它們設(shè)置固定部上。
權(quán)利要求
1.一種定位裝置，其特征在于，包含第1部件，其設(shè)有沿第1軸配置的第1磁鐵以及沿與上述第1軸交叉的第2軸配置的第2磁鐵；相對于上述第1部件而設(shè)置的第2部件；驅(qū)動部件，其具有設(shè)置在上述第1部件上的第1要素以及設(shè)置在上述第2部件上的第2要素，通過上述第1要素與上述第2要素之間的電磁作用，相對驅(qū)動上述第1部件和上述第2部件；第1檢測部，其與上述第1磁鐵協(xié)動來檢測與上述第1軸方向相關(guān)的上述第1部件與上述第2部件的相對移動；以及第2檢測部，其與上述第2磁鐵協(xié)動來檢測與上述第2軸方向相關(guān)的上述第1部件與上述第2部件的相對移動，以降低由上述第2磁鐵與上述第2要素的電磁耦合產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方式，配置上述第1磁鐵。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位裝置，其特征在于上述第2要素包含在與上述第1磁鐵間產(chǎn)生第1轉(zhuǎn)動力矩的第1驅(qū)動磁鐵以及第2驅(qū)動磁鐵，該第2驅(qū)動磁鐵在與上述第2磁鐵間產(chǎn)生含有方向與上述第1轉(zhuǎn)動力矩相反的成分的第2轉(zhuǎn)動力矩。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位裝置，其特征在于上述第1磁鐵設(shè)置成相對于上述第1驅(qū)動磁鐵，上述第2磁鐵設(shè)置成相對于上述第2驅(qū)動磁鐵。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位裝置，其特征在于上述第2要素包含在與上述第1磁鐵之間產(chǎn)生第1轉(zhuǎn)動力矩的第1軛鐵以及第2軛鐵，該第2軛鐵在與上述第2磁鐵之間產(chǎn)生含有方向與上述第1轉(zhuǎn)動力矩相反的成分的第2轉(zhuǎn)動力矩。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位裝置，其特征在于上述第2要素包含在與上述第1磁鐵之間產(chǎn)生第1轉(zhuǎn)動力矩的第1線圈以及第2線圈，該第2線圈在與上述第2磁鐵之間產(chǎn)生含有方向與上述第1轉(zhuǎn)動力矩相反的成分的第2轉(zhuǎn)動力矩。
6.一種模糊修正裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1所述的定位裝置；以及設(shè)置在上述第1部件以及上述第2部件中一個上的模糊修正光學(xué)系統(tǒng)。
7.一種模糊修正裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1所述的定位裝置；以及設(shè)置在上述第1部件以及上述第2部件中一個上的攝像元件。
8.一種電子設(shè)備，其特征在于設(shè)有權(quán)利要求6所述的模糊修正裝置。
9.一種電子設(shè)備，其特征在于設(shè)有權(quán)利要求7所述的模糊修正裝置。
10.一種含有可相對移動的第1部件和第2部件的定位裝置的制造方法，其特征在于，包括以下工序與磁極相關(guān)聯(lián)而在磁鐵的規(guī)定位置處形成標(biāo)記的工序；以及在上述第1部件和上述第2部件中的至少一個上配置利用上述標(biāo)記被標(biāo)記了的磁鐵。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的定位裝置的制造方法，其特征在于具有在對上述磁鐵賦予識別磁鐵的標(biāo)記的工序之前，在上述磁鐵上實(shí)施電鍍處理的工序。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的定位裝置的制造方法，其特征在于在使多個磁鐵重合的狀態(tài)下，賦予上述標(biāo)記。
13.一種含有可相對移動的第1部件和第2部件的定位裝置的制造方法，其特征在于，包括以下工序在規(guī)定的位置處對驅(qū)動磁鐵進(jìn)行標(biāo)記的工序，其中，所述驅(qū)動磁鐵通過與設(shè)置在上述第1部件或上述第2部件中的一個上的第1要素之間的電磁作用，相對驅(qū)動上述第1部件和上述第2部件；以及將上述被標(biāo)記了的驅(qū)動磁鐵設(shè)置在上述第1部件或上述第2部件中的另一個上的工序。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的定位裝置的制造方法，其特征在于具有在對上述磁鐵賦予識別磁鐵的標(biāo)記的工序之前，在上述驅(qū)動磁鐵上實(shí)施電鍍處理的工序。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的定位裝置的制造方法，其特征在于在使多個磁鐵重合的狀態(tài)下，賦予上述標(biāo)記。
16.根據(jù)權(quán)利要求6所述的模糊修正裝置，其特征在于上述驅(qū)動部件包括產(chǎn)生上述第2軸方向的驅(qū)動力的第1驅(qū)動部件和產(chǎn)生上述第1軸方向的驅(qū)動力的第2驅(qū)動部件，上述第1驅(qū)動部件設(shè)置成相對于上述第1磁鐵，上述第2驅(qū)動部件設(shè)置成相對于上述第2磁鐵。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的模糊修正裝置，其特征在于含有用于實(shí)現(xiàn)模糊修正動作的操作開關(guān)，與上述模糊修正光學(xué)系統(tǒng)的中心相比，上述第1驅(qū)動部件以及上述第1磁鐵設(shè)置在上述操作開關(guān)側(cè)，與上述模糊修正光學(xué)系統(tǒng)的中心相比，上述第2驅(qū)動部件以及上述第2磁鐵設(shè)置在上述操作開關(guān)側(cè)的相反側(cè)。
18.根據(jù)權(quán)利要求7所述的模糊修正裝置，其特征在于上述驅(qū)動部件包括產(chǎn)生上述第2軸方向的驅(qū)動力的第1驅(qū)動部件和產(chǎn)生上述第1軸方向的驅(qū)動力的第2驅(qū)動部件，上述第1驅(qū)動部件設(shè)置成相對于上述第1磁鐵，上述第2驅(qū)動部件設(shè)置成相對于上述第2磁鐵。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的模糊修正裝置，其特征在于含有用于實(shí)現(xiàn)模糊修正動作的操作開關(guān)，與上述攝像元件的中心相比，上述第1驅(qū)動部件以及上述第1磁鐵設(shè)置在上述操作開關(guān)側(cè)，與上述攝像元件的中心相比，上述第2驅(qū)動部件以及上述第2磁鐵設(shè)置在上述操作開關(guān)側(cè)的相反側(cè)。
20.根據(jù)權(quán)利要求10所述的定位裝置的制造方法，其特征在于上述磁鐵包括第1磁鐵和第2磁鐵，還包括使相對驅(qū)動上述第1部件和上述第2部件的驅(qū)動部件與上述第1磁鐵和第2磁鐵相對配置的工序。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的定位裝置的制造方法，其特征在于避開上述第1磁鐵及第2磁鐵與上述驅(qū)動部件相對的位置，在上述第1部件以及上述第2部件中的至少一個上設(shè)置模糊修正透鏡。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的定位裝置的制造方法，其特征在于以減小通過上述驅(qū)動部件與上述第2磁鐵的電磁耦合而產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方式，設(shè)置上述第1磁鐵。
23.一種包含可相對移動的第1部件和第2部件的定位裝置的制造方法，其特征在于，包括以下工序?qū)⒃谝?guī)定位置處形成有標(biāo)記的第1磁鐵以其極化方向沿第1軸的方式，設(shè)置在上述第1部件上，并且將在規(guī)定位置處形成有標(biāo)記的第2磁鐵以其極化方向沿與上述第1軸交叉的第2軸的方式，設(shè)置在上述第1部件上的工序；以及使相對驅(qū)動上述第1部件和上述第2部件的驅(qū)動部件與上述第1磁鐵及上述第2磁鐵相對而對其進(jìn)行配置。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的定位裝置的制造方法，其特征在于以減小通過上述驅(qū)動部件與上述第2磁鐵的電磁耦合而產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方式，配置上述第1磁鐵。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的定位裝置的制造方法，其特征在于上述驅(qū)動部件通過設(shè)置在上述第1部件上的第1要素與設(shè)置在上述第2部件上的上述第2要素之間的電磁作用，相對驅(qū)動上述第1部件和上述第2部件。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的定位裝置的制造方法，其特征在于以減小因上述第2磁鐵與上述第2要素的電磁耦合而產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方式，配置上述第1磁鐵。
27.根據(jù)權(quán)利要求23所述的定位裝置的制造方法，其特征在于上述標(biāo)記的顏色與上述第1磁鐵或上述第2磁鐵的表面顏色不同。
28.根據(jù)權(quán)利要求23所述的定位裝置的制造方法，其特征在于上述標(biāo)記為識別磁極的標(biāo)記。
29.根據(jù)權(quán)利要求23所述的定位裝置的制造方法，其特征在于，包括以下工序相對于上述第1磁鐵而設(shè)置第1檢測部的工序，其中，所述第1檢測部用于檢測與上述第1軸方向相關(guān)的上述第1部件與上述第2部件的相對移動；以及相對于上述第2磁鐵而設(shè)置第2檢測部的工序，其中，所述第2檢測部用于檢測與上述第2軸向相關(guān)的上述第1部件與上述第2部件的相對移動。
30.根據(jù)權(quán)利要求13所述的定位裝置的制造方法，其特征在于，包括將第1磁鐵以其極化方向沿第1軸的方式，設(shè)置在上述第1部件上，并且將第2磁鐵以其極化方向沿與上述第1軸交叉的第2軸的方式，設(shè)置在上述第1部件上的工序。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的定位裝置的制造方法，其特征在于，包括在上述第1磁鐵或上述第2磁鐵中的至少一個上賦予標(biāo)記的工序。
32.根據(jù)權(quán)利要求30所述的定位裝置的制造方法，其特征在于，上述驅(qū)動磁鐵包括在與上述第1磁鐵之間產(chǎn)生第1轉(zhuǎn)動力矩的第1驅(qū)動磁鐵以及第2驅(qū)動磁鐵，該第2驅(qū)動磁鐵在與上述第2磁鐵之間產(chǎn)生含有方向與上述第1轉(zhuǎn)動力矩相反的成分的第2轉(zhuǎn)動力矩。
33.根據(jù)權(quán)利要求30所述的定位裝置的制造方法，其特征在于，上述第1要素包括在與上述第1磁鐵之間產(chǎn)生第1轉(zhuǎn)動力矩的第1軛鐵以及第2軛鐵，該第2軛鐵在與上述第2磁鐵之間產(chǎn)生含有方向與上述第1轉(zhuǎn)動力矩相反的成分的第2轉(zhuǎn)動力矩。
34.根據(jù)權(quán)利要求13所述的定位裝置的制造方法，其特征在于上述標(biāo)記的顏色與上述驅(qū)動磁鐵的表面顏色不同。
35.根據(jù)權(quán)利要求13所述的定位裝置的制造方法，其特征在于上述標(biāo)記為識別磁極的標(biāo)記。
全文摘要
本發(fā)明包括移動部(30)，其設(shè)有分別沿第1軸以及第2軸配置的一對磁鐵(61L、61R)；相對于移動部設(shè)置的固定部(20)；以及音圈電機(jī)(VCM)，其用于通過與分別設(shè)置在移動部和固定部上的線圈以及驅(qū)動磁鐵的電磁作用而相對驅(qū)動移動部和固定部，一個磁鐵以降低另一磁鐵與音圈電機(jī)的電磁耦合所產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動力矩的方式設(shè)置。
文檔編號H04N5/232GK101093340SQ20071011009
公開日2007年12月26日 申請日期2007年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月22日
發(fā)明者北野賢一 申請人:株式會社尼康