透鏡陣列、曝光頭及圖像形成裝置的制作方法

文檔序號：7944173閱讀：140來源：國知局

專利名稱：透鏡陣列、曝光頭及圖像形成裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及使用透鏡將光成像的透鏡陣列、具備該透鏡陣列的曝光頭及具備該曝光頭的圖像形成裝置。
背景技術：
作為這樣的曝光頭，例如在專利文獻l的圖2等中所記載一樣，公知的有將大致圓形的透鏡在長度方向上排列多個的線頭(linehead)。在該線頭中，在長度方向上以規(guī)定的間距排列有透鏡，各透鏡將從發(fā)光元件入射的光進行成像。還有，各透鏡利用成像的光將感光體鼓等潛影擔載體曝光，從而形成潛影。
專利文獻1日本特開平6—278314號公報
還有，從良好地進行曝光的觀點來說，入射于透鏡的光的量多為佳。因此，例如，考慮了增大透鏡。然而，上述以往技術的透鏡為大致圓形，因此，在透鏡變大的情況下，長度方向(第一方向)上的透鏡間距變大，可能導致得不到期望的析像度。即，在以往的技術中，相對于向透鏡的入射光量的增多，析像度有時反而降低。

發(fā)明內容
本發(fā)明是鑒于上述問題而做成的，其目的在于提供在高析像度下也能夠將大量的光取入透鏡，從而能夠進行良好的曝光的技術。
本發(fā)明的曝光頭為了實現上述目的，其特征在于，具備透鏡陣列，其在第一方向上配設有透鏡；發(fā)光元件基板，其配設有發(fā)出利用透鏡成像的光的發(fā)光元件，其中，第一方向的透鏡的長度L1及與第一方向正交的第二方向的透鏡的長度L2具有下述式的關系，S卩1<L2/L1。
另外，本發(fā)明的透鏡陣列，為了實現上述目的，其特征在于，具備透鏡，其配設于第一方向上，其中，第一方向的透鏡的長度L1及與第一方向正交的第二方向的透鏡的長度L2具有下述式的關系，g卩1<L2/L1。另外，本發(fā)明的圖像形成裝置為了實現上述目的，其特征在于，具備曝光頭，該曝光頭具有透鏡陣列，其在第一方向上配設有透鏡；發(fā)光元件基板，其配設有發(fā)出利用透鏡成像的光的發(fā)光元件，其中，第一方向的
透鏡的長度L1及與第一方向正交的第二方向的透鏡的長度L2具有下述式的關系，艮口 1<L2/L1。
在這樣構成的發(fā)明(曝光頭、透鏡陣列、圖像形成裝置)中，第一方
向上的透鏡的長度Ll及與第一方向正交或大致正交的第二方向上的透鏡的長度L2滿足下述式的關系，S卩1<L2/L1。從而，不會擴大在第一方向上配設的透鏡的間距，能夠在第二方向上將大量的光量取入透鏡，從而能夠進行良好的曝光。
另外，第一方向上的透鏡的長度Ll及第二方向上的透鏡的長度L2滿足下述式的關系也可，即L2/L1<1.2。通過這樣構成，抑制第一方向上的透鏡的長度Ll和第二方向上的透鏡的長度L2之差，能夠容易地形成散光少的透鏡，因此，能夠簡便地實現良好的曝光。
另外，對于在發(fā)光元件和透鏡之間具備光圈的結構，也能夠適用本發(fā) 明。還有，如上所述，在本發(fā)明中，透鏡具備能夠在第二方向上取入大量的光量的特性，另一方面，光圈遮蔽從發(fā)光元件朝向透鏡的光的一部分。從而，從有效地應用本發(fā)明的透鏡的特性的觀點來說，為了抑制光圈產生的無用的遮光，有效利用來自發(fā)光元件的光，光圈的形狀適合有利于在第二方向上將大量的光量取入透鏡的形狀。因此，第一方向的光圈的長度 Lal及第二方向的光圈的La2滿足下述式的關系也可，即KLa2/Lal。由此，能夠在第二方向上將更多的光量取入透鏡，能夠進行良好的曝光。
此時，第一方向的透鏡的長度L1、第二方向的透鏡的長度L2、第一方向的光圈的長度Lal、第二方向的光圈的La2滿足下述式也可，艮口 L2/Ll=La2/Lal。由此，能夠更有效地利用來自發(fā)光元件的光。
進而，透鏡的形狀與光圈的形狀相似也可。由此，能夠更有效地利用來自發(fā)光元件的光。
還有，光圈的形狀可以為橢圓形。
另外，可以將透鏡構成為來自發(fā)光元件的光的入射面為凸面。此時，
5光圈配設于比透鏡的頂點更靠像面?zhèn)?，由此，能夠進一步提高來自發(fā)光元件的光的利用效率。
另外，透鏡為自由曲面透鏡也可。因為通過采用自由曲面透鏡，提高透鏡的成像特性，能夠實現更良好的曝光。
本發(fā)明的線頭為了實施上述目的，其特征在于，具有配置有多個將多個發(fā)光元件作為一組的發(fā)光元件組的頭基板；具有在第一方向上排列多個對應每一個發(fā)光元件組而設置的透鏡的透鏡行，來自發(fā)光元件組的光入射于對應該發(fā)光元件組而設置的所述透鏡的透鏡陣列，在發(fā)光元件組中，在所述第一方向上配置了多個所述發(fā)光元件的發(fā)光元件行，在與所述第一方向正交或大致正交的第二方向上配置有n行(n為1以上的整數)，各發(fā) 光元件行的在第一方向上配置的發(fā)光元件的個數為m個以上(m為2以上且大于n的整數)，將透鏡的第一方向的長度設為L1，將透鏡的第二方向的長度設為L2時，滿足下述式L2〉L1。
另外，本發(fā)明的圖像形成裝置為了實現上述目的，其特征在于，具備線頭和利用線頭曝光的潛影擔載體，該線頭具有配置有多個將多個發(fā)光元件作為一組的發(fā)光元件組的頭基板；具有在第一方向上排列多個對應每一個發(fā)光元件組而設置的透鏡的透鏡行，來自發(fā)光元件組的光入射于對應該發(fā)光元件組而設置的所述透鏡的透鏡陣列，在發(fā)光元件組中，在所述第一方向上配置了多個所述發(fā)光元件的發(fā)光元件行，在與所述第一方向正交或大致正交的第二方向上配置有n行(n為1以上的整數)，各發(fā)光元件行的在第一方向上配置的發(fā)光元件的個數為m個以上(m為2以上且大于n 的整數)，將透鏡的第一方向的長度設為L1，將透鏡的第二方向的長度設為L2時，滿足下述式L2〉L1。
在這樣構成的發(fā)明(線頭、圖像形成裝置)中，設置有配置了多個將多個發(fā)光元件作為一組的發(fā)光元件組的頭基板。在該發(fā)光元件組中，在所述第一方向上配置了多個所述發(fā)光元件的發(fā)光元件行，在與所述第一方向正交或大致正交的第二方向上配置有n行(n為1以上的整數)，各發(fā)光元件行的在第一方向上配置的發(fā)光元件的個數為m個以上(m為2以上且大于n的整數)。另外，在透鏡陣列中，設置有對應每一個發(fā)光元件組而設置的透鏡在第一方向上排列多個的透鏡行，來自發(fā)光元件組的光入射于對
6應該發(fā)光元件組而設置的透鏡。還有，在本發(fā)明中，將透鏡的第一方向的
長度設為L1，將透鏡的第二方向的長度設為L2時，滿足下述式L2〉L1。
即，透鏡具有第二方向比第一方向長的形狀。從而，不會擴大在第一方向上排列的多個透鏡的透鏡間距，透鏡能夠在第二方向上將更多的光取入。從而，在高析像度下也能夠將大量的光取入透鏡，能夠進行良好的曝光。
另外，透鏡陣列具有透鏡陣列基板，相對于透鏡陣列基板形成有透鏡也可。這樣，通過透鏡陣列基板和透鏡構成透鏡陣列，能夠在透鏡陣列基板和透鏡中選擇其他基材等，從而提高透鏡陣列的結構的自由度。從而，能夠根據對線頭要求的規(guī)格，適當地設計透鏡陣列，能夠更簡便地實現利用線頭的更良好的曝光。
另外，透鏡陣列基板由玻璃形成也可。即，玻璃的線膨脹系數比較小。從而，通過利用玻璃形成透鏡陣列基板，能夠抑制溫度變化引起的透鏡陣列的變形，能夠不依賴于溫度而實現良好的曝光。
另外，利用光固化性樹脂形成透鏡也可。即，光固化性樹脂通過照射光而固化。從而，通過利用該光固化性樹脂形成透鏡，能夠簡便地制造透鏡陣列，因此，能夠抑制線頭的成本。
另外，透鏡為自由曲面透鏡也可。因為通過采用自由曲面透鏡，能夠提高透鏡的成像特性，能夠實現更良好的曝光。
另外，對于發(fā)光元件為有機EL元件的線頭，尤其適合適用本發(fā)明。即，作為發(fā)光元件使用有機EL元件的情況下，與使用LED等的情況相比，發(fā)光元件的光量少。尤其，將底部發(fā)光型有機EL元件用作發(fā)光元件的情況下更少。因此，從實現良好的曝光的觀點來說，適合適用本發(fā)明，從而將更多的光取入透鏡。

圖1是在說明書中使用的用語的說明圖。
圖2是在說明書中使用的用語的說明圖。
圖3是表示本發(fā)明的圖像形成裝置的一例的圖。
圖4是表示圖3的圖像形成裝置的電結構的圖。
圖5是表示本實施方式的線頭的概略的立體圖。圖6是圖5所示的線頭的寬度方向部分剖面圖。圖7是表示頭基板的背面的結構的圖。
圖8是表示在頭基板背面設置的發(fā)光元件組的結構的圖。
圖9是本實施方式的透鏡陣列的俯視圖。
圖io是透鏡陣列及頭基板等長度方向的剖面圖。
圖11是用于說明利用線頭形成的光點的立體圖。
圖12是表示基于上述線頭的光點形成動作的圖。
圖13是表示本發(fā)明的第二實施方式的局部剖面圖。
圖14是表示第二實施方式的光圈的結構的局部剖面圖。
圖15是表示發(fā)光元件組的其他結構的俯視圖。
圖16是表示配置了多個圖15的發(fā)光元件組的頭基板背面的圖。
圖n是表示線頭的另一實施方式的立體圖。
圖18是圖17所示的線頭的寬度方向局部剖面圖。圖19是表示另一實施方式中的發(fā)光元件組和透鏡的關系的俯視圖。圖20是表示在圖17 圖19的結構中代替遮光部件而設置有光圈的結構的圖。
圖21是表示第一實施例中的光學系的圖。
圖22是表示第一實施例中的光學系的圖。
圖23是表示第一實施例中的光學系各要素的圖。
圖24是表示圖21所示的第一實施例的光學系的數據的圖。
圖25是表示XY多項式面的定義式的圖。
圖26是表示第一實施例的光學系的面S4的系數值的圖。
圖27是表示第一實施例的光學系的面S7的系數值的圖。
圖28是表示第二實施例中的光學系的圖。
圖29是表示第二實施例中的光學系的圖。
圖30是表示第二實施例中的光學系各要素的圖。
圖31是表示圖28及圖29所示的光學系的數據的圖。
圖32是表示第二實施例的光學系的面S4的系數值的圖。
圖33是表示第二實施例的光學系的面S7的系數值的圖。
附圖標號說明21Y、 21K—感光體鼓(潛影擔載體)；29 —線頭；293
8一頭基板；295 —發(fā)光元件組；2951—發(fā)光元件；299、 299A、 299B —透鏡陣列；2991—透鏡陣列基板；LS、 LS1、 LS2 —透鏡；SP —光點；Lsp 一光點潛影；MD —主掃描方向(第一方向)；SD —副掃描方向(第二方向)；LGD—長度方向(第一方向)；LTD—寬度方向(第二方向)。
具體實施例方式
以下，首先說明在本說明書中使用的用語(參照"A.用語的說明" 項)。接著該用語的說明，說明本發(fā)明的實施方式(參照"B.實施方式" 項等)。
A.用語的說明
圖1及圖2是在本說明書中使用的用語的說明圖。在此，使用這些圖，對在本說明書中使用的用語進行整理。在本說明書中，將感光體鼓21的表面(像面IP)的輸送方向定義為副掃描方向SD，將與該副掃描方向SD 正交或大致正交的方向定義為主掃描方向MD。另外，線頭29以其長度方向LGD對應于主掃描方向MD，其寬度方向LTD對應于副掃描方向SD 的方式，配置于感光體鼓21的表面(像面IP)。
將以與透鏡陣列299具有的多個透鏡LS —對一的對應關系，配置于頭基板293的多個(在圖1及圖2中為8個)發(fā)光元件2951的集合定義為發(fā)光元件組295。 g卩，在頭基板293中，由多個發(fā)光元件2951構成的發(fā) 光元件組295分別對應于多個透鏡LS而配置。另外，將自發(fā)光元件組295 的光束通過與該發(fā)光元件組295對應的透鏡LS成像，形成于像面IP的多個光點SP的集合定義為光點組SG。即，能夠以一對一對應于多個發(fā)光元件組295，形成多個光點組SG。另外，在各光點組SG中，將主掃描方向 MD及副掃描方向SD上的最上游的光點特別地定義為第一光點。還有，將對應于第一光點的發(fā)光元件2951特別地定義為第一發(fā)光元件。
另外，如圖2的"像面上"的欄所示，進行定義光點組行SGR、光點組列SGC。即，將在主掃描方向MD上排列的多個光點組SG定義為光點組行SGR。還有，多個行的光點組行SGR以規(guī)定的光點組行間距Psgr排列配置于副掃描方向SD上。另外，將在副掃描方向SD上以光點組行間距Psgr且在主掃描方向MD上以光點組間距Psg排列的多個(在相同圖中
9為三個)光點組SG定義為光點組列SGC。還有，光點組行間距Psgr是在副掃描方向SD上相互鄰接的兩個光點組行SGR各自的幾何重心的、在副掃描方向SD上的距離。另外，光點組間距Psg是在主掃描方向MD上相互鄰接的兩個光點組SG各自的幾何重心的、在主掃描方向MD上的距離。
如相同圖的"透鏡陣列"的欄所示，進行定義透鏡行LSR、透鏡列LSC。即，將在長度方向LGD上排列的多個透鏡LS定義為透鏡行LSR。還有，多個行的透鏡行LSR以規(guī)定的透鏡行間距Plsr排列配置于寬度方向LTD 上。另外，將在寬度方向LTD上以透鏡行間距Plsr且在長度方向LGD上以透鏡間距Pls排列的多個(在相同圖中為三個)透鏡LS定義為透鏡列 LSC。還有，透鏡行間距Plsr是在寬度方向LTD上相互鄰接的兩個透鏡行 LSR各自的幾何重心的、在寬度方向LTD上的距離。另外，透鏡間距Pls 是在長度方向LGD上相互鄰接的兩個透鏡LS各自的幾何重心的、在長度方向LGD上的距離。
如相同圖的"頭基板"的欄所示，進行定義發(fā)光元件組行295R、發(fā)光元件組列295C。 gp，將在長度方向LGD上排列的多個發(fā)光元件組295定義為發(fā)光元件組行295R。還有，多個行的發(fā)光元件組行295R以規(guī)定的發(fā) 光元件組行間距Pegr排列配置于寬度方向LTD上。另外，將在寬度方向 LTD上以發(fā)光元件組行間距Pegr且在長度方向LGD上以發(fā)光元件組間距 Peg排列的多個(在相同圖中為三個)發(fā)光元件組295定義為發(fā)光元件組列295C。還有，發(fā)光元件組行間距Pegr是在寬度方向LTD上相互鄰接的兩個發(fā)光元件組行295R各自的幾何重心的、在寬度方向LTD上的距離。另外，發(fā)光元件組間距Peg是在長度方向LGD上相互鄰接的兩個發(fā)光元件組295各自的幾何重心的、在長度方向LGD上的距離。
如相同圖的"發(fā)光元件組"的欄所示，進行定義發(fā)光元件行2951R、發(fā)光元件列2951C。即，在各發(fā)光元件組295中，將在長度方向LGD上排列的多個發(fā)光元件2951定義為發(fā)光元件行2951R。還有，多個行的發(fā) 光元件行2951R以規(guī)定的發(fā)光元件行間距Pelr排列配置于寬度方向LTD 上。另外，將在寬度方向LTD上以發(fā)光元件行間距Pelr且在長度方向LGD 上以發(fā)光元件間距Pel排列的多個(在相同圖中為兩個)發(fā)光元件2951 定義為發(fā)光元件列2951C。還有，發(fā)光元件行間距Pelr是在寬度方向LTD
10上相互鄰接的兩個發(fā)光元件行2951R各自的幾何重心的、在寬度方向LTD 上的距離。另外，發(fā)光元件間距Pel是在長度方向LGD上相互鄰接的兩個發(fā)光元件2951各自的幾何重心的、在長度方向LGD上的距離。
如相同圖的"光點組"的欄所示，進行定義光點行SPR、光點列SPC。即，在各光點組SG中，將在長度方向LGD上排列的多個光點SP定義為光點行SPR。還有，多個行的光點行SPR以規(guī)定的光點行間距Pspr排列配置于寬度方向LTD上。另外，將在寬度方向LTD上以發(fā)光元件行間距 Pdr且在長度方向LGD上以發(fā)光元件間距Pd排列的多個(在相同圖中為兩個)光點定義為光點列SPC。還有，光點行間距Pspr是在副掃描方向 SD上相互鄰接的兩個光點行SPR各自的幾何重心的、在副掃描方向SD 上的距離。另外，光點間距Psp是在主掃描方向MD上相互鄰接的兩個光點SP各自的幾何重心的、在長度方向LGD上的距離。
B—l.第一實施方式
圖3是表示裝配了作為本發(fā)明的適用對象的線頭的圖像形成裝置的一例的圖。另外，圖4是表示圖3的圖像形成裝置的電結構的圖。該裝置是能夠有選擇地執(zhí)行重合黑色(K)、青色(C)、品紅色(M)、黃色(Y) 四色的調色劑，形成彩色圖像的彩色模式、和僅使用黑色(K)的調色劑，形成黑白圖像的黑白模式的圖像形成裝置。還有，圖3是與彩色模式執(zhí)行時對應的附圖。在該圖像形成裝置中，若從主機等外部裝置向具有CPU 或存儲器等主控制器MC賦予圖像形成指令，則該主控制器MC向引擎控制器EC賦予控制信號等，并且將與圖像形成指令對應的視頻數據VD向頭控制器HC賦予。另外，該頭控制器HC基于來自主控制器MC的視頻數據VD和來自引擎控制器EC的垂直同步信號Vsync及參數值，控制各色的線頭29。由此，引擎部EG執(zhí)行規(guī)定的圖像形成動作，在復寫紙、轉印紙、紙張及OHP用透明片等片上形成與圖像形成指令對應的圖像。
在圖像形成裝置具有的外殼主體3內設置有內置電源電路基板、主控制器MC、弓I擎控制器EC及頭控制器HC的電裝品箱5。另夕卜，圖像形成單元7、轉印帶單元8及供紙單元11也配設于外殼主體3內。另外，在圖 3中，在外殼主體3內右側配設有二次轉印單元12、定影單元13、片引導部件15。還有，供紙單元11構成為相對于裝置主體1裝卸自如。還有，關于該供紙單元11及轉印帶單元8，形成為能夠分別卸下進行修理或更換的結構。
圖像形成單元7具備形成多個不同顏色的圖像的四個圖像形成站Y (黃色用)、M (品紅色用)、C (青色用)、K (黑色用)。另外，各圖像形
成站Y、 M、 C、 K設置有在主掃描方向MD上具有規(guī)定長度的表面的圓筒形的感光體鼓21。還有，各圖像形成站Y、 M、 C、 K分別將對應的顏色的調節(jié)劑像形成于感光體鼓21的表面。感光體鼓配置成軸向與主掃描方向MD大致平行。另外，各感光體鼓21分別與專用的驅動馬達連接，向圖箭頭D21的方向以規(guī)定速度被旋轉驅動。由此，感光體鼓21的表面在與主掃描方向MD正交或大致正交的副掃描方向SD上被輸送。另外，在感光體鼓21的周圍沿旋轉方向配設有帶電部23、線頭29、顯影部25 及感光體清潔器27。還有，通過這些功能部執(zhí)行帶電動作、潛影形成動作及調色劑顯影動作。從而，在彩色模式執(zhí)行時，使由所有的圖像形成站Y、 M、 C、 K形成的調節(jié)劑像與轉印帶單元8具有的轉印帶81重合，形成彩色圖像，并且在黑白模式執(zhí)行時，進行使用由圖像形成站K形成的調節(jié)劑像，形成黑白圖像。還有，在圖3中，圖像形成單元7的各圖像形成站的結構相互相同，因此，為了便于圖示，僅對一部分的圖像形成站標注符號，對于其他的圖像形成站，省略符號。
帶電部23具備表面由彈性橡膠構成的帶電輥。該帶電輥在帶電位置與感光體鼓21的表面抵接而從動旋轉，伴隨感光體鼓21的旋轉動作，向從動方向以周向速度相對于感光體鼓21從動旋轉。另外，該帶電輥與帶電偏壓產生部(省略圖示)連接，接受來自帶電偏壓產生部的帶電偏壓的供電，在帶電部23和感光體鼓21抵接的帶電位置使感光體鼓21的表面帶電。
線頭29以其長度方向與主掃描方向MD對應并且其寬度方向與副掃描方向SD對應的方式相對于感光體鼓21配置，線頭29的長度方向與主掃描方向MD大致平行。線頭29具備在長度方向上排列配置的多個發(fā)光元件，并且配置為從感光體鼓21遠離。還有，從這些發(fā)光元件向利用帶電部23帶電的感光體鼓21的表面照射光，在該表面形成靜電潛影。
顯影部25具有在表面擔載調色劑的顯影輥251。還有，通過從與顯影輥251電連接的顯影偏壓部(省略圖示)向顯影輥251施加的顯影偏壓，
在顯影輥251和感光體鼓21抵接的顯影位置，帶電調色劑從顯影輥251 向感光體鼓21移動，使得由線頭29形成的靜電潛影明顯化。
這樣，在上述顯影位置被明顯化的調節(jié)劑像在感光體鼓21的旋轉方向D21上被輸送后，在之后詳述的轉印帶81和感光體鼓21抵接的一次轉印位置TR1 —次轉印于轉印帶81 。
另外，在該實施方式中，在感光體鼓21的旋轉方向D21的一次轉印位置TR1的下游側且?guī)щ姴?3的上游側，與感光體鼓21的表面抵接而設置有感光體清潔器27。該感光體清潔器27通過與感光體鼓的表面抵接，清潔除去在一次轉印后殘留于感光體鼓21的表面的調色劑。
轉印帶單元8具備驅動輥82;在圖3中配設于驅動輥82的左側的從動輥83 (板對置輥)；在這些輥上張設的且向圖示箭頭D81的方向(輸送方向)被循環(huán)驅動的轉印帶81。另外，轉印帶單元8在轉印帶81的內側具備在感光體盒裝配時，與各圖像形成站Y、 M、 C、 K具有的感光體鼓21分別以一對一對置配置的、四個一次轉印輥85Y、 85M、 85C、 85K。這些一次轉印輥85分別與一次轉印偏壓產生部(省略圖示)電連接。還有，如后所述，在彩色模式執(zhí)行時，如圖3所示，通過將所有的一次轉印輥85Y、 85M、 85C、 85K定位于圖像形成站Y、 M、 C、 K側，將轉印帶 81推向圖像形成站Y、 M、 C、 K分別具有的感光體鼓21并與其抵接，在各感光體鼓21和轉印帶81之間形成一次轉印位置TR1。還有，通過以適當的時序從上述一次轉印偏壓產生部向一次轉印輥85施加一次轉印偏壓，將在各感光體鼓21的表面上形成的調節(jié)劑像在與各自對應的一次轉印位置TR1轉印于轉印帶81的表面，從而形成彩色圖像。
另一方面，在黑白模式執(zhí)行時，使四個一次轉印輥85中彩色一次轉印輥85Y、 85M、 85C從分別對置的圖像形成站Y、 M、 C、遠離，并且僅使黑白一次轉印輥85K與圖像形成站K抵接，由此，僅使黑白圖像形成站K與轉印帶81抵接。其結果，僅在黑白一次轉印輥85K和圖像形成站 K之間形成一次轉印位置TR1。還有，通過以適當的時序從所述一次轉印偏壓產生部向黑白一次轉印輥85K施加一次轉印偏壓，將在各感光體鼓 21的表面上形成的調節(jié)劑像在一次轉印位置TR1轉印于轉印帶81表面，從而形成黑白圖像。
進而，轉印帶單元8具備配設于黑白一次轉印輥85K的下游側且驅
動輥82的上游側的下游引導輥86。另外，該下游引導輥86在黑白一次轉印輥85K與圖像形成站K的感光體鼓21抵接而形成的一次轉印位置TR1 處的一次轉印輥85K、和感光體鼓21的共通內切線上與轉印帶81抵接。
驅動輥82將轉印帶81向圖示箭頭D81的方向循環(huán)驅動，并且同時作為二次轉印輥121的墊輥。在驅動輥82的周面形成有厚度3mm左右、體積電阻率為1000kQ ，cm以下的橡膠層，經由金屬制的軸接地，由此，形成為從省略圖示的二次轉印偏壓產生部經由二次轉印輥121供給的二次轉印偏壓的導電路徑。通過這樣在驅動輥82設置高摩擦且具有沖擊吸收性的橡膠層，片材進入驅動輥82和二次轉印輥121的抵接部分(二次轉印位置TR2)時的沖擊難以向轉印帶81傳遞，從而能夠防止畫質的劣化。
供紙單元11具備供紙部，該供紙部具有能夠將片材層疊保持的供紙盒77;從供紙盒77將片材一張張供給的拾紙輥79。利用拾紙輥79從供紙部供給的片材在對置輥對80中調節(jié)供紙時序后，沿片材引導部件15 供給于二次轉印位置TR2。
二次轉印輥121設置為相對于轉印帶81遠離抵接自如，利用二次轉印輥驅動機構(省略圖示)被遠離抵接驅動。定影單元13具有內置鹵素加熱器等放熱體而旋轉自如的加熱輥131;將該加熱輥131按壓施力的加壓部132。還有，在表面二次轉印有圖像的片材通過片材引導部件15，引導至由加熱輥131和加壓部132的加壓帶1323形成的捏夾部，在該捏夾部以規(guī)定的溫度熱定影圖像。加壓部132包括兩個輥1321、 1322、和在張設于這些上的加壓帶1323。還有，通過將加壓帶1323的表面中由兩個輥1321、 1322張開的帶張開面壓緊于加熱輥131的周面，使由加熱輥 131和加壓帶1323形成的捏夾部變寬。另外，這樣接受了定影處理的片材輸送至在外殼主體3的上表面部設置的排紙托架4。
另外，在該裝置中，與板對置輥83對置而配設有清潔部71。清潔部 71具有清潔板711、廢調色劑箱713。清潔板711通過經由轉印帶81將其前端部抵接于板對置輥83，從而除去在二次轉印后殘留于轉印帶的調色劑或紙粉等異物。還有，這樣除去的異物被回收于廢調色劑箱713。另外，
14清潔板711及廢調色劑箱713與板對置輥83 —體地構成。從而，如下述說明一樣，在板對置輥83移動的情況下，清潔板711及廢調色劑箱713 也與板對置輥83—同移動。
圖5是表示本實施方式的線頭的概略的立體圖。另外，圖6是圖5所示的線頭的寬度方向局部剖面圖，所述剖面是與透鏡的光軸平行的剖面。如上所述，以其長度方向LGD對應于主掃描方向MD，并且其寬度方向 LTD對應于副掃描方向SD的方式，將線頭29相對于感光體鼓21而配置。還有，長度方向LGD和寬度方向LTD相互正交或大致正交。如后所述，在該線頭29中，在頭基板293形成有多個發(fā)光元件，各發(fā)光元件朝向感光體鼓21的表面照射光束。因此，在本說明書中，將與長度方向LGD及寬度方向LTD正交的方向即從發(fā)光元件朝向感光體鼓表面的方向作為光束的前進方向Doa。該光束的前進方向Doa與后述的光軸OA平行或大致平行。
線頭29具備箱291，并且在所述箱291的長度方向LGD的兩端設置有定位銷2911和螺釘插入孔2912。還有，通過將所述定位銷2911嵌入定位孔(省略圖示)，將線頭29相對于感光體鼓21定位，其中，所述定位孔是在覆蓋感光體鼓21并且相對于感光體鼓21定位的感光體罩(省略圖示)上沖孔的定位孔。還有，進而，通過經由螺釘插入孔2912將固定螺釘擰入感光體罩的螺紋孔(省略圖示)而固定，將線頭29相對于感光體鼓21進行定位固定。
在箱291的內部配置有頭基板293、遮光部件297、及兩片透鏡陣列 299 (299A、 299B)。頭基板293的表面293_h與箱291的內部抵接，另一方面，頭基板293的背面293—t與背面蓋2913抵接。該背面蓋2913 通過固定器件2914經由頭基板293按壓于箱291內部。g卩，固定器件2914 具有將背面蓋2913按壓于箱291內部側(圖6中的上側)的彈性力，并通過利用所述彈性力而按壓背面蓋，將箱291的內部以光密性地(換而言之，從箱291內部不漏光及光不從箱291的外部進入地)密閉。還有，固定器件2914設置在箱291的長度方向LGD上的多個位置。
在頭基板293的背面293 —t設置有將多個發(fā)光元件作為一個組的發(fā)光元件組295。頭基板293由玻璃等光透過性部件形成，發(fā)光元件組295的
15各發(fā)光元件射出的光束能夠從頭基板293的背面293—t向表面293—h透過。該發(fā)光元件是底部發(fā)光(bottom emission)型有機EL (Elec加一 Luminescence)元件，并被密封部件294覆蓋。該頭基板293的背面293 一t上的發(fā)光元件的配置的詳細情況如下所述。
圖7是表示頭基板的背面的結構的圖，相當于從頭基板的表面觀察背面的情況。另外，圖8是表示在頭基板背面設置的發(fā)光元件組的結構的圖。如圖7所示，發(fā)光元件組295將八個發(fā)光元件2951作為一組。還有，在各發(fā)光元件組295中，八個發(fā)光元件2951如下所述地配置。g卩，如圖8 所示，在發(fā)光元件組295中，沿長度方向LGD排列四個發(fā)光元件2951，構成發(fā)光元件行2951R，并且兩個發(fā)光元件行2951R以發(fā)光元件行間距 Pelr排列設置于寬度方向LTD上。另外，各發(fā)光元件行2951R在長度方向LGD上相互錯開發(fā)光元件間距Pel程度，各發(fā)光元件2951的長度方向 LGD上的位置互不相同。這樣構成的發(fā)光元件組295在長度方向LGD上具有長度方向寬度Wegg，并且在寬度方向LTD上具有寬度方向寬度Wegt，長度方向寬度Wegg比寬度方向寬度Wegt長。這樣，在本實施方式中，在各發(fā)光元件行2951R中，在長度方向LGD上排列的發(fā)光元件2951的個數為m (=4)個，在發(fā)光元件組295中，在寬度方向LTD上排列的發(fā)光元件行2951R的個數為n (=2)。
另外，在頭基板293的背面293—t上，配置有多個這樣構成的發(fā)光元件組295。 §卩，在寬度方向LTD上相互不同的位置配置三個發(fā)光元件組 295，構成發(fā)光元件組列295C，并且，多個發(fā)光元件組列295C沿長度方向LGD排列。在各發(fā)光元件組列295C中，三個發(fā)光元件組295配置為在長度方向LGD上相互錯開發(fā)光元件組間距Peg程度，其結果，各發(fā)光元件組295的長度方向LGD上的位置PTE相互不同。換而言之，在頭基板 293的背面293—t上，在長度方向LGD上排列多個發(fā)光元件組295，構成發(fā)光元件組行295R,并且，三行的發(fā)光元件組行295R設置于寬度方向 LTD上。另外，各發(fā)光元件組行295R配置為在長度方向LGD上相互錯開發(fā)光元件組間距Peg程度，其結果，各發(fā)光元件組295的長度方向LGD 上的位置PTE相互不同。這樣，在本實施方式中，在頭基板293上，多個發(fā)光元件組295以二維配置。還有，在相同圖中，發(fā)光元件組295的位置
16200910003724.0
以發(fā)光元件組295的重心位置為代表，發(fā)光元件組295的長度方向LGD 上的位置PTE由從發(fā)光元件組295的位置沿長度方向軸LGD下劃的垂線的底部點表示。
這樣，形成于頭基板293的各發(fā)光元件2951例如接受來自TFT (Thin Film Transistor)電路等的驅動，射出相互相等的波長的光束。該發(fā)光元件 2951的發(fā)光面是所謂的完全漫射面光源，從發(fā)光面射出的光束按照朗伯余弦定律。
返回圖5、圖6，繼續(xù)說明。在頭基板293的表面293—h上抵接配置有遮光部件297。在遮光部件297對應每一個多個發(fā)光元件組295而設置有導光孔2971 (換而言之，與多個發(fā)光元件組295 —對一設置有多個導光孔2971)。各導光孔2971作為在光束的前進方向Doa上貫通的孔，形成于遮光部件297。另外，在遮光部件297的上側(頭基板293的相反側) 沿光束的前進方向Doa排列配置有兩片透鏡陣列299。
這樣，在光束Doa的前進方向上，在發(fā)光元件組295和透鏡陣列299 之間，配置有按發(fā)光元件組295每一個設置有導光孔2971的遮光部件297。從而，從發(fā)光元件組295發(fā)出的光束通過與該發(fā)光元件組295對應的導光孔2971，朝向透鏡陣列299。相反，從發(fā)光元件組295射出的光束中朝向與該發(fā)光元件組295對應的導光孔2971以外的光束被遮光部件297遮蔽。這樣，從一個發(fā)光元件組295發(fā)出的光均經由同一導光孔2971而朝向透鏡陣列299，并且通過遮光部件297，防止從不同的發(fā)光元件組295發(fā)出的光束之間的干涉。
圖9是本實施方式中的透鏡陣列的俯視圖，相當于從像面?zhèn)?光束的前進方向Doa側)觀察透鏡陣列的情況。還有，相同圖中的各透鏡LS形成于透鏡陣列基板2991的表面2991—h，相同圖示出了該透鏡陣列基板表面2991—h的結構。在透鏡陣列299中，按發(fā)光元件組295每一個設置有透鏡LS。即，在透鏡陣列299中，配置在寬度方向LTD的不同位置配置的三個透鏡LS，構成透鏡列LSC，并且，多個透鏡列LSC沿寬度方向LTD 排列。在該透鏡列LSC中，配置為三個透鏡在長度方向LGD上相互錯開透鏡間距Pls程度，其結果，各透鏡LS的長度方向LGD上的位置PTL相互不同。換而言之，在透鏡陣列299中，在長度方向LGD上排列多個透
17鏡LS，構成透鏡行LSR，并且，三行的透鏡行LSR設置于寬度方向LTD 上。另外，各透鏡行LSR配置為在長度方向LGD上相互錯開透鏡間距Pls 程度，各透鏡LS的長度方向LGD上的位置PTL相互不同。這樣，在透鏡陣列299中，多個透鏡LS以二維配置。還有，在相同圖中，透鏡LS 的位置以透鏡LS的頂點(即，垂度最大的點)為代表，透鏡LS的長度方向LGD上的位置PTL由從透鏡LS的頂點沿長度方向軸LGD下劃的垂線的底部點表示。
如圖9所示，在本實施方式中，各透鏡LS具有在寬度方向LTD上長的橢圓形狀。即，將透鏡LS的長度方向LGD上的長度設為透鏡長度方向長度Ll，將透鏡LS的寬度方向LTD上的長度設為透鏡寬度方向長度L2 時，滿足如下式地構成各透鏡LS， S卩L2>L1。另外，上述遮光部件297 的導光孔2971的形狀也與透鏡LS的形狀對應地為在寬度方向LTD上長的橢圓形狀。
圖10是透鏡陣列及頭基板等長度方向的剖面圖，表示包含在透鏡陣列上形成的透鏡LS的光軸的長度方向剖面。透鏡陣列299具有光透過性的透鏡陣列基板2991。在本實施方式中，該透鏡陣列基板2991由線膨脹系數比較小的玻璃形成。在透鏡陣列基板2991的表面2991—h及背面2991 一t中的、透鏡陣列基板2991表面2991—h形成有透鏡LS。該透鏡陣列 299例如通過特開2005—276849號公報等中記載的方法來形成。即，具有對應于透鏡LS的形狀的凹部的金屬模與作為透鏡陣列基板2991的玻璃基板抵接。在金屬模和光透過性基板之間填充有光固化性樹脂。在該光固化性樹脂被照射光的情況下，光固化性樹脂固化，在光透過性基板上形成透鏡LS。還有，若光固化性樹脂固化而形成透鏡LS，則將金屬模脫模。
這樣，在本實施方式中，由透鏡陣列基板2991和透鏡LS構成透鏡陣列299。從而，可以在透鏡陣列基板2991和透鏡LS中選擇其他基材等，提高透鏡陣列299的結構的自由度。從而，能夠根據針對線頭29所要求的規(guī)格，適當地設計透鏡陣列299，能夠更簡便地實現基于線頭29的良好曝光。另外，在本實施方式中，利用能夠通過光的照射迅速固化的光固化性樹脂來形成透鏡LS。從而，能夠簡便地形成透鏡LS，因此，簡單化透鏡陣列299的制作工序，能夠降低透鏡陣列299的成本。進而，透鏡陣列基板2991由線膨脹系數小的玻璃形成，因此，抑制溫度變化引起的透鏡
陣列299的變形，從而能夠實現不依賴于溫度的良好曝光。
在該線頭29中，具有這樣的結構的透鏡陣列299排列兩片配置于 (299A、 299B)光束的前進方向Doa上。這些兩片透鏡陣列299A、 299B 夾著臺座296而對置，該臺座296發(fā)揮規(guī)定透鏡陣列299A、 299B的間隔的功能。這樣，在本實施方式中，在光的前進方向Doa上排列的兩片透鏡 LS1、 LS2按各發(fā)光元件組295每一個配置(圖5、圖6、圖10)。另外，通過對應于相互相同的發(fā)光元件組295的第一透鏡LSI及第二透鏡LS2 各自的透鏡中心的光軸OA(圖IO中兩點劃線)，與頭基板293的背面293 —t正交或大致正交。在此，光束的前進方向Doa的上游側的透鏡陣列299A 的透鏡LS為第一透鏡LS1，光束的前進方向Doa的下游側的透鏡陣列 299B的透鏡LS為第二透鏡LS2。在本實施方式中，多個透鏡陣列299排列配置于光束的前進方向Doa上，因此，能夠提高光學設計的自由度。
這樣，線頭29具備具有第一/第二透鏡LSl、 LS2的成像光學系。從而，從發(fā)光元件組295射出的光束通過第一透鏡LSI及第二透鏡LS2 來成像，而在感光體鼓表面(像面)形成光點SP。另一方面，如上所述，感光體鼓表面在光點形成之前通過帶電部23被帶電。從而，形成有光點 SP的區(qū)域被除電，形成光點潛影Lsp。還有，這樣形成的光點潛影Lsp擔載于感光體鼓表面，同時向副掃描方向SD的下游側被輸送。還有，如下述說明所示，光點SP以對應于感光體鼓表面的移動的時序來形成，從而形成在主掃描方向MD上排列的多個光點潛影Lsp。
圖11是用于說明利用線頭來形成的光點的立體圖。還有，關于圖11，省略透鏡陣列299的記載。如圖11所示，各發(fā)光元件組295能夠在主掃描方向MD上相互不同的曝光區(qū)域ER形成光點組SG。在此，光點組SG 為發(fā)光元件組295的所有的發(fā)光元件2951同時發(fā)光而形成的多個光點SP 的集合。如相同圖所示，能夠在主掃描方向MD上連續(xù)的曝光區(qū)域ER形成光點組SG的三個發(fā)光元件組295配置為在寬度方向LTD上相互錯開。即，例如，能夠在主掃描方向MD上連續(xù)的曝光區(qū)域ER—1、 ER_2、 ER—3 上形成光點組SG_1、SG—2、SG—3的三個發(fā)光元件組295—1、295—2、295—3，配置為在寬度方向LTD上相互錯開。這些三個發(fā)光元件組295構成發(fā)光
19元件組列295C，多個發(fā)光元件組列295C沿長度方向LGD排列。其結果，在圖7的說明時也進行了敘述，但三行的發(fā)光元件組行295R—A、 295R—B、 295R—C在寬度方向LTD上排列，并且各發(fā)光元件組行295R_A等在副掃描方向SD上以相互不同的位置形成光點組SG。
艮口，在該線頭29中，多個發(fā)光元件組295 (例如，發(fā)光元件組295J、 295—2、 295—3)配置于在寬度方向LTD上相互不同的位置。還有，在寬度方向LTD上以相互不同的位置配置的各發(fā)光元件組295在副掃描方向 SD上以相互不同的位置形成光點組SG(例如，光點組SG一1、SG—2、SG_3)。
換而言之，在該線頭29中，在寬度方向LTD上的相互不同的位置配置有多個發(fā)光元件2951 (例如，屬于發(fā)光元件組295—1的發(fā)光元件2951 和屬于發(fā)光元件組295_2的發(fā)光元件2951配置于在寬度方向LTD上相互不同的位置)。還有，配置于寬度方向LTD上相互不同的位置的各發(fā)光元件2951在副掃描方向SD上以相互不同的位置形成光點SP (例如，屬于光點組SG一1的光點SP和屬于光點組SG—2的光點SP形成于在副掃描方向SD上相互不同的位置)。
這樣，根據發(fā)光元件2951，副掃描方向SD上的光點SP的形成位置不同。從而，為了將多個光點潛影Lsp排列形成于主掃描方向MD上(即，將多個光點潛影Lsp形成在副掃描方向SD上相同的位置)，需要考慮所述光點形成位置的差異。因此，在該線頭29中，各發(fā)光元件2951以對應于感光體鼓表面的移動的時序來發(fā)光。
圖12是表示基于上述線頭的光點形成動作的圖。以下，使用圖7、圖 11、圖12，說明基于線頭的光點形成動作。簡單來說，通過感光體鼓表面 (潛影擔載體表面)在副掃描方向SD上移動，并且，頭控制模塊54 (圖 4)以對應于感光體鼓表面的移動的時序使發(fā)光元件2951發(fā)光，形成在主掃描方向MD上排列的多個光點潛影Lsp。
首先，使屬于寬度方向LTD上的最上游的發(fā)光元件組295一1、 295A4 等的發(fā)光元件行2951R (圖11)中的、寬度方向LTD的下游側的發(fā)光元件行2951R發(fā)光。然后，通過所述發(fā)光動作射出的多個光束通過透鏡LS 成像，在感光體鼓表面形成光點SP。還有，透鏡LS具有倒立特性，自發(fā) 光元件2951的光束倒立而成像。這樣，在圖12的"第一"的陰影圖案的
20位置形成光點潛影Lsp。還有，在相同圖中，泛白的圓形標記表示還未形成以后形成的預定的光點潛影。另夕卜，在相同圖中，用符號295一1 295—4 標記的光點潛影表示通過對應于向各自賦予的符號的發(fā)光元件組295形成的光點潛影。
其次，使屬于相同發(fā)光元件組295—1、 295A4等的發(fā)光元件行2951R 中的、寬度方向LTD的上游側的發(fā)光元件行2951R發(fā)光。然后，通過所述發(fā)光動作射出的多個光束利用透鏡LS來成像，在感光體鼓表面形成光點SP。這樣，在圖12的"第二"的陰影圖案的位置形成光點潛影Lsp。在此，從寬度方向LTD的下游側的發(fā)光元件行2951R依次發(fā)光是為了應對透鏡LS具有倒立特性的情況。
其次，使屬于從寬度方向上游側數起第二個的發(fā)光元件組295—2等的發(fā)光元件行2951R中的、寬度方向LTD的下游側的發(fā)光元件行2951R發(fā) 光。然后，通過所述發(fā)光動作射出的多個光束利用透鏡LS成像，在感光體鼓表面形成光點SP。這樣，在圖12的"第三"的陰影圖案的位置形成光點潛影Lsp。
其次，使屬于從寬度方向上游側數起第二個的發(fā)光元件組295_2等的發(fā)光元件行2951R中、寬度方向LTD的上游側的發(fā)光元件行2951R發(fā)光。然后，通過所述發(fā)光動作射出的多個光束利用透鏡LS成像，在感光體鼓表面形成光點SP。這樣，在圖12的"第四"的陰影圖案的位置形成光點潛影Lsp。
其次，使屬于從寬度方向上游側數起第三個的發(fā)光元件組295—3等的發(fā)光元件行2951R中、寬度方向LTD的下游側的發(fā)光元件行2951R發(fā)光。還有，通過所述發(fā)光動作射出的多個光束利用透鏡LS成像，在感光體鼓表面形成光點SP。這樣，在圖12的"第五"的陰影圖案的位置形成光點潛影Lsp。
還有，最后，使屬于從寬度方向上游側數起第三個的發(fā)光元件組295_3 等的發(fā)光元件行2951R中、寬度方向LTD的上游側的發(fā)光元件行2951R 發(fā)光。然后，通過所述發(fā)光動作射出的多個光束利用透鏡LS成像，在感光體鼓表面形成光點SP。這樣，在圖12的"第六"的陰影圖案的位置形成光點潛影Lsp。這樣，通過執(zhí)行第一第六的發(fā)光動作，從副掃描方向
21SD的上游側的光點SP依次形成光點SP，形成在主掃描方向MD上排列的多個光點潛影Lsp。
如上所述，在本實施方式中，以使透鏡長度方向長度L1和透鏡寬度方向長度L2滿足下述式的方式構成各透鏡LS，即L2>L1。 gp，透鏡 LS具有寬度方向LTD (第二方向)比長度方向LGD (第一方向)長的形狀。從而，不會增大在長度方向LGD上排列的多個透鏡LS的透鏡間距 Pls，透鏡LS能夠通過寬度方向LTD而取入更多的光。從而，在高析像度下也能夠將大量的光向透鏡LS取入，能夠進行良好的曝光。
不過，在本實施方式中，作為發(fā)光元件2951，使用有機EL元件，該有機EL元件與LED (Light Emitting Diode)等相比，光量少，因此，取入透鏡LS的光量存在變少的傾向。尤其，在使用底部發(fā)光型有機EL元件的情況下，從有機EL元件射出的光束的一部分被吸收于頭基板293，因此，取入透鏡LS的光量還進而變少。相對于此，在本實施方式中，透鏡LS具有寬度方向LTD (第二方向)比長度方向LGD (第一方向)長的形狀，因此，能夠通過寬度方向LTD將更多的光取入透鏡LS。從而，作為發(fā)光元件2951，即使在使用底部發(fā)光型有機EL元件的結構中，也能夠
進行良好的曝光。
B—2.第二實施方式
圖13是表示本發(fā)明的第二實施方式的局部剖面圖。在相同圖中，兩點劃線的大的圓中示出的結構是兩點劃線的小的圓中示出的結構的放大結構。如圖13所示，在兩片透鏡陣列299A、 299b形成的透鏡LSl、 LS2 均相對于發(fā)光元件組295凸出。換而言之，透鏡LS1、 LS2的自發(fā)光元件組295 (發(fā)光元件2951)的入射面為凸面。進而，在該第二實施方式中，在透鏡LSI和發(fā)光元件組295之間設置有光圈DIA。該光圈DIA形成為開口 Ap朝向光圈用平板298打開。
光圈DIA和透鏡LS (LSI)的光束的前進方向Doa上的位置關系如下所述。即，光圈DIA在光束的前進方向Doa上配置于從透鏡LS的頂點 Lt開始的該透鏡LS的垂度Lsg的10%以內的范圍內。使用相同圖的兩點劃線的大圓，具體說明。首先，將通過透鏡LS的頂點Lt，并與長度方向 LGD平行的直線設為直線L (0)時，該直線L (0)和透鏡陣列基板2991的背面2991—t的光束的前進方向Doa上的距離成為透鏡LS的垂度Lsg。還有，將在光束的前進方向Doa上與透鏡陣列背面2991—t的距離為0.9 XLsg，且與長度方向LGD平行的直線設為直線(-1)，將在光束的前進方向Doa上與透鏡陣列背面2991—t的距離為l.lXLsg，且與長度方向 LGD平行的直線設為直線(+1)時，光圈DIA在光束的前進方向Doa上配置于直線(-1)和直線(+1)之間。尤其，在第二實施方式中，光圈 DIA比透鏡LS的頂點Lt更位于像面?zhèn)?，即，光圈DIA在光束的前進方向Doa上配置于直線L (0)和直線(-1)之間。S卩，以發(fā)光元件2951的位置為原點的光束的前進方向Doa上的頂點Lt的位置Pl、和以發(fā)光元件 2951的位置為原點的光束的前進方向Doa上的光圈DIA的位置P2滿足下述式，艮卩Pl《P2《Pl+0.1XLsg。
圖14是表示第二實施方式的光圈的結構的局部俯視圖。在相同圖中，用虛線表示透鏡LS1，但這表示的是透鏡LSI和光圈DIA的關系，并不是表示在光圈用平板298設置有透鏡LS1的情況。首先，如下所述地說明第二實施方式中的透鏡LS1在俯視情況下的結構。透鏡LS在俯視的情況下具有橢圓形狀。另外，長度方向LGD上的透鏡LS1上的長度L1 (透鏡主掃描寬度Ll)及寬度方向LTD上的透鏡SL1的長度L2 (透鏡副掃描寬度L2)滿足下述式，即1<L2/L1<1.2。另外，在長度方向LGD上，透鏡LS以透鏡間距Pls排列，另一方面，在寬度方向LTD上，透鏡LS以透鏡行間距Plsr排列。
其次，說明光圈在俯視情況下的結構。如圖14所示，在光圈用平板 298上，與多個透鏡LS1—對一對應地設置有多個光圈DIA，處于相互對應關系的透鏡LSI和光圈DIA的幾何重心一致。還有，在第二實施方式中，長度方向LGD上的光圈DIA的長度Lal (光圈主掃描直徑Lal)及寬度方向LTD上的光圈DIA的長度La2 (光圈副掃描直徑La2)滿足下述式，即KLa2/Lal。尤其，在第二實施方式中如下所述，即L2/L^La2/Lal。而且，各光圈DIA具有與對應的透鏡LS1相似的橢圓形狀。
這樣，在第二實施方式中，透鏡主掃描寬度L1及透鏡副掃描寬度L2 滿足下述關系，即1<L2/L1。從而，不會增大在長度方向LGD上配設的透鏡LS的透鏡間距Pls，能夠在副掃描方向SD (寬度方向LTD)上將大量的光量取入透鏡LSl,而進行良好的曝光。
還有，所述結構不需要增大透鏡間距Pls，因此，有利于高析像度化。即，各透鏡LS的相對位置關系可在透鏡的制造工序的精度的范圍內偏移。
還有，各透鏡LS的位置偏移成為各透鏡LS形成的光點的位置的偏移的原因。此時，若透鏡間距Pls大，則所述光點位置的偏移與作為目標的析像
度相比，在長的周期中顯現，人觀察的情況下顯著。針對此，通過縮短抑
制透鏡間距Pls，抑制這樣的光點位置的偏移，從而能夠實現高析像度化。
另外，在第二實施方式中，透鏡主掃描寬度L1及透鏡副掃描寬度L2構成為滿足下述式的關系，即L2/L1<1.2。
通過這樣構成，能夠抑制透鏡主掃描寬度Ll和透鏡副掃描寬度L2之差，能夠容易地形成散光少的透鏡，因此，能夠簡便地實現良好的曝光。尤其，在使用金屬模形成透鏡的情況下，適合的是滿足式L2/LK1,2的結構。即，在利用金屬模的透鏡形成中，通過使透鏡相對于金屬模收縮，將透鏡從金屬模脫模。此時，若透鏡主掃描寬度L1和透鏡副掃描寬度L2之差大，則在長度方向LGD (主掃描方向MD)和寬度方向LTD (副掃描方向SD)上，透鏡的收縮的程度上產生差異，導致容易發(fā)生散光。針對此，通過構成為滿足式L2/L1<1.2，能夠將散光容易地抑制至沒有問題的程度，能夠簡便地實現良好的曝光。
另外，第二實施方式中光圈主掃描直徑Lal和光圈副掃描直徑La2滿足下述式的關系，因此是適合的，即KLa2/Lal。即，如上所述，在第二實施方式中，透鏡LS1具備能夠在副掃描方向SD (寬度方向LTD)上取入大量的光量的特性，另一方面，光圈DIA遮蔽從發(fā)光元件2951朝向透鏡LS1的光的一部分。從而，從有效地應用本實施方式的透鏡特性的觀點來說，為了抑制光圈DIA引起的無用的遮光，有效利用來自發(fā)光元件2951的光，光圈DIA的形狀適合的是有利于在副掃描方向SD (寬度方向LTD)上將大量的光量取入透鏡的形狀。針對此，在第二實施方式中，滿足式KLa2/Lal，因此，能夠在副掃描方向SD (寬度方向LTD)上將更大量的光量取入透鏡LS1，能夠進行良好的曝光。
另外，在第二實施方式中構成為透鏡主掃描寬度L1、透鏡副掃描寬度L2、光圈主掃描直徑Lal及光圈副掃描直徑La2滿足下述式，艮口 L2/Ll=La2/Lal。從而，能夠更有效地利用來自發(fā)光元件2951的光。
進而，第二實施方式構成為透鏡LS1的形狀和光圈DIA的形狀相似，能夠更有效地利用來自發(fā)光元件2951的光。
另外，在第二實施方式中，構成為光圈DIA在從透鏡LS1的頂點Lt開始的透鏡LS的垂度Lsg的10n/。以內的范圍內。從而，能夠抑制光圈DIA引起的無用的遮光，能夠極其有效地利用來自發(fā)光元件2951的光。而且，光圈DIA比透鏡LS的頂點Lt更位于像面?zhèn)?。從而，能夠進一步提高來自發(fā)光元件2951的光的利用效率。C.其他
這樣，在上述實施方式中，長度方向LGD和寬度方向LTD相互正交或大致正交，主掃描方向MD和副掃描方向SD相互正交或大致正交，長度方向LGD和主掃描方向MD相互平行或大致平行，寬度方向LTD的副掃描方向SD相互平行或大致平行，因此，長度方向LGD及主掃描方向MD相當于本發(fā)明的"第一方向"，寬度方向LTD及副掃描方向SD相當于本發(fā)明的"第二方向"。另外，頭基板293相當于本發(fā)明的"發(fā)光元件基板"。另外，線頭29相當于本發(fā)明的"曝光頭"。另外，感光體鼓21相當于本發(fā)明的"潛影擔載體"。
還有，本發(fā)明不限定于此上述實施方式，只要不脫離其宗旨，就可以
進行上述以外的各種變更。例如，在上述實施方式中，在構成發(fā)光元件組295的各發(fā)光元件行2951R中，在長度方向LGD上排列的發(fā)光元件2951的個數為m(-4)個。然而，m的值不限于4，必要的是，m為2以上且比n大的整數即可(n為構成發(fā)光元件組295的發(fā)光元件行2951R的個數)。另外，在上述實施方式中，發(fā)光元件行2951R均構成為在長度方向LGD上排列m個發(fā)光元件2951。然而，發(fā)光元件行2951R的構成方式不限于此。即，構成發(fā)光元件組295的發(fā)光元件行2951R中一個發(fā)光元件行2951R由排列m個發(fā)光元件2951而構成，另一方面，其他發(fā)光元件行2951R由排列(m+q)個發(fā)光元件2951而構成也可。在此，q為1以上的整數。必要的是，在構成發(fā)光元件組295的各發(fā)光元件行2951R的長度方向LGD上配置的發(fā)光元件2951的個數為m個以上即可，不需要由相同個數的發(fā)光元件2951構成各發(fā)光元件行2951R。另外，在上述實施方式中，在發(fā)光元件組295中，在寬度方向LTD上排列的發(fā)光元件行2951R的個數為n(=2)個，但n的值不限于2， 1以上的整數即可。從而，也可以如下所述地構成發(fā)光元件組295。
圖15是表示發(fā)光元件組的另一結構的俯視圖。另外，圖16是表示配置多個圖15的發(fā)光元件組的頭基板的背面的結構的圖，相當于從頭基板的表面觀察背面的情況。在圖15所示的另一結構中，在長度方向LGD上排列15個發(fā)光元件2951，構成發(fā)光元件行2951R (g卩，圖15所示的例子相當于m-15的情況)。在該發(fā)光元件行2951R中，各發(fā)光元件2951以發(fā)光元件間距Pel (=0.021[nmp的四倍的間距(K).084[mm])排列。還有，這樣構成的發(fā)光元件行2951R在寬度方向LTD上排列四個(2951R—l、2951R—2、 2951R—3、 2951R—4)(即，圖15所示的例子相當于n=4的情況)。在寬度方向LTD上，發(fā)光元件行2951R—4和發(fā)光元件行2951R—1之間的間距為0.1155[mm]，發(fā)光元件行2951R—4和發(fā)光元件行2951R—2之間的間距為0.084[mm]，發(fā)光元件行2951R—4和發(fā)光元件行2951R一3之間的間距為0.0315[mm]。另外，在將通過發(fā)光元件組295的中心(重心)并與寬度方向LTD平行的直線設為中心線CTL時，發(fā)光元件行2951R一l及發(fā)光元件行2951—4各自和中心線CTL的間距為0.05775[mm]。另夕卜，在圖15中，由比中心線CTL更靠上側的兩行2951R—1、2951R—2構成一組發(fā)光元件行組2951RT，并且，由比中心線CTL更靠下側的兩行2951R_3、 2951R—4構成一組發(fā)光元件行組2951RT。在發(fā)光元件行組2951RT各自中，兩個發(fā)光元件行2951R在長度方向LGD上相互錯開元件間距Pel (=0.021[mm])的兩倍(=0.042[mm])程度。而且，兩個發(fā)光元件行組2951RT在長度方向LGD上相互錯開元件間距Pel(=0.021[mm])程度。從而，四個發(fā)光元件行2951R在長度方向LGD上錯開元件間距Pel (=0.021[mm])程度，其結果，在長度方向LGD上，各發(fā)光元件2951的位置不同。在此，位于發(fā)光元件組295的長度方向LGD上的兩端的發(fā)光元件2951設為端部發(fā)光元件2951x的情況下，長度方向LGD上的端部發(fā)光元件2951x之間的間距為1.239[mm]，長度方向LGD上的端部發(fā)光元件2951x和發(fā)光元件組295中心的間距為0.6195[mm]。在圖16所示的例子中，圖15所示的發(fā)光元件組295配置為二維。如圖16所示，在長度方向LGD上排列多個發(fā)光元件組295，構成發(fā)光元件組行295R。在該發(fā)光元件組行295R中，各發(fā)光元件組295以發(fā)光元件組間距Peg的三倍的間距(=1.778[mm])排列。還有，這樣構成的發(fā)光元件組行295R在寬度方向LTD上以發(fā)光元件組行間距Pegr (=1.77[mmp排列三個(295R—l、 295R—2、 295R—3)。另外，各發(fā)光元件組行295R在長度方向LGD上錯開發(fā)光元件組間距Peg (約0.593[mm])程度。g卩，發(fā) 光元件組行295R—l和發(fā)光元件組行295R_2在長度方向LGD上錯開 0.59275[mm]程度，發(fā)光元件組行295R—2和發(fā)光元件組行295R—3在長度方向LGD上錯開0.5925[mm]程度，發(fā)光元件組行295R—3和發(fā)光元件組行295R—l在長度方向LGD上錯開0.59275[mm]程度。從而，發(fā)光元件組行295R—1和發(fā)光元件組行295R — 3在長度方向LGD上錯開 1.18525 [mm]程度。
另外，在上述實施方式中，三個透鏡行LSR在寬度方向LTD上排列。然而，透鏡行LSR的個數不限于三個。從而，例如，如另一實施方式所示一樣，透鏡行LSR的個數可以為一個。
圖17是表示線頭的另一實施方式的立體圖。另外，圖18是圖17所示的線頭的寬度方向局部剖面圖，該剖面是與透鏡的光軸平行的剖面。另外，圖19是表示另一實施方式中的發(fā)光元件組和透鏡的關系的俯視圖，相當于從像面?zhèn)?光束的前進方向Doa側)觀察的情況。以下，主要說明使用圖5等說明的實施方式和與其他實施方式不同的差異點，對于共通點標注相稱符號，省略說明。
在另一實施方式中，設置有配置了發(fā)光元件組295的頭基板293，并且，在光束的前進方向Doa上兩片透鏡陣列299A、 299B排列設置。在頭基板293中，在長度方向LGD上排列配置多個發(fā)光元件組295。在各透鏡陣列299A、 299B中，對應每一個發(fā)光元件組295而設置透鏡LS，在長度方向LGD上以透鏡間距Pls排列多個透鏡LS，構成一個透鏡行LSR。在該另一實施方式中，在各透鏡陣列299A、 299B中，透鏡LS形成于透鏡陣列基板2991的背面2991—t。
如圖19所示，透鏡LS具有連接了U字和倒U字的形狀。從而，透鏡LS的外周部具有在寬度方向LTD上延伸的直線部LIP、與該直線部
27LIP連接的圓弧部CAP。該透鏡LS的透鏡長度方向長度Ll及透鏡寬度方
向長度L2滿足下述式，即L2>L1。另外，遮光部件297的導光孔2971
的形狀也是與透鏡LS的形狀對應的形狀。
這樣，在另一實施方式中，透鏡LS也具有寬度方向LTD (第二方向)
比長度方向LGD (第一方向)長的形狀。從而，不會增大在長度方向LGD
上排列的多個透鏡LS的透鏡間距Pls，透鏡LS能夠在寬度方向LTD上取
入更多的光。從而，在高析像度下也能夠將大量的光取入透鏡LS，能夠白力工的腺AV"
另外，在圖17 圖19的結構中，代替遮光部件297，設置光圈DIA 也可。圖20是表示在圖17 圖19的結構中代替遮光部件而設置光圈的結構的局部俯視圖。在相同圖中，用虛線表示透鏡LS，但這表示的是透鏡 LS和光圈DIA的關系，并不表示在光圈用平板298上設置有透鏡LS的情況。如相同圖所示，多個光圈DIA與多個透鏡LS以一對一對應地設置于光圈用平板298。另外，透鏡LS具有連接了U字和倒U字的形狀，另一方面，光圈DIA具有橢圓形狀。另外，光圈主掃描直徑Lal及光圈副掃描直徑La2滿足下述式，即KLa2/Lal。從而，有效地應用在副掃描方向SD (寬度方向LTD)上取入更多的光量的透鏡特性，從而能夠進行良好的曝光。
另外，在上述實施方式中，透鏡陣列299在透鏡陣列基板的表面2991 一h或背面2991—t形成透鏡LS而構成。然而，透鏡陣列的結構方式不限于此。即，在透鏡陣列基板的兩面2991—t、 2991—h上形成透鏡LS來構成透鏡陣列299也可。
另外，在上述實施方式中，使用兩片透鏡陣列299，但透鏡陣列299 的片數不限于此。
另外，在上述實施方式中，作為發(fā)光元件2951，使用了有機EL元件。然而，將有機EL元件以外的元件用作發(fā)光元件2951也可，例如，將LED (Light Emitting Diode)用作發(fā)光元件2951也可。實施例
其次，示出本發(fā)明的實施例，但本發(fā)明原本不受限于下述實施例，當然也可以在適合前后所述的宗旨的范圍內適當地施加變更，進行實施，這
28些均包含在本發(fā)明的技術范圍內。 <第一實施例>
圖21是表示第一實施例中的光學系的圖，表示主掃描方向MD上的
剖面。在該實施例中，在光束的前進方向Doa上，在第一透鏡LS1的跟前設置有光圈DIA，利用光圈DIA縮小的光束入射于第一透鏡LS1。在相同圖中，示出了從光軸OA上的物點OB0出來后，成像于像點IMO的光束的光程和從與光軸OA不同的物點OBI出來后，成像于像點IM1的光束的光程。光圈DIA以外的結構與另一實施方式中示出的結構大致相同。
圖22是表示第一實施例中的光學系的圖，示出了副掃描方向SD上的剖面。在相同圖中，示出了從物點OBsl出來后，成像于像點IS1的光束的光程和從物點OBs2出來后，成像于像點IS2的光束的光程。如圖21及圖22所示，第一實施例的光學系為反轉光學系。
圖23表示是第一實施例中的光學系各要素的圖。如相同圖所示，從發(fā)光元件射出的光束的波長為690[nm]。另外，透鏡長度方向長度Ll為 1.4[mm]，透鏡寬度方向長度L2為1.63[mm]，滿足下述式，即L2>L1。圖24是表示圖21所示的第一實施例的光學系的數據的圖。如相同圖所示，在該光學系中，第一透鏡LS1的透鏡面(面編號S4)及第二透鏡LS2的透鏡面(面編號S7)均為自由曲面(XY多項式面)。圖25是表示XY多項式面的定義式的圖，用相同定義式和圖26所示的系數賦予第一透鏡LSI 的透鏡面形狀，用相同定義式和圖27所示的系數賦予第二透鏡LS2的透鏡面形狀。在此，圖26是表示第一實施例的面S4的系數值的圖，圖27 是表示第一實施例的光學系的面S7的系數值的圖。
在該實施例中，透鏡LS也具有寬度方向LTD (第二方向)比長度方向LGD (第一方向)長的形狀。從而，不會增大在長度方向LGD上排列的多個透鏡LS的透鏡間距Pls，透鏡LS能夠在寬度方向LTD上而取入更多的光。從而，在高析像度下也能夠將大量的光向透鏡LS取入，能夠進行良好的曝光。
另外，在該實施例中，透鏡陣列299的透鏡LS為自由曲面透鏡。在此，自由曲面透鏡是透鏡面為自由曲面的透鏡。從而，能夠提高透鏡的成像特性，能夠實現更良好的曝光。
29<第二實施例>
圖28是表示第二實施例的光學系的圖，表示主掃描方向MD上的剖面。圖29是表示第二實施例的光學系的圖，表示副掃描方向SD上的剖面。在該實施例中，在光束的前進方向Doa上，在第一透鏡LS1的跟前設置有光圈DIA，利用光圈DIA縮小的光束入射于第一透鏡LS1。這樣，入射于第一透鏡LSI的光束通過該第一透鏡LSI及第二透鏡LS2來成像。在圖 28中，示出了從光軸OA上的物點OBm0出來后，成像于像點IM0的光束的光束的光程、和從與光軸OA不同的物點OBml出來后，.成像于像點 IM1的光束的光程。在圖29中，示出了從物點OBsl出來后，成像于像點 IS1的光束的光程、和從物點OBs2出來后，成像于像點IS2的光束的光程。如這些圖所示，第二實施例的光學系為反轉縮小光學系。
圖30是表示第二實施例的光學系各要素的圖。如相同圖所示，從發(fā) 光元件射出的光束的波長為690[nm]。光圈DIA的形狀為橢圓。另外，光圈主掃描直徑Lal (光圈長度方向長度Lal)為1.4[mm]，光圈副掃描直徑 La2 (光圈寬度方向長度La2)為1.6[mm]。從而，比La2/Lal為1.14。另外，第一透鏡主掃描直徑Ll (1)(第一透鏡長度方向長度Ll (l))為 1.66[mm]，第二透鏡副掃描直徑L2 (1)(第一透鏡寬度方向長度L2 (1)) 為1.9[mm]。從而，比L2 (1) /Ll (1)為1.14。另外，第二透鏡主掃描直徑L1 (2)(第二透鏡長度方向長度L1 (2))為1.66[mm]，第二透鏡副掃描直徑L2 (2)(第一透鏡寬度方向長度L2 (2))為2.0[mm]。從而，比L2 (2) /Ll (2)為1.2。另外，"透鏡主掃描有效系"是在將第一透鏡 LSI及第二透鏡LS2視作一個透鏡時的透鏡的主掃描方向MD上的有效直徑，"透鏡副掃描有效系"是在將第一透鏡LS1及第二透鏡LS2視作一個透鏡(成像光學系)時的該透鏡的副掃描方向SD上的有效直徑。另外， "透鏡行數"欄表示本實施例與具備一行的透鏡行LSR的線頭對應的情況。
圖31是表示圖28及圖29所示的光學系的數據的圖。如相同圖所示，在該光學系中，第一透鏡LS1的透鏡面(面編號S4)及第二透鏡LS2的透鏡面(面編號S7)均為自由曲面(XY多項式面)。還有，用圖25所示的XY多項式面的定義式和圖32所示的系數賦予第一透鏡LSI的透鏡面形狀，用相同定義式和圖33所示的系數賦予第二透鏡LS2的透鏡面形狀。
在此，圖32是表示第二實施例的光學系的面S4的系數值的圖，圖33是表示第二實施例的光學系的面S7的系數值的圖。
在該實施例中，透鏡主掃描寬度L1 (Ll (1)或L1 (2))及透鏡副掃描寬度L2 (L2 (1)或L2 (2))也滿足下述式的關系，艮卩1<L2/L1。從而，不會擴大在長度方向LGD上配設的透鏡LS的間距Pls，在副掃描方向SD (寬度方向LTD)上將大量的光量取入透鏡LS1，從而能夠進行良好的曝光。
還有，所述結構中不需要擴大透鏡間距Pls，因此，有利于高析像度化。即，各透鏡LS的相對位置關系在透鏡的制造工序的精度的范圍內偏移。還有，各透鏡LS的位置偏移成為各透鏡LS形成的光點的位置的偏移的原因。此時，若透鏡間距Pls大，則所述光點位置的偏移與作為目標的析像度相比，在長的周期中顯現，人觀察的情況下顯著。針對此，通過縮短抑制透鏡間距Pls，抑制這樣的光點位置的偏移，從而能夠實現高析像
度化。 '
另外，透鏡主掃描寬度L1 (1)及透鏡副掃描寬度L2 (1)滿足下述
式的關系，即L2 (1) /Ll (1) <1.2。從而，抑制透鏡主掃描寬度Ll (1)和透鏡副掃描寬度L2 (2)的差異，能夠容易地形成散光少的透鏡，
因此，能夠簡便地實現良好的曝光。
另外，在第二實施例中，光圈主掃描直徑Lal和光圈副掃描直徑La2
滿足下述式的關系，即l<La2/Lal。從而，能夠在副掃描方向SD (寬
度方向LTD)上向透鏡LS1取入更多的光量，能夠進行良好的曝光。
另外，在第二實施例中，第一透鏡主掃描寬度L1 (1)、第一透鏡副掃
描寬度L2 (2)、光圈主掃描直徑Lal及光圈副掃描直徑La2滿足下述式。
即L2 (1) /Ll (1) =La2/Lal (=1.14)。從而，能夠更有效地利用來自發(fā)
光元件2951的光。
3權利要求
1. 一種曝光頭，其特征在于，具備透鏡陣列，其在第一方向上配設有透鏡；發(fā)光元件基板，其配設有發(fā)出利用所述透鏡成像的光的發(fā)光元件，其中，所述第一方向的所述透鏡的長度L1及與所述第一方向正交的第二方向的所述透鏡的長度L2具有下述式的關系，即1<L2/L1。
2. 根據權利要求l所述的曝光頭，其中，所述第一方向的所述透鏡的長度Ll及所述第二方向的所述透鏡的長度L2具有下述關系，艮卩 L2/L1<1.2。
3. 根據權利要求1或2所述的曝光頭，其中，具備配設在所述發(fā)光元件和所述透鏡之間的光圈。
4. 根據權利要求3所述的曝光頭，其中，所述第一方向的所述光圈的長度Lal及所述第二方向的所述光圈的長度La2具有下述式的關系，艮P: KLa2/Lal。
5. 根據權利要求4所述的曝光頭，其中，所述第一方向的所述透鏡的長度L1、所述第二方向的所述透鏡的長度 L2、所述第一方向的所述光圈的長度Lal及所述第二方向的所述光圈的長度La2具有下述式的關系，艮P:L2/Ll=La2/Lal。
6. 根據權利要求5所述的曝光頭，其中，所述透鏡的形狀和所述光圈的形狀相似。
7. 根據權利要求3 6中任一項所述的曝光頭，其中，所述光圈的形狀為橢圓形。
8. 根據權利要求3 7中任一項所述的曝光頭，其中，所述透鏡中來自所述發(fā)光元件的光的入射面為凸面。
9. 根據權利要求9或IO所述的曝光頭，其中，所述光圈配設于比所述透鏡的頂點更靠像面?zhèn)取?br> 10. 根據權利要求1 11中任一項所述的曝光頭，其中，所述透鏡為自由曲面透鏡。
11. 根據權利要求1 12中任一項所述的曝光頭，其中，所述發(fā)光元件為有機EL元件。
12. —種透鏡陣列，其特征在于，具備透鏡，其配設于第一方向上，其中，所述第一方向的所述透鏡的長度Ll及與所述第一方向正交的第二方向的所述透鏡的長度L2具有下述式的關系，艮P: 1<L2/L1。
13. —種圖像形成裝置，其特征在于，具備曝光頭，該曝光頭具有透鏡陣列，其在第一方向上配設有透鏡；發(fā)光元件基板，其配設有發(fā)出利用所述透鏡成像的光的發(fā)光元件，其中，所述第一方向的所述透鏡的長度Ll及與所述第一方向正交的第二方向的所述透鏡的長度L2具有下述式的關系，艮P: 1<L2/L1。
全文摘要
本發(fā)明提供透鏡陣列、具備該透鏡陣列的曝光頭及具備該曝光頭的圖像形成裝置，即，提供一種在高析像度下也將大量的光取入透鏡，從而能夠進行良好的曝光的技術。具備在第一方向(LGD/MD)上配設有透鏡(LS)的透鏡陣列(299)；配設有發(fā)出利用透鏡(LS)成像的光的發(fā)光元件的發(fā)光元件基板，其中，第一方向(LGD/MD)的透鏡(LS)的長度L1及與第一方向正交的第二方向(LTD/SD)的透鏡的長度L2滿足下述式1＜L2/L1的關系。
文檔編號H04N1/03GK101497275SQ20091000372
公開日2009年8月5日申請日期2009年2月1日優(yōu)先權日2008年1月28日
發(fā)明者井熊健, 宗和健, 小泉龍?zhí)? 野村雄二郎申請人:精工愛普生株式會社

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