一種揚(yáng)聲器模組殼體及揚(yáng)聲器模組的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種揚(yáng)聲器模組殼體及揚(yáng)聲器模組，前者包括上殼和下殼，上殼上設(shè)有第一上斜坡面和第二上斜坡面，下殼上設(shè)有分別與第一上斜坡面和第二上斜坡面相配合的第一下斜坡面和第二下斜坡面，第一下斜坡面與第二下斜坡面對應(yīng)設(shè)置。本實(shí)用新型提供的揚(yáng)聲器模組殼體的各斜坡面可有效增大上殼和下殼的粘合面的面積，并將自超聲頭傳遞過來的壓力進(jìn)行分散減弱，防止上殼和下殼因壓力而變形，由于第一下斜坡面和第二下斜坡面可分別提供給與兩者相配合的上殼的第一上斜坡面和第二上斜坡面一定的力，有效減小了上殼在超聲密封過程中相對于下殼的位移，從而保證了上殼和下殼按照設(shè)計好的粘合面固定在一起，并有利于控制上殼和下殼交界處的間隙。
【專利說明】
一種揚(yáng)聲器模組殼體及揚(yáng)聲器模組
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及電聲領(lǐng)域，更具體地，涉及一種揚(yáng)聲器模組殼體，及應(yīng)用了該揚(yáng)聲器模組殼體的揚(yáng)聲器模組?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]隨著便攜式電子產(chǎn)品的廣泛應(yīng)用，作為重要聲學(xué)器件的揚(yáng)聲器也得到了較大發(fā)展，特別是對電動式揚(yáng)聲器而言，其模組的殼體對揚(yáng)聲器的聲學(xué)性能有較大影響。
[0003]現(xiàn)有的揚(yáng)聲器模組殼體通常包括上殼和下殼，上殼和下殼配合在一起形成了用于收容揚(yáng)聲器單體的腔體。相對傳統(tǒng)的膠粘等裝配方式，超聲密封(又稱為超聲波焊接)不但快捷干凈，而且兼具連接裝配的功能和防潮防水的密封效果，因此越來越多的應(yīng)用在揚(yáng)聲器模組殼體的上殼和下殼裝配工序中。
[0004]采用超聲密封工藝裝配揚(yáng)聲器模組殼體的上殼和下殼時，先將下殼固定在超聲底座上，并將上殼對應(yīng)放置在下殼上，再將超聲頭壓至上殼表面以將超聲波傳遞至上殼和下殼的粘合面(又稱為超聲面)，即可快速地完成上殼和下殼的超聲密封。由于超聲密封過程中需要將超聲頭壓在上殼上，當(dāng)超聲頭施加給上殼的壓力過大時，上殼和下殼容易變形導(dǎo)致?lián)P聲器模組殼體變形；當(dāng)超聲頭施加給上殼的壓力過小時，上殼容易在超聲密封的過程中相對于下殼有較大地位移，導(dǎo)致上殼和下殼的粘合面改變從而影響到超聲密封的效果， 并且導(dǎo)致上殼和下殼交界處的間隙變大，這樣，最終影響到揚(yáng)聲器的聲學(xué)性能?！緦?shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的一個目的是提供一種揚(yáng)聲器模組殼體，該揚(yáng)聲器模組殼體有利于保持上殼在超聲密封過程中的穩(wěn)定性，保證揚(yáng)聲器的聲學(xué)性能。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供的揚(yáng)聲器模組殼體包括上殼和下殼，所述上殼上設(shè)有第一上斜坡面和第二上斜坡面，所述下殼上設(shè)有分別與所述第一上斜坡面和所述第二上斜坡面相配合的第一下斜坡面和第二下斜坡面，所述第一下斜坡面與所述第二下斜坡面對應(yīng)設(shè)置。
[0007]優(yōu)選地，所述下殼包括下殼本體和下殼橫梁，所述下殼本體設(shè)有空腔，所述下殼橫梁架設(shè)在所述空腔上;其中，所述第一下斜坡面位于所述下殼本體上，所述第二下斜坡面位于所述下殼橫梁上。
[0008]更優(yōu)選地，所述第一下斜坡面包括兩個，兩個所述第一下斜坡面分別位于所述下殼本體相對的、沿著所述上殼在超聲密封過程中移動的方向的兩側(cè)壁上。
[0009]更優(yōu)選地，所述第一下斜坡面與所述上殼在超聲密封過程中移動的方向形成的夾角為115°_160°，所述第二下斜坡面與所述上殼在超聲密封過程中移動的反方向形成的夾角為 100°-140°。
[0010]優(yōu)選地，所述上殼上還設(shè)有第三上斜坡面，所述下殼上設(shè)有與所述第三上斜坡面相配合的第三下斜坡面，且所述第三下斜坡面與所述第一下斜坡面對應(yīng)設(shè)置。
[0011]更優(yōu)選地，所述第三下斜坡面包括兩個，且兩個所述第三下斜坡面分別位于所述下殼本體相對的、沿著所述上殼在超聲密封過程中移動的方向的兩側(cè)壁上。
[0012]更優(yōu)選地，所述第三下斜坡面與所述上殼在超聲密封過程中移動的反方向形成的夾角為 110° _140°。
[0013]更優(yōu)選地，所述第一下斜坡面的高度大于0.8mm，所述第二下斜坡面的高度大于 0.3mm，所述第三下斜坡面的高度大于0.6mm。
[0014]本實(shí)用新型的另一目的在于提供一種揚(yáng)聲器模組，以更好地提高揚(yáng)聲器的聲學(xué)性能。
[0015]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供的揚(yáng)聲器模組包括揚(yáng)聲器單體和本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器模組殼體，其中，所述揚(yáng)聲器單體位于所述空腔中并位于所述下殼橫梁的一側(cè)，所述揚(yáng)聲器模組的出聲孔與所述揚(yáng)聲器單體位于所述下殼橫梁的同一側(cè);所述揚(yáng)聲器單體的振膜組件、所述下殼本體、所述下殼橫梁和所述上殼共同構(gòu)成所述揚(yáng)聲器模組的前聲腔，所述揚(yáng)聲器單體的磁路組件、所述下殼本體、所述下殼橫梁和所述上殼共同構(gòu)成所述揚(yáng)聲器模組的后聲腔;所述第一下斜坡面和所述第二下斜坡面均位于所述前聲腔中。
[0016]優(yōu)選地，所述下殼還包括后蓋，所述后蓋位于所述下殼本體遠(yuǎn)離所述上殼的一側(cè)并與所述下殼本體的側(cè)壁構(gòu)成所述空腔，所述后蓋、所述揚(yáng)聲器單體的磁路組件、所述下殼本體、所述下殼橫梁和所述上殼共同構(gòu)成所述后聲腔。
[0017]本實(shí)用新型的實(shí)用新型人發(fā)現(xiàn)，在現(xiàn)有技術(shù)中，存在揚(yáng)聲器模組殼體的上殼和下殼超聲密封效果不好的問題。因此，本實(shí)用新型所要實(shí)現(xiàn)的技術(shù)任務(wù)或者所要解決的技術(shù)問題是本領(lǐng)域技術(shù)人員從未想到的或者沒有預(yù)期到的，故本實(shí)用新型是一種新的技術(shù)方案。
[0018]本實(shí)用新型的一個有益效果在于，本實(shí)用新型提供的揚(yáng)聲器模組殼體的第一上斜坡面、第二上斜坡面、第一下斜坡面和第二下斜坡面可有效增大上殼和下殼的粘合面的面積，并將自超聲頭傳遞過來的壓力進(jìn)行分散減弱，防止上殼和下殼因壓力而變形，同時，由于第一下斜坡面和第二下斜坡面可分別提供給與兩者相配合的上殼的第一上斜坡面和第二上斜坡面一定的力，有效減小了上殼在超聲密封過程中相對于下殼的位移，從而保證了上殼和下殼按照設(shè)計好的粘合面固定在一起，并有利于控制上殼和下殼交界處的間隙。
[0019]本實(shí)用新型的另一個有益效果在于，本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器模組的前聲腔和后聲腔的體積可方便地根據(jù)需求進(jìn)行調(diào)整，從而有利于更好地提高揚(yáng)聲器的聲學(xué)性能。
[0020]通過以下參照附圖對本實(shí)用新型的示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本實(shí)用新型的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會變得清楚?！靖綀D說明】
[0021]被結(jié)合在說明書中并構(gòu)成說明書的一部分的附圖示出了本實(shí)用新型的實(shí)施例，并且連同其說明一起用于解釋本實(shí)用新型的原理。
[0022]圖1為本實(shí)用新型揚(yáng)聲器模組殼體實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；[〇〇23]圖2為圖1的A-A向剖面圖；[〇〇24]圖3為圖2中B處局部放大示意圖；[〇〇25]圖4為圖2中C處局部放大示意圖；
[0026]圖5為圖2中D處局部放大示意圖；[〇〇27]圖6為圖2中E處局部放大示意圖；[〇〇28]圖7為圖1的爆炸圖；
[0029]圖8為本實(shí)用新型揚(yáng)聲器模組殼體的下殼實(shí)施例的另一視角的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖9為本實(shí)用新型揚(yáng)聲器模組殼體實(shí)施例與超聲底座和超聲頭配合的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖10為圖9的F-F向剖面圖；
[0032]圖11為本實(shí)用新型揚(yáng)聲器模組實(shí)施例的爆炸圖。[〇〇33]圖中標(biāo)示如下:[〇〇34]揚(yáng)聲器模組殼體-1，上殼-11，第一上斜坡面-111，第二上斜坡面-112，第三上斜坡面-113,下殼-12,下殼本體-121，第一下斜坡面-1211，空腔-1212,第三下斜坡面-1213,出聲孔-1214,下殼橫梁-122,第二下斜坡面-1221，后蓋-123,揚(yáng)聲器單體-2,振膜組件-21，磁路組件-22，超聲底座-3，超聲頭-4?！揪唧w實(shí)施方式】
[0035]現(xiàn)在將參照附圖來詳細(xì)描述本實(shí)用新型的各種示例性實(shí)施例。應(yīng)注意到:除非另外具體說明，否則在這些實(shí)施例中闡述的部件和步驟的相對布置、數(shù)字表達(dá)式和數(shù)值不限制本實(shí)用新型的范圍。
[0036]以下對至少一個示例性實(shí)施例的描述實(shí)際上僅僅是說明性的，決不作為對本實(shí)用新型及其應(yīng)用或使用的任何限制。
[0037]對于相關(guān)領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的技術(shù)、方法和設(shè)備可能不作詳細(xì)討論，但在適當(dāng)情況下，所述技術(shù)、方法和設(shè)備應(yīng)當(dāng)被視為說明書的一部分。
[0038]在這里示出和討論的所有例子中，任何具體值應(yīng)被解釋為僅僅是示例性的，而不是作為限制。因此，示例性實(shí)施例的其它例子可以具有不同的值。
[0039]應(yīng)注意到:相似的標(biāo)號和字母在下面的附圖中表示類似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對其進(jìn)行進(jìn)一步討論。
[0040]本實(shí)用新型為了解決揚(yáng)聲器模組殼體的上殼在超聲密封過程中不穩(wěn)定的問題，提出了一種揚(yáng)聲器模組殼體1，如圖1至圖8所示，包括上殼11和下殼12,所述上殼上設(shè)有第一上斜坡面111和第二上斜坡面112,所述下殼12上設(shè)有分別與所述第一上斜坡面111和所述第二上斜坡面112相配合的第一下斜坡面1211和第二下斜坡面1221，所述第一下斜坡面 1211與所述第二下斜坡面1221對應(yīng)設(shè)置，上述第一下斜坡面1211和第二下斜坡面1221對應(yīng)設(shè)置是指第一下斜坡面1211的坡面和第二下斜坡面1221的坡面相對應(yīng)，以使第一下斜坡面 1211和第二下斜坡面1221可分別提供給第一上斜坡面111和第二上斜坡面112沿著不同方向的力。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)清楚，揚(yáng)聲器模組殼體1的上殼11和下殼12配合在一起形成了用于收容揚(yáng)聲器單體的腔體，本實(shí)用新型的各斜坡面的具體設(shè)置位置可根據(jù)需要選擇，例如在上殼11和下殼12的側(cè)壁上等，當(dāng)然，各斜坡面與周邊特征的連接處也可作倒圓角處理， 起到緩沖的作用。
[0041]本實(shí)用新型提供的揚(yáng)聲器模組殼體1的第一上斜坡面111、第二上斜坡面112、第一下斜坡面1211和第二下斜坡面1221可有效增大上殼11和下殼12的粘合面的面積，并將自超聲頭傳遞過來的壓力進(jìn)行分散減弱，防止上殼11和下殼12因壓力而變形，同時，由于第一下斜坡面1211和第二下斜坡面1221可分別提供給與兩者相配合的上殼11的第一上斜坡面111 和第二上斜坡面112—定的力，有效減小了上殼11在超聲密封過程中相對于下殼12的位移， 從而保證了上殼11和下殼12按照設(shè)計好的粘合面固定在一起，并有利于控制上殼11和下殼 12交界處的間隙，上述上殼11和下殼12的粘合面為圖2至圖5中網(wǎng)格線所標(biāo)示的部分，上述上殼11和下殼12交界處的間隙如圖6中的d所標(biāo)示。
[0042]為了更好地控制上殼11在超聲密封過程中的位移，所述下殼12包括下殼本體121 和下殼橫梁122,所述下殼本體121設(shè)有空腔1212,所述下殼橫梁122架設(shè)在所述空腔1211 上;其中，所述第一下斜坡面1211位于所述下殼本體121上，所述第二下斜坡面1221位于所述下殼橫梁122上。下殼橫梁122可更有效地控制第一下斜坡面1211和第二下斜坡面1221之間的距離，達(dá)到控制上殼11在超聲密封過程中的位移的目的。
[0043]在本實(shí)用新型的一個優(yōu)選實(shí)施例中，所述第一下斜坡面1211包括兩個，兩個所述第一下斜坡面1211分別位于所述下殼本體121相對的、沿著所述上殼11在超聲密封過程中移動的方向(圖2中箭頭所指的方向)的兩側(cè)壁上，即上述兩側(cè)壁為下殼本體121沿著上殼11 在超聲密封過程中移動的方向的兩側(cè)壁，且兩個第一下斜坡面1211分別位于上述兩側(cè)壁上，這種設(shè)置可更好地將自超聲頭傳遞過來的壓力進(jìn)行分散減弱，防止上殼11和下殼12因壓力而變形。
[0044]由于第一下斜坡面1211和第二下斜坡面1221的角度設(shè)置會影響到自超聲頭傳遞過來的壓力的分散減弱，因此，將所述第一下斜坡面1211與所述上殼11在超聲密封過程中移動的方向形成的夾角a設(shè)置為115°_160°，所述第二下斜坡面1221與所述上殼11在超聲密封過程中移動的反方向形成的夾角0設(shè)置為100°_140°，上述夾角a和邱勺角度的限定可最大限度地將自超聲頭傳遞至上殼11的壓力分散減弱，而且在該角度限定下上殼11和下殼12交界處的間隙d可控制為小于0.05_。
[0045]為了進(jìn)一步地將自超聲頭傳遞至上殼11的壓力分散減弱，以及進(jìn)一步地減小上殼 11在超聲密封過程中相對于下殼12的位移，所述上殼11上還設(shè)有第三上斜坡面113,所述下殼12上設(shè)有與所述第三上斜坡面113相配合的第三下斜坡面1213,且所述第三下斜坡面 1213與所述第一下斜坡面1211對應(yīng)設(shè)置，這樣，第二下斜坡面1221和第三下斜坡面1213均與第一下斜坡面1211相對應(yīng)。
[0046]在本實(shí)用新型的另一個優(yōu)選實(shí)施例中，所述第三下斜坡面1213包括兩個，且兩個所述第三下斜坡面1213分別位于所述下殼本體121相對的、沿著所述上殼11在超聲密封過程中移動的方向的兩側(cè)壁上，即上述兩側(cè)壁下殼為本體121沿著上殼11在超聲密封過程中移動的方向的兩側(cè)壁，且兩個第三下斜坡面1213分別位于上述兩側(cè)壁上，這種設(shè)置可更好地將自超聲頭傳遞過來的壓力進(jìn)行分散減弱，防止上殼11和下殼12因壓力而變形。[〇〇47]由于第三下斜坡面1213的角度設(shè)置會影響到自超聲頭傳遞過來的壓力的分散減弱，因此，所述第三下斜坡面1213與所述上殼11在超聲密封過程中移動的反方向形成的夾角Y設(shè)置為110°-140°，上述夾角y的角度的限定可最大限度地將自超聲頭傳遞至上殼11 的壓力分散減弱。
[0048]此外，各斜坡面的高度也會影響到自超聲頭傳遞過來的壓力的分散減弱，因此，本實(shí)用新型設(shè)置所述第一下斜坡面1211的高度大于0.8mm，所述第二下斜坡面1221的高度大于0.3mm，所述第三下斜坡面1213的高度大于0.6mm，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)清楚，上述各斜坡面的高度是指沿著垂直方向上的高度值。
[0049]如圖9和圖10所示，本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器模組殼體固定在超聲底座3和超聲頭4之間，超聲頭4沿著圖10中箭頭所示的方向施加給上殼11壓力的方向，通過將超聲能量傳遞至上殼11和下殼12的粘合面處，實(shí)現(xiàn)上殼11和下殼12的超聲密封。
[0050]本實(shí)用新型還提供了一種揚(yáng)聲器模組，其能方便地根據(jù)需求調(diào)整揚(yáng)聲器模組的前聲腔和后聲腔的體積，以更好地提高揚(yáng)聲器的聲學(xué)性能，具體地，該揚(yáng)聲器模組如圖11所示，包括揚(yáng)聲器單體2和本實(shí)用新型的揚(yáng)聲器模組殼體1，其中，所述揚(yáng)聲器單體2位于所述空腔1212中并位于所述下殼橫梁122的一側(cè)，所述揚(yáng)聲器模組的出聲孔1214與所述揚(yáng)聲器單體2位于所述下殼橫梁122的同一側(cè)，上述揚(yáng)聲器單體2包括振膜組件21和磁路組件22，其中，振膜組件21的典型結(jié)構(gòu)包括振膜和音圈，磁路組件22的典型結(jié)構(gòu)包括磁鐵、華司和導(dǎo)磁輒。所述揚(yáng)聲器單體2的振膜組件21、所述下殼本體121、所述下殼橫梁122和所述上殼11共同構(gòu)成所述揚(yáng)聲器模組的前聲腔，所述揚(yáng)聲器單體2的磁路組件22、所述下殼本體121、所述下殼橫梁122和所述上殼11共同構(gòu)成所述揚(yáng)聲器模組的后聲腔;所述第一下斜坡面1211和所述第二下斜坡面1221均位于所述前聲腔中。此外，第三下斜坡面1213優(yōu)選地位于上述后聲腔中。[〇〇511進(jìn)一步地，所述下殼12還包括后蓋123,所述后蓋123位于所述下殼本體121遠(yuǎn)離所述上殼11的一側(cè)并與所述下殼本體121的側(cè)壁構(gòu)成所述空腔1212,所述后蓋123、所述揚(yáng)聲器單體2的磁路組件22、所述下殼本體121、所述下殼橫梁122和所述上殼11共同構(gòu)成所述后聲腔，從而有利于更方便地根據(jù)需求調(diào)整揚(yáng)聲器模組的前聲腔和后聲腔的體積。[〇〇52] 雖然已經(jīng)通過例子對本實(shí)用新型的一些特定實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，以上例子僅是為了進(jìn)行說明，而不是為了限制本實(shí)用新型的范圍。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，可在不脫離本實(shí)用新型的范圍和精神的情況下，對以上實(shí)施例進(jìn)行修改。本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求來限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種揚(yáng)聲器模組殼體，包括上殼和下殼，其特征在于，所述上殼上設(shè)有第一上斜坡面 和第二上斜坡面，所述下殼上設(shè)有分別與所述第一上斜坡面和所述第二上斜坡面相配合的 第一下斜坡面和第二下斜坡面，所述第一下斜坡面與所述第二下斜坡面對應(yīng)設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的揚(yáng)聲器模組殼體，其特征在于，所述下殼包括下殼本體和下殼 橫梁，所述下殼本體設(shè)有空腔，所述下殼橫梁架設(shè)在所述空腔上;其中，所述第一下斜坡面 位于所述下殼本體上，所述第二下斜坡面位于所述下殼橫梁上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的揚(yáng)聲器模組殼體，其特征在于，所述第一下斜坡面包括兩個， 兩個所述第一下斜坡面分別位于所述下殼本體相對的、沿著所述上殼在超聲密封過程中移 動的方向的兩側(cè)壁上。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的揚(yáng)聲器模組殼體，其特征在于，所述第一下斜坡面與所述上殼 在超聲密封過程中移動的方向形成的夾角為115°-160°，所述第二下斜坡面與所述上殼在 超聲密封過程中移動的反方向形成的夾角為100°-140°。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的揚(yáng)聲器模組殼體，其特征在于，所述上殼上還設(shè)有第三上斜坡 面，所述下殼上設(shè)有與所述第三上斜坡面相配合的第三下斜坡面，且所述第三下斜坡面與 所述第一下斜坡面對應(yīng)設(shè)置。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的揚(yáng)聲器模組殼體，其特征在于，所述第三下斜坡面包括兩個， 且兩個所述第三下斜坡面分別位于所述下殼本體相對的、沿著所述上殼在超聲密封過程中 移動的方向的兩側(cè)壁上。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的揚(yáng)聲器模組殼體，其特征在于，所述第三下斜坡面與所述上殼 在超聲密封過程中移動的反方向形成的夾角為110°-140°。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的揚(yáng)聲器模組殼體，其特征在于，所述第一下斜坡面的高度大于 0.8mm，所述第二下斜坡面的高度大于0.3mm，所述第三下斜坡面的高度大于0.6mm。9.一種揚(yáng)聲器模組，其特征在于，包括揚(yáng)聲器單體和權(quán)利要求2至7任一項(xiàng)中所述的揚(yáng) 聲器模組殼體，其中，所述揚(yáng)聲器單體位于所述空腔中并位于所述下殼橫梁的一側(cè)，所述揚(yáng) 聲器模組的出聲孔與所述揚(yáng)聲器單體位于所述下殼橫梁的同一側(cè);所述揚(yáng)聲器單體的振膜 組件、所述下殼本體、所述下殼橫梁和所述上殼共同構(gòu)成所述揚(yáng)聲器模組的前聲腔，所述揚(yáng) 聲器單體的磁路組件、所述下殼本體、所述下殼橫梁和所述上殼共同構(gòu)成所述揚(yáng)聲器模組 的后聲腔;所述第一下斜坡面和所述第二下斜坡面均位于所述前聲腔中。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的揚(yáng)聲器模組，其特征在于，所述下殼還包括后蓋，所述后蓋位 于所述下殼本體遠(yuǎn)離所述上殼的一側(cè)并與所述下殼本體的側(cè)壁構(gòu)成所述空腔，所述后蓋、 所述揚(yáng)聲器單體的磁路組件、所述下殼本體、所述下殼橫梁和所述上殼共同構(gòu)成所述后聲 腔。
【文檔編號】H04R9/06GK205610922SQ201620199328
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年3月15日
【發(fā)明人】張慶, 張慶一, 陳鋼, 李振軍, 范雙雙
【申請人】歌爾股份有限公司