專利名稱：感光性漿料與顯示器面板用部件的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及含有具有軟磁性的無機(jī)粉末的感光性漿料(paste)。
背景技術(shù)：
電磁波屏蔽板廣泛用作例如為了阻斷從顯示器泄漏的電磁波而安裝在顯示器上的前面濾波器(filter)。要求作為顯示器的前面板使用的電磁波屏蔽板具有阻斷電磁波的功能，除此之外，還要求不降低顯示器的顯示畫面的視覺辨認(rèn)度。作為上述電磁波屏蔽板，例如，目前正在使用粘合將金屬箔蝕刻成網(wǎng)狀的蝕刻板與透明基板得到的電磁波屏蔽板，但是該方法存在需要金屬箔的層疊工序或蝕刻工序等大量工序的問題。另外，為了提高視覺辨認(rèn)度，還需要用于將網(wǎng)狀的金屬表面黑色化的鍍鉻等表面處理工序，故存在必須有復(fù)雜工序的問題。作為解決該問題的方法，在特開2002-271086號公報中提出了下述方案，即通過凹版膠印(offset print)，使用含有黑色顏料和金屬粒子的油墨，在玻璃基板上實施凹版膠印形成幾何學(xué)圖案后經(jīng)燒成，制造電磁波屏蔽板。但是由于黑色顏料電阻值高，因此添加了能得到足夠黑色度的量的黑色顏料時，得到的導(dǎo)電層的電阻值變高。因此，為了確保足夠的電磁波屏蔽性，通過濕式鍍敷，在黑色導(dǎo)電層的表面上進(jìn)一步形成金屬層是必要的，故存在工序變復(fù)雜的問題。
專利文獻(xiàn)1特開2002-271086號公報發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明目的在于提供能通過簡略的工序制造具有足夠的視覺辨認(rèn)度與電磁波屏蔽性的顯示器面板用部件的感光性漿料。
即本發(fā)明涉及一種感光性漿料，所述感光性漿料由無機(jī)粉末和感光性有機(jī)成分組成，無機(jī)粉末至少含有軟磁性體粉末(A)及玻璃粉末(B)，軟磁性體粉末(A)及玻璃粉末(B)的質(zhì)量比在20/80～70/30的范圍內(nèi)。
另外，本發(fā)明涉及顯示器面板用部件的制造方法，所述方法包括在基板上涂布上述感光性漿料并干燥的工序。
根據(jù)本發(fā)明，可以提供能高精細(xì)地進(jìn)行圖案加工、且能形成具有高導(dǎo)磁率的軟磁性體層的感光性漿料。通過使用本發(fā)明的感光性漿料，經(jīng)簡略的工序即可制造視覺辨認(rèn)度及電磁波屏蔽性優(yōu)良的顯示器面板用部件。
具體實施例方式
本發(fā)明的感光性漿料由無機(jī)粉末和感光性有機(jī)成分組成。本發(fā)明的感光性漿料優(yōu)選感光性有機(jī)成分在漿料中占5～50質(zhì)量％，無機(jī)粉末在漿料中占50～95質(zhì)量％。
本發(fā)明中，無機(jī)粉末至少含有軟磁性體粉末和玻璃粉末。
作為軟磁性體粉末，只要是表現(xiàn)一旦離開外部磁場就能失去磁化回到原來狀態(tài)的性質(zhì)的物質(zhì)即可。作為軟磁性體粉末的具體例，可以舉出由鐵、鐵合金或鐵氧體(ferrite)組成的粉末。
本發(fā)明中，作為軟磁性體粉末，從具有高導(dǎo)磁率的同時還表現(xiàn)低電導(dǎo)率方面來看，優(yōu)選鐵合金粉末或鐵氧體粉末。從飽和磁通密度高、頑磁力小的觀點來看，更優(yōu)選鐵氧體粉末。作為鐵氧體粉末，特別優(yōu)選用通式MFe2O4(其中，M表示選自Mn-Zn、Ni-Zn、Cu-Zn、Mg-Zn及Ni-Cu-Zn的2價金屬)表示的鐵氧體組成的物質(zhì)。作為鐵合金粉末的具體例，可以舉出坡莫合金(permalloy)、鎳鉬鐵錳合金(supermalloy)、珀明德鐵鈷系高磁導(dǎo)率合金(permendur)、無定形鐵合金、鐵硅鋁磁合金(sendust)、鐵氧體或由Fe-Ni、Fe-Co、Fe-Zr、Fe-Mn、Fe-Si、Fe-Al組成的物質(zhì)等。
軟磁性體粉末的中心粒徑優(yōu)選在0.1～5μm的范圍內(nèi)。中心粒徑不足0.1μm的粉末難以良好地分散在感光性漿料中，故而不優(yōu)選。中心粒徑超過5μm的粉末由于燒成后膜的平坦性或圖案的形狀變差而不優(yōu)選。中心粒徑更優(yōu)選在0.5～4μm的范圍內(nèi)。并且，軟磁性體粉末的最大粒徑優(yōu)選在10μm以下。如果軟磁性體粉末的最大粒徑超過10μm，則燒成后膜的平坦性或圖案的形狀變差而不優(yōu)選。最大粒徑更優(yōu)選為8μm以下。
可以通過庫爾特計數(shù)(Coulter counter)法、光子相關(guān)光譜法及激光衍射法等的體積基準(zhǔn)分布求出中心粒徑和最大粒徑。
玻璃粉末的軟化溫度優(yōu)選為800℃以下。玻璃粉末的軟化溫度優(yōu)選為350℃以上。軟化溫度不足350℃的玻璃，化學(xué)穩(wěn)定性低。如果軟化溫度超過800℃，則燒成工序中玻璃粉末難以軟化。使用玻璃作為基板時，為了在基板上進(jìn)行充分的軟化，玻璃粉末的軟化溫度較優(yōu)選為750℃以下，更優(yōu)選為650℃以下。
玻璃粉末優(yōu)選由非結(jié)晶性玻璃組成。由結(jié)晶性玻璃組成時，有時在燒成后的膜面上易出現(xiàn)裂痕等，降低絕緣性或電特性。如果考慮與軟磁性體粉末的反應(yīng)，則優(yōu)選使用含有選自氧化鉍、氧化鋅、氧化鉛及氧化磷中的至少一種元素的硼硅酸類玻璃粉末。另外，如果考慮環(huán)境方面，則優(yōu)選以氧化鉍或氧化鋅為主要成分的玻璃粉末。使用含有堿金屬的玻璃粉末時，通過燒成時與基板玻璃的離子交換反應(yīng)，有時發(fā)生基板翹曲，故堿金屬的含量優(yōu)選在10質(zhì)量％以下。
玻璃粉末的中心粒徑優(yōu)選在0.1～5μm的范圍內(nèi)。中心粒徑不足0.1μm的粉末難以良好地分散在感光性漿料中，故而不優(yōu)選。中心粒徑超過5μm的粉末由于燒成后的膜的平坦性或圖案的形狀變差而不優(yōu)選。中心粒徑更優(yōu)選在0.5～4μm的范圍內(nèi)。玻璃粉末的最大粒徑優(yōu)選在10μm以下。玻璃粉末的最大粒徑如果超過10μm，則燒成后的膜的平坦性或圖案的形狀變差而不優(yōu)選。玻璃粉末的最大粒徑更優(yōu)選為8μm以下。玻璃粉末的平均粒徑及最大粒徑可以與軟磁性體粉末相同地進(jìn)行測定。
另外，軟磁性體粉末的粒徑與玻璃粉末的粒徑優(yōu)選為相同程度。通過使軟磁性體粉末的粒徑與玻璃粉末的粒徑為相同程度，可以抑制顯影時生成殘膜，使得到的圖案的形狀穩(wěn)定。具體而言，軟磁性體粉末的中心粒徑/玻璃粉末的中心粒徑的值優(yōu)選在0.1～5的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在0.5～4的范圍內(nèi)。對于最大粒徑而言也同樣。
本發(fā)明的感光性漿料中，軟磁性體粉末(A)與玻璃粉末(B)的質(zhì)量比必須在A/B＝20/80～70/30的范圍內(nèi)。玻璃粉末也被稱為玻璃料(glass frit)，為了在燒成時使無機(jī)粉末更易燒結(jié)而添加。由于玻璃料是用于粘合的成分，故優(yōu)選為少量，添加量通常在無機(jī)粉末的3～10質(zhì)量％范圍內(nèi)。但是，發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的感光性漿料中，玻璃粉末(B)的量相對于軟磁性體粉末(A)與玻璃粉末(B)的總量不足30質(zhì)量％時，有時得不到優(yōu)選的結(jié)果。
為了使燒結(jié)感光性漿料得到的軟磁性體層滿足高導(dǎo)磁率等電特性，使用的軟磁性體粉末必須具有高導(dǎo)磁率，同時軟磁性體粉末與玻璃粉末必須充分燒結(jié)，形成致密的軟磁性體層。原因在于如果軟磁性體層不致密，則無法表現(xiàn)軟磁性體粉末原本具有的導(dǎo)磁率。為了使磁性體粉末與玻璃粉末充分燒結(jié)，必須設(shè)定燒成溫度為比較高的溫度，但根據(jù)用途不同，有時難以在高溫下進(jìn)行燒成。例如，使用玻璃作為基板時，由于在高溫下進(jìn)行燒成給玻璃基板帶來不良影響，故限定燒成溫度。本發(fā)明的感光性漿料中，通過設(shè)定玻璃粉末(B)的含量相對于軟磁性體粉末(A)與玻璃粉末(B)的總量為30質(zhì)量％以上，即使燒成溫度比較低，也可以充分燒結(jié)磁性體粉末與玻璃粉末，得到目標(biāo)電特性。另外，如果玻璃粉末(B)的含量相對于軟磁性體粉末(A)與玻璃粉末(B)的總量超過80質(zhì)量％，則軟磁性體粉末(A)的含量變得過低，導(dǎo)致軟磁性體層的電特性下降而不優(yōu)選。較優(yōu)選質(zhì)量比在A/B＝30/70～70/30的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在A/B＝40/60～70/30的范圍內(nèi)。
本發(fā)明的感光性漿料可以含有除上述軟磁性體粉末或玻璃粉末之外的無機(jī)粉末。例如，形成黑色層時，如果添加黑色顏料，則可以利于提高用作顯示器的前面板時的對比度(contrast)。作為黑色顏料，可以優(yōu)選使用由包含鈷、鎳、銅、鐵、錳、鉻及釕等元素的氧化物的無機(jī)氧化物組成的顏料。也可以使用各元素單獨的氧化物，使用由3種以上元素的氧化物構(gòu)成的尖晶石化合物也是有效的。特別是經(jīng)在400～700℃下加熱的工序時，通過使用Co-Cr-Fe、Co-Mn-Fe、Co-Cu-Mn、Co-Ni-Mn、Co-Ni-Cr-Mn、Co-Ni-Cu-Mn等含有Co元素的尖晶石化合物，能防止在高溫下的褪色。作為黑色顏料，由于使用中心粒徑為0.01～1.5μm的顏料能形成具有均勻且足夠的黑色度的黑色層，故而優(yōu)選。如果黑色顏料的中心粒徑不足0.01μm，則黑色顏料易發(fā)生凝集，黑色度容易不均勻。如果黑色顏料的中心粒徑超過1.5μm，則黑色度易降低。作為黑色顏料優(yōu)選使用碳。作為碳粒子，通過使用中心粒徑為1μm以下的碳粒子，能形成黑色度優(yōu)異的黑色層。經(jīng)過400℃以上的加熱工序時，優(yōu)選使用耐熱性碳。黑色顏料的添加量根據(jù)黑色顏料的種類的不同而不同，為了得到足夠的黑色度，相對于所有無機(jī)粉末優(yōu)選在0.1～10質(zhì)量％的范圍內(nèi)。
感光性漿料中的感光性有機(jī)成分，通常由選自反應(yīng)性單體、反應(yīng)性低聚物及反應(yīng)性聚合物中的至少1種、及根據(jù)需要添加的粘合劑聚合物、光聚合引發(fā)劑、光致產(chǎn)酸劑、光致產(chǎn)堿劑、增感劑、增感助劑、紫外線吸收劑、有機(jī)染料、分散劑、增塑劑、增稠劑、有機(jī)溶劑、酸、堿、防沉降劑、聚合禁止劑等添加劑成分構(gòu)成。此處，反應(yīng)性單體、反應(yīng)性低聚物及反應(yīng)性聚合物的反應(yīng)性是指受到活性光線的照射時，通過光交聯(lián)、光聚合、光解聚合、光改性等反應(yīng)，化學(xué)結(jié)構(gòu)發(fā)生改變的性質(zhì)。
作為感光性單體，優(yōu)選使用具有活性碳-碳不飽和雙鍵的化合物。優(yōu)選使用以乙烯基、烯丙基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、丙烯酰胺基等作為官能團(tuán)的單官能團(tuán)及多官能團(tuán)化合物。具體地可以舉出2-(2-乙氧基乙氧基)乙基丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、甲基丙烯酸環(huán)己基酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯等。也優(yōu)選使用上述化合物的環(huán)氧乙烷加成物、環(huán)氧丙烷加成物等。
作為感光性低聚物及感光性聚合物，優(yōu)選使用具有活性碳-碳不飽和雙鍵的低聚物及聚合物。感光性低聚物及感光性聚合物，具有羧基時，能提高感光后的感光性漿料涂布膜的顯影性，故優(yōu)選。具有羧基的低聚物和聚合物，可以通過共聚合下述單體而得到，例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、乙烯基乙酸或上述酸的酸酐等含有羧基的單體及甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯、苯乙烯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、2-羥基丙烯酸酯等單體。
作為具有羧基的低聚物及聚合物，從燒成時的熱分解溫度低方面考慮，優(yōu)選使用以(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸為共聚成分的丙烯酸共聚物。尤其優(yōu)選使用苯乙烯/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物。
具有羧基的共聚物的酸值優(yōu)選為50～150mgKOH/g。如果酸值超過150，則顯影允許范圍變窄。酸值不足50時，由于感光性漿料涂布膜的未曝光部對顯影液的溶解性降低，故如果不提高顯影液濃度則無法顯影。如果提高顯影液濃度，則感光性漿料涂布膜發(fā)生剝離直至曝光部位，難以得到高清晰的圖案。
作為向低聚物或聚合物引入活性碳-碳不飽和雙鍵的方法，可以采用使低聚物或聚合物中的巰基、氨基、羥基或羧基與具有縮水甘油基或異氰酸酯基的乙烯性不飽和化合物或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯、馬來酸等羧酸反應(yīng)進(jìn)行制備的方法等。作為具有縮水甘油基的乙烯性不飽和化合物，可以舉出丙烯酸縮水甘油基酯、甲基丙烯酸縮水甘油基酯、烯丙基縮水甘油醚、乙基丙烯酸縮水甘油基酯、2-丁烯基縮水甘油基醚、巴豆酸縮水甘油基醚、異巴豆酸縮水甘油基醚等。尤其優(yōu)選使用甲基丙烯酸縮水甘油基酯。具有異氰酸酯基的乙烯性不飽和化合物，有(甲基)丙烯酰異氰酸酯、(甲基)丙烯?；一惽杷狨サ?。具有縮水甘油基或異氰酸酯基的乙烯性不飽和化合物、丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯相對于低聚物或聚合物中的巰基、氨基、羥基及羧基，優(yōu)選以0.05～1摩爾當(dāng)量反應(yīng)。
感光性單體、感光性低聚物及感光性聚合物的優(yōu)選添加量為占感光性漿料的2～40質(zhì)量％，更優(yōu)選占5～30質(zhì)量％。
作為需要粘合劑聚合物時的聚合物，可以使用聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、甲基丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯-甲基丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸丁酯樹脂等。
本發(fā)明使用的光聚合引發(fā)劑，選擇使用受到活性光線照射時產(chǎn)生自由基種的化合物。通過同時使用光聚合引發(fā)劑與增感劑，可以提高感度或擴(kuò)大對反應(yīng)有效的波長范圍。作為光聚合引發(fā)劑及增感劑，可以使用通常的光聚合引發(fā)劑及增感劑。但是，本發(fā)明的感光性漿料，由于含有軟磁性體粉末，感光性漿料呈現(xiàn)黑色。因此，曝光光線被吸收，從而需要大量的曝光量，難以得到足夠的感度。另外，曝光后的感光性漿料涂布膜對顯影液的耐受性差，如果顯影時間變長，則有時感光性漿料涂布膜從基板剝離。因此，本發(fā)明的光聚合引發(fā)劑及/或增感劑可以特別優(yōu)選使用在365nm的波長下吸光系數(shù)為1,000(1/mol·cm)以上的物質(zhì)。較優(yōu)選在365nm的波長下吸光系數(shù)為2,000(1/mol·cm)以上。由于通過使用在365nm的波長下吸光系數(shù)為1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引發(fā)劑及/或增感劑，能得到高感度，且感光性漿料涂布膜對顯影液的耐受性也提高，故能擴(kuò)大處理限度(process margin)。吸光系數(shù)的上限沒有特別限定，優(yōu)選在365nm的波長下為100,000(1/mol·cm)以下。
吸光系數(shù)可以如下測定。
(1)稱量光聚合引發(fā)劑及/或增感劑，使其完全溶解于γ-丁內(nèi)酯。
(2)稱量后用10ml的量筒進(jìn)行稀釋。
(3)利用島津制作所社制UV-3101PC型自記分光光度計(吸收池為10mm)，以0.5nm波長為單位測定(2)的稀釋溶液在波長265nm～600nm區(qū)域的吸光度。
(4)(3)中求得的吸光度超過0.7時，稀釋至適當(dāng)?shù)臐舛?，測定吸收光譜。
(5)重復(fù)進(jìn)行稀釋和測定直至測定的最大吸光度為0.7以下。
(6)根據(jù)蘭伯特比爾定律(Lambert Beer’1aw)，從得到的各濃度的光譜計算在365nm下的每單位濃度的吸光系數(shù)(1/mol·cm)。
吸光系數(shù)＝吸光度/(摩爾濃度×d)(式中，d表示吸收池長度)作為在365nm波長下的吸光系數(shù)為1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引發(fā)劑的具體例子，可以舉出2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁酮、二(2，4，6-三甲基苯甲?；?-苯基氧化膦、二(2，6-二甲氧基苯甲?；?-2，4，4-三甲基-戊基氧化膦等。
本發(fā)明可以使用1種或2種以上上述光聚合引發(fā)劑。相對于感光性有機(jī)成分優(yōu)選在0.05～10質(zhì)量％的范圍內(nèi)添加光聚合引發(fā)劑，更優(yōu)選在0.1～10質(zhì)量％的范圍內(nèi)。如果聚合引發(fā)劑的量過少，則光感度下降，如果光聚合引發(fā)劑的量過多，則有可能顯影時曝光部的殘留率變小。
作為在365nm的波長下吸光系數(shù)為1,000(1/mol·cm)以上的增感劑的具體例子，可以舉出2-甲基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2-十二烷基噻噸酮、3-氯噻噸酮、2，4-二甲基噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、2，4-二異丙基噻噸酮、4，4’-二(二乙基氨基)二苯酮、4，4’-二(二甲基氨基)二苯酮、4，4’-二(二丙基氨基)二苯酮、4，4’-二(哌啶基)二苯酮、2-苯基-1，2-丁二酮-2-(鄰甲氧基羰基)肟、1-苯基丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟、1，3-二苯基丙三酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等。其中，特別優(yōu)選二(烷基氨基)二苯酮或噻噸酮衍生物。
本發(fā)明中可以使用1種或2種以上上述增感劑。在本發(fā)明的感光性漿料中添加增感劑時，其添加量相對于感光性有機(jī)成分優(yōu)選為0.05～10質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.1～10質(zhì)量％。如果增感劑的量過少，則不發(fā)揮提高光感度的效果，如果增感劑的量過多，則顯影時曝光部的殘留率可能變小。
除了在365nm的波長下吸光系數(shù)為1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引發(fā)劑及/或增感劑，優(yōu)選在感光性漿料中，作為感光性有機(jī)成分還含有在超過400nm的波長區(qū)域中具有最大吸收的化合物。如上所述，通過在感光性漿料中含有在365nm的波長下吸光系數(shù)為1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引發(fā)劑及/或增感劑，可以提高感光性漿料的感度，但感光性漿料涂布膜較厚時，由于底部曝光光線衰減，故難以進(jìn)行充分的固化。因此，為了使感光性漿料涂布膜固化直至底部，需要增加曝光量。此處，如果進(jìn)一步含有在超過400nm的波長區(qū)域具有最大吸收的化合物，則由于超過400nm的波長的光易透射至感光性漿料涂布膜的底部，故該涂布膜的底部也能進(jìn)行固化。因此，較少曝光量就能進(jìn)行曝光。另外，由于固化能進(jìn)行直至感光性漿料涂布膜底部，因此即使顯影時間變長，感光性漿料涂布膜也難以從基板剝離，可以擴(kuò)大處理限度。能實現(xiàn)在厚膜中的加工。特別是使用二(烷基氨基)二苯酮或噻噸酮衍生物作為增感劑，并組合使用在超過400nm的波長區(qū)域具有最大吸收的化合物時，能得到顯著的效果，故而優(yōu)選。
上述化合物的最大吸收較優(yōu)選存在于超過405nm的波長區(qū)域，更優(yōu)選存在于超過410nm的波長區(qū)域，由此上述效果更明顯，故而優(yōu)選。另一方面，由于通常曝光中使用的超高壓水銀燈的主波長為365nm、405nm及436nm，故使用上述光源時，上述化合物的最大吸收優(yōu)選在500nm以下的波長區(qū)域內(nèi)。
作為在超過400nm的波長區(qū)域中具有最大吸收的化合物的具體例子，可以舉出1-氯-N-甲基吖啶酮、2-氯-N-甲基吖啶酮、3-氯-N-甲基吖啶酮、2-氯-N-丁基吖啶酮、2-氯-N-甲基吖啶酮、3-氯-N-芐基吖啶酮、4-氯-N-甲基吖啶酮、2，3-二氯-N-甲基吖啶酮、2，6-二氯-N-丁基吖啶酮、N-芐基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-乙基吖啶酮等吖啶酮衍生物，但并不限定于此。在超過400nm的波長區(qū)域具有最大吸收的化合物的優(yōu)選添加量為在感光性漿料中占0.1～10質(zhì)量％。較優(yōu)選為0.5～5質(zhì)量％。
在本發(fā)明的感光性漿料中添加紫外線吸收劑也是有效的。本發(fā)明的感光性漿料由于使用性質(zhì)不同的軟磁性體粉末與玻璃粉末作為無機(jī)粉末，故在感光性漿料涂布膜的內(nèi)部曝光光線散射大，得到的圖案有易擴(kuò)展的傾向。紫外線吸收劑吸收感光性漿料涂布膜內(nèi)部的散射光，削弱散射光。由此，抑制圖案的擴(kuò)展，得到清晰的圖案。作為紫外線吸收劑，可以舉出二苯酮類化合物、氰基丙烯酸酯類化合物、水楊酸類化合物、苯并三唑類化合物、吲哚類化合物、無機(jī)類的微粒氧化金屬等。其中，二苯酮類化合物、氰基丙烯酸酯類化合物、苯并三唑類化合物、吲哚類化合物特別有效。作為上述化合物的具體例子，可以舉出2，4-二羥基二苯酮、2-羥基-4-甲氧基二苯酮、2，2’-二羥基-4-甲氧基二苯酮、2，2’-二羥基-4，4’-二甲氧基二苯酮、2，2’-二羥基-4，4’-二甲氧基-5-硫代二苯酮、2-羥基-4-甲氧基-2’-羧基二苯酮、2-羥基-4-甲氧基-5-硫代二苯酮三水合物(sulfobenzophenonetrihydrate)、2-羥基-4-正辛氧基二苯酮、2-羥基-4-十八烷氧基二苯酮、2，2’，4，4’-四羥基二苯酮、4-十二烷氧基-2-羥基二苯酮、2-羥基-4-(2-羥基-3-甲基丙烯酰氧基)丙氧基二苯酮、2-(2’-羥基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’，5’-二-叔丁基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯-苯并三唑、2-(2’-羥基-3’，5’-二-叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羥基-4’-正辛氧基苯基)苯并三唑、2-乙基己基-2-氰基-3，3-二苯基丙烯酸酯、2-乙基-2-氰基-3，3-二苯基丙烯酸酯、吲哚類吸收劑BONASORB UA-3901(ORIENT化學(xué)社制)、BONASORBUA-3902(ORIENT化學(xué)社制)SOM-2-0008(ORIENT化學(xué)社制)等，但并不限定于上述化合物。還優(yōu)選使用在上述紫外線吸收劑的骨架上引入甲基丙烯酰基等的反應(yīng)型紫外線吸收劑。本發(fā)明中，可以使用1種以上上述紫外線吸收劑。
紫外線吸收劑的添加量優(yōu)選在感光性漿料中占0.001～10質(zhì)量％，更優(yōu)選占0.005～5質(zhì)量％。如果添加量不足0.001～10質(zhì)量％，則散射光的吸收能力差。如果添加量超過10質(zhì)量％，則曝光光線的透過率下降，感光性漿料的感度下降，故而不優(yōu)選。
使用有機(jī)染料作為紫外線吸收劑也是有效的。使用有機(jī)染料時，有機(jī)染料吸收上述感光性漿料內(nèi)部的散射光，除此之外，感光性漿料被染色，由此具有改善顯影時的視覺辨認(rèn)度的效果。即，容易區(qū)別顯影時漿料殘留的部分與被除去的部分。作為有機(jī)染料，沒有特別限定，但是優(yōu)選不殘留在燒成后的絕緣膜中的有機(jī)染料。具體地可以舉出蒽醌類染料、靛類染料、酞菁類染料、正碳離子染料、醌亞胺類染料、甲川類染料、喹啉類染料、硝基類染料、亞硝基類染料、苯醌類染料、萘醌類染料、酞酰亞胺類染料、紫環(huán)酮類染料等。如果選擇吸收h線與i線附近波長的光的有機(jī)染料，例如堿性藍(lán)等正碳離子類染料，則更易表現(xiàn)本發(fā)明的效果，故而特別優(yōu)選。有機(jī)染料的添加量優(yōu)選為0.001～1質(zhì)量％。
在本發(fā)明的感光性漿料中添加聚合禁止劑也是有效的。通過添加聚合禁止劑，在較少的曝光量時，聚合禁止劑捕獲自由基。在增加曝光量直至不能被聚合禁止劑抑制的程度時，由于急劇進(jìn)行光反應(yīng)，故可以提高曝光后的感光性漿料在顯影液中的溶解及不溶的對比度。
作為聚合禁止劑，具體地可以舉出氫醌、吩噻嗪、對叔丁基兒茶酚、2，5-二丁基氫醌、單-叔丁基氫醌、2，5-二叔戊基氫醌、N-苯基萘基胺、2，6-二叔丁基-對甲基苯酚、氯醌、對甲氧基苯酚、連苯三酚等，但并不限定于此。本發(fā)明中，可以使用1種以上上述聚合禁止劑。
聚合禁止劑的添加量優(yōu)選在感光性漿料中占0.001～1質(zhì)量％，更優(yōu)選占0.005～0.5質(zhì)量％。如果少于上述范圍，則提高在顯影液中的溶解及不溶的對比度的效果小。如果超過上述范圍，則感光性漿料的感度下降或感光性有機(jī)成分的聚合度不上升，故而不優(yōu)選。
通過控制紫外線吸收劑與聚合禁止劑，能控制圖案的形狀。
為了根據(jù)涂布方法調(diào)整將感光性漿料涂布在基板上時的粘度，還優(yōu)選添加有機(jī)溶劑。作為有機(jī)溶劑，優(yōu)選甲基乙基酮、二噁烷、丙酮、環(huán)己酮、環(huán)戊酮、異丁醇、異丙醇、四氫呋喃、二甲基亞砜、γ-丁內(nèi)酯、溴苯、氯苯、二溴苯、二氯苯、溴苯甲酸、氯苯甲酸等、二甘醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇單丁基醚、二甘醇單丁基醚乙酸酯、2-甲基-2，4-戊二醇、3-甲基-1，5-戊二醇、2-乙基-1，3-己二醇、松油醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇單異丁酸酯(Texanol)、苯甲醇、二丙二醇單乙基醚、三丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯及含有上述溶劑中的1種以上的有機(jī)溶劑混合物。有機(jī)溶劑優(yōu)選主要考慮揮發(fā)性、和使用的感光性單體、感光性低聚物及感光性聚合物的溶解性而進(jìn)行選定。如果感光性單體、感光性低聚物及感光性聚合物在有機(jī)溶劑中的溶解性低，則即使固體成分比相同，仍然存在導(dǎo)致感光性漿料的粘度變高、涂布特性變差的傾向。
有機(jī)溶劑的含有率如果過少，則感光性漿料的粘度過高，難以排除涂膜內(nèi)的氣泡，有涂布面的平滑性不良的傾向。相反，如果有機(jī)溶劑的含有率過高，則感光性漿料中的無機(jī)粉末的沉降變快，感光性漿料的組成變得不穩(wěn)定，或干燥需要的能量和時間增多。有機(jī)溶劑的優(yōu)選含有率在感光性漿料中占5～50質(zhì)量％，更優(yōu)選占10～40質(zhì)量％。
本發(fā)明的感光性漿料是將各種成分調(diào)合成規(guī)定的組成后，用行星式攪拌機(jī)(planetary mixer)等攪拌機(jī)進(jìn)行預(yù)分散后，用三輥磨等分散機(jī)通過分散·混煉方法進(jìn)行均勻分散、制備。
本發(fā)明的感光性漿料可以適用于制作顯示器面板用部件。本發(fā)明中，所謂顯示器面板用部件是指具有電磁波屏蔽性的顯示器面板用部件。作為典型例，可以舉出配置在顯示器面板前面的電磁波屏蔽板、或組裝有該電磁波屏蔽板的顯示器面板用光學(xué)濾波器等。
本發(fā)明的感光性漿料除用于顯示器面板用部件之外，還可以用于無線式通話裝置的具有電磁波屏蔽或感應(yīng)(inductor)部的配線基板的磁性層等中。用于配線基板的磁性層時，例如在基板上涂布并干燥本發(fā)明的感光性漿料后，經(jīng)曝光工序及顯影工序形成穿通孔(throughhole)部，進(jìn)一步經(jīng)燒成形成磁性層。通過使用本發(fā)明的感光性漿料，具有提高生產(chǎn)率、實現(xiàn)低成本化或感應(yīng)部的磁性層難以發(fā)生剝離從而提高可靠性等優(yōu)點。
然后，以電磁波屏蔽板為例說明使用本發(fā)明的感光性漿料的顯示器面板用部件的制造方法。
作為電磁波屏蔽板的層結(jié)構(gòu)，可以舉出基板/黑色層/金屬層、基板/金屬層/黑色層、基板/黑色層/金屬層/黑色層等結(jié)構(gòu)。作為基板，使用在表面形成有透明導(dǎo)電層的基板，優(yōu)選形成為基板/透明導(dǎo)電層/黑色層/金屬層、基板/透明導(dǎo)電層/金屬層/黑色層、基板/透明導(dǎo)電層/黑色層/金屬層/黑色層等結(jié)構(gòu)。黑色層及金屬層的制作中采用漿料法時，通過改變涂布的漿料的種類和順序，可以制作任一種層結(jié)構(gòu)。
(基板)作為在電磁波屏蔽板中使用的基板，只要是能配置在顯示器前面的透明基板即可，可以沒有特別限定地使用。作為具體例子，可以使用玻璃基板、樹脂基板、膜等。作為樹脂基板，可以使用厚度為0.5～3mm的丙烯酸板或聚碳酸酯基板等公知的透明樹脂基板。作為膜，可以使用聚對苯二甲酸乙二醇酯膜或聚碳酸酯膜。
其中，從成本及加工自由度高的方面考慮，最優(yōu)選使用玻璃基板。作為玻璃基板的厚度，優(yōu)選在0.7～5mm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在1.0～3.5mm的范圍內(nèi)。如果厚度薄于0.7mm，則處理時及使用時玻璃基板易破損。如果厚度超過5mm，則過重，故而不優(yōu)選。另外，從防止制造時及使用時出現(xiàn)破損的觀點考慮，優(yōu)選玻璃基板為經(jīng)強化處理后的基板。從強化處理的觀點來看，優(yōu)選具有1.5mm以上厚度的玻璃基板。
玻璃基板的強化處理可以在形成黑色層及金屬層之前進(jìn)行，也可以在形成之后進(jìn)行。即，可以在強化處理玻璃基板后，在該強化玻璃上形成黑色層及金屬層，也可以在普通玻璃上形成黑色層及金屬層后，強化處理玻璃。玻璃的強化處理是通過使玻璃表面壓縮變形來增加強度的處理，根據(jù)使表面壓縮變形的方法，可分為熱強化處理與化學(xué)強化處理。由于玻璃在拉伸力的作用下從表面破壞，所以，如果預(yù)先使表面壓縮變形，則可以增加強度。熱強化處理如下進(jìn)行將板狀玻璃加熱至其軟化點附近后，用空氣流使玻璃表面急劇冷卻，在玻璃表面形成壓縮應(yīng)力層。在黑色層及金屬層形成后進(jìn)行強化處理時，優(yōu)選在具有連續(xù)或分步加熱室的加熱爐中加熱至軟化點附近后，從一組空氣噴嘴垂直向玻璃基板的兩面吹入空氣流進(jìn)行急劇冷卻而進(jìn)行。
玻璃基板可以被金屬離子、金屬膠體、非金屬元素等著色。玻璃基板的著色可以采用公知的方法進(jìn)行。大部分情況下著色的目的在于提高顯示器的易視性。
(透明導(dǎo)電層)通過在基板表面形成透明導(dǎo)電層，可以維持光透過率，降低基板的電阻值，提高電磁波屏蔽性。例如，通過使用在玻璃基板表面形成有由ITO或氧化錫組成的透明導(dǎo)電層的玻璃基板，可以提高電磁波屏蔽性。上述透明導(dǎo)電層可以通過噴濺法或CVD(化學(xué)氣相沉積，Chemical Vapor Deposition)法形成。
作為透明導(dǎo)電層，與氧化錫比較，ITO具有能降低電阻的優(yōu)點，但使用玻璃作為基板時，不使用昂貴的銦的氧化錫在成本方面優(yōu)異。另外，使用銀作為金屬層時，從能抑制銀在基板上形成時通過銀/玻璃問的反應(yīng)而黃色化的問題的優(yōu)點來看也是優(yōu)選氧化錫。
(金屬層)為了得到充分的電磁波屏蔽性，電磁波屏蔽板的表面電阻值優(yōu)選為1Ω以下。表面電阻值更優(yōu)選為0.1Ω·cm以下。但是，只利用透明導(dǎo)電層難以將電磁波屏蔽板的表面電阻值設(shè)定為1Ω以下。另外，為了降低電阻值而形成較厚的透明導(dǎo)電層時，光線透過率下降，存在下述問題顯示器的視覺辨認(rèn)度降低，或需要長時間的真空工序從而導(dǎo)致生產(chǎn)率顯著下降。優(yōu)選在基板上形成網(wǎng)狀或條紋狀的金屬層。通過將該金屬層形成為網(wǎng)狀或條紋狀，可以從網(wǎng)或條紋的開口部分透射光線。
作為金屬層的材料，優(yōu)選使用易降低電阻值的銀。該金屬層中可以含有除銀以外的鎳或鋁等金屬。但是，通過將銀在金屬成分中的含量設(shè)定為50質(zhì)量％以上，可以降低電阻值故而優(yōu)選。如果銀的含有率不足50％，則電阻值易增大。
為了得到充分的電磁波屏蔽性，優(yōu)選將網(wǎng)狀或條紋狀金屬層的線寬設(shè)定為5～30μm。如果網(wǎng)或條紋的線寬小于5μm，則圖案易發(fā)生缺損，如果線寬超過30μm，則光透過率下降。金屬層的厚度優(yōu)選為0.5～15μm，更優(yōu)選為1～10μm。如果薄于0.5μm，則金屬層的電阻值變大，電磁波屏蔽性不足。另一方面，金屬層的厚度厚于15μm時，網(wǎng)或條紋的形成工序變復(fù)雜或材料成本增加。另外，如果金屬層厚，則存在下述問題在圖案側(cè)面的反射引起視覺辨認(rèn)度下降，從而必須有為防止其發(fā)生的透明化處理工序。
由于網(wǎng)或條紋圖案的間距過粗，會因莫爾(Moire)條紋現(xiàn)象導(dǎo)致顯示器的視覺辨認(rèn)度下降，所以優(yōu)選為PDP像素間距的1/2以下。即，由于通常的PDP形成0.7～1mm正方形的像素，故優(yōu)選以0.1～0.5mm的間距形成網(wǎng)或條紋的間距。
(黑色層)由于金屬層反射光線，故存在反射光引起顯示器的視覺辨認(rèn)度下降的問題。因此，優(yōu)選通過形成黑色層，抑制反射，提高視覺辨認(rèn)度。在金屬層的上部形成具有與金屬層相同的條紋狀或網(wǎng)狀的形狀的黑色層，即可以通過形成上部黑色層，抑制反射，同時確保顯示器的視覺辨認(rèn)度與電磁波屏蔽性。
作為黑色層的厚度，受黑色層的黑度的影響，優(yōu)選為0.5～10μm。為了得到足夠的黑色度，黑色層的厚度優(yōu)選為0.5μm以上。另外，從材料成本方面考慮優(yōu)選將黑色層的厚度設(shè)定為10μm以下。
如果使用本發(fā)明的感光性軟磁性體漿料形成黑色層，則黑色層本身具有電磁波屏蔽性，可以形成電磁波屏蔽性高的電磁波屏蔽板，故而優(yōu)選。
(制造方法)作為在基板上制作金屬層的方法，可以舉出下述方法使用含有金屬的漿料，在基板上形成必要的圖案后，通過燒成形成金屬層。作為使用金屬漿料形成必要圖案的方法，可以采用膠印、絲網(wǎng)印刷等圖案印刷法。但是存在下述問題，膠印難以較厚地形成金屬層，而絲網(wǎng)印刷難以將金屬層的線寬降至30μm以下。作為優(yōu)選方法，有感光性漿料法。感光性漿料法是使用含有感光性有機(jī)成分與金屬粉末的漿料，采用光刻法形成圖案的方法。
作為制作黑色層的方法，可以優(yōu)選舉出下述方法使用本發(fā)明的感光性軟磁性體漿料，采用光刻法形成必要圖案后，通過燒成形成黑色層。需要說明的是，金屬層與黑色層的燒成也可以一起進(jìn)行。
下面，舉出采用感光性漿料法的電磁波屏蔽板的制造方法之一例。在基板上涂布含有金屬粉末及感光性有機(jī)成分的感光性金屬漿料，并干燥，形成感光性金屬漿料涂布膜。進(jìn)一步在其上涂布本發(fā)明的感光性軟磁性體漿料，并干燥，形成感光性金屬漿料涂布膜及感光性軟磁性體漿料涂布膜的層疊涂布膜。然后，進(jìn)行如下操作，在該層疊涂布膜上通過與網(wǎng)狀圖案相對應(yīng)的光掩模，照射活性光線進(jìn)行曝光后，顯影，將層疊涂布膜形成網(wǎng)狀圖案。然后，當(dāng)使用玻璃基板作為基板時，在400～700℃下加熱進(jìn)行燒成。由此，燒去層疊涂布膜中的有機(jī)成分，同時粘合無機(jī)粉末，由金屬漿料涂布膜形成金屬層，由軟磁性體漿料涂布膜形成黑色層。燒成溫度不足400℃時，由于沒有充分減少金屬層及黑色層中的有機(jī)物，因此與玻璃基板的密合性不充分。另一方面，燒成溫度超過700℃時，玻璃基板本身有可能發(fā)生變形。
為了使無機(jī)粉末充分粘合，金屬層及黑色層中的有機(jī)物的殘留量優(yōu)選設(shè)定為燒成前的質(zhì)量的10％以下，更優(yōu)選設(shè)定為5％以下。燒成時間調(diào)整為在優(yōu)選溫度范圍內(nèi)將殘留有機(jī)物減少至優(yōu)選的范圍內(nèi)即可。作為玻璃基板使用強化處理玻璃時，為了不使強化被退火，必須將燒成條件設(shè)定為低于該玻璃的變形點。因此，優(yōu)選在比玻璃的變形點低30℃以上的溫度下進(jìn)行燒成，更優(yōu)選在比玻璃的變形點低50℃以上、特別優(yōu)選在低100℃以上的溫度下進(jìn)行燒成。另一方面，使用普通玻璃作為玻璃基板時，可以通過在玻璃基板上形成感光性漿料涂布膜的圖案后，在接近玻璃基板的軟化點的溫度下進(jìn)行燒成，然后，急劇冷卻，從而同時進(jìn)行玻璃基板的強化。具體而言，例如可以通過在600～700℃下加熱數(shù)十秒～十幾分鐘后，吹入空氣急劇冷卻，同時進(jìn)行感光性漿料涂布膜的燒成與玻璃基板的強化處理。強化處理條件可以根據(jù)玻璃基板的厚度或必要的強化程度進(jìn)行適當(dāng)選擇。
由此，可以得到在玻璃基板上形成有網(wǎng)狀金屬層及黑色層的電磁波屏蔽板。通過進(jìn)一步賦予電磁波屏蔽板防反射功能或透過率控制功能，制作顯示器用光學(xué)濾波器。作為賦予防反射功能的方法，有在加工后的基板上涂布低折射率的防反射涂料進(jìn)行加熱的方法。另外，也有將具有防反射功能的膜粘合在該電磁波屏蔽板上的方法。通過粘合用于控制透射光的波長的色補正膜、切斷紅外線或紫外線的膜、和用于等離子體顯示器時使用的具有切斷氖光的功能的膜等，制作具有透過率控制功能的光學(xué)濾波器。也可以通過在玻璃基板自身中添加適當(dāng)?shù)慕饘匐x子，賦予近紅外線吸收性能。還優(yōu)選粘合防止指紋等污染物質(zhì)附著在表面的防污性膜等。由此得到的光學(xué)濾波器可以優(yōu)選用作顯示器用的前面濾波器，例如等離子體顯示器面板等的前面濾波器。
實施例下面根據(jù)實施例進(jìn)一步詳細(xì)地說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限定于該實施例。另外，各實施例及比較例得到的電磁波屏蔽板根據(jù)下面的(1)、(2)及(3)進(jìn)行評價。
(1)金屬層及黑色層的線寬及形狀用顯微鏡觀察在各實施例得到的電磁波屏蔽板上形成的網(wǎng)狀金屬層及黑色層，進(jìn)行線寬的測定及形狀的觀察。
(2)電阻值表面電阻使用三菱化學(xué)(株)制的表面電阻測定器“Loresta”進(jìn)行測定，采用4探針法測定各實施例得到的電磁波屏蔽板的表面電阻。
(3)電磁波屏蔽性從各實施例得到的電磁波屏蔽板切下一邊為100mm的正方形試樣，使用基于KEC(關(guān)西電子工業(yè)振興中心)法的Anritsu社制EMI屏蔽測定裝置(MA8602B)測定電磁波屏蔽性。
10dB以下幾乎無效10～30dB最小限度的效果30～60dB平均效果60～80dB平均以上的效果80～120dB高性能效果(屏蔽性能dB)＝20×log(屏蔽后的電場強度/屏蔽前的電場強度)
(4)吸光系數(shù)用于感光性漿料的光聚合引發(fā)劑及增感劑的吸光系數(shù)根據(jù)以下步驟求得。
a.稱量光聚合引發(fā)劑及/或增感劑，使其完全溶解于γ-丁內(nèi)酯。
b.稱量后用10ml的量筒進(jìn)行稀釋。
c.利用島津制作所社制UV-3101PC型自記分光光度計(吸收池為10mm)，以0.5nm波長為單位測定b的稀釋溶液在波長為265nm～600nm區(qū)域的吸光度。
d.c中求得的吸光度超過0.7時，稀釋至適當(dāng)?shù)臐舛?，測定吸收光譜。
e.重復(fù)進(jìn)行稀釋和測定直至測定的最大吸光度為0.7以下。
f.根據(jù)蘭伯特比爾定律，從得到的各濃度的光譜計算在365nm下的每單位濃度的吸光系數(shù)(1/mol·cm)。
吸光系數(shù)＝吸光度/(摩爾濃度×d)(式中，d表示吸收池長度)(5)無機(jī)粉末的粒徑用于感光性漿料的無機(jī)粉末的粒徑如下測定在1.5分鐘超聲波的作用下使1g試樣分散在精制水中，使用Microtrac社制粒度分布計HRA9320-X100進(jìn)行測定。粒子折射率根據(jù)無機(jī)粉末種類的不同而改變，溶劑折射率為1.33。進(jìn)行3次測定，求平均值。
(實施例1～12)使用Microtech社制絲網(wǎng)印刷機(jī)及380目的絲網(wǎng)印刷版在大小為970mm×580mm、厚度為3mm的鈉玻璃基板(日本板硝子社制)上全面涂布由下述物質(zhì)組成的感光性銀漿料3質(zhì)量％玻璃粉末、6質(zhì)量％甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物(質(zhì)量組成比60/40、質(zhì)量平均分子量32000)、3質(zhì)量％二季戊四醇六丙烯酸酯、1質(zhì)量％1-羥基環(huán)己基苯基酮、74質(zhì)量％中心粒徑為2μm的Ag粉末(同和礦業(yè)社制)、13質(zhì)量％有機(jī)溶劑(二甘醇單丁基醚乙酸酯)，使用Ta Bai社制熱風(fēng)干燥機(jī)，在100℃下干燥30分鐘。作為玻璃粉末，使用粉碎由氧化鉍(75質(zhì)量％)、氧化硅(5質(zhì)量％)、氧化硼(10質(zhì)量％)、氧化鋯(3質(zhì)量％)、氧化鋅(3質(zhì)量％)及氧化鋁(4質(zhì)量％)組成的玻璃得到的中心粒徑為0.8μm、最大粒徑為7μm的玻璃粉末。干燥后的感光性銀漿料涂布膜的厚度為15μm。
然后，使用Microtech社制的絲網(wǎng)印刷機(jī)及380目的絲網(wǎng)印刷版，在感光性銀漿料涂布膜上全面涂布表1所示組成的感光性軟磁性體漿料，使用Ta Bai社制熱風(fēng)干燥機(jī)，在100℃下干燥30分鐘。干燥后的感光性軟磁性體漿料涂布膜的厚度為13μm。在由此得到的基板上，通過形成了線間距為300μm、線寬為20μm的網(wǎng)狀開口部的光掩模，照射曝光光線，同時曝光感光性銀漿料涂布膜及感光性軟磁性體漿料涂布膜。曝光機(jī)使用大日本網(wǎng)屏制曝光機(jī)(光源2kW超高壓水銀燈)。曝光后，用0.5％的2-氨基乙醇水溶液噴淋2分鐘進(jìn)行顯影，由此將感光性銀漿料涂布膜及感光性軟磁性體漿料涂布膜加工成網(wǎng)狀圖案。其后，使用光洋熱處理(Koyo-thermo systems)社制輥柱爐底(rollerhearth)燒成爐在700℃下對該帶有網(wǎng)狀圖案的玻璃基板燒成5分鐘后，吹入空氣急劇冷卻。通過該處理，感光性銀漿料涂布膜及感光性軟磁性體漿料涂布膜成為具有網(wǎng)狀圖案的金屬層及黑色層，堅固地粘合在玻璃基板上，同時，基材玻璃成為強化玻璃。由此制作電磁波屏蔽板。
另外，表1中使用的材料如下所示。表1中，上排為材料，下排為其比例(質(zhì)量份)。


AMn-Zn類鐵氧體粉末，商品名為“KNS-415”(戶田工業(yè)社制)、中心粒徑為1.7μm，最大粒徑為7.3μmBNi-Zn類鐵氧體粉末，商品名為“BSN-714”(戶田工業(yè)社制)、中心粒徑為2.7μm，最大粒徑為8.1μmC粉碎由氧化鉍(75質(zhì)量％)、氧化硅(5質(zhì)量％)、氧化硼(10質(zhì)量％)、氧化鋯(3質(zhì)量％)、氧化鋅(3質(zhì)量％)及氧化鋁(4質(zhì)量％)組成的玻璃得到的中心粒徑為0.8μm、最大粒徑為7μm的非結(jié)晶性玻璃粉末
D氧化鈷(Co3O4，中心粒徑為0.1μm)E酸值為85、質(zhì)量平均分子量為32,000的感光性丙烯酸聚合物(東麗社制APX-716)F環(huán)氧丙烷改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(第一工業(yè)制藥社制)G2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁酮(在365nm波長下的分子吸光系數(shù)7,800)H二(2，4，6-三甲基苯甲?；?-苯基氧化膦(在365nm波長下的分子吸光系數(shù)2,300)11-羥基環(huán)己基苯基酮(在365nm波長下的分子吸光系數(shù)20)J2，4-二乙基噻噸酮(在365nm波長下的分子吸光系數(shù)5,100)K4，4’-二(二乙基氨基)二苯酮(在365nm波長下的分子吸光系數(shù)37,000)LN-丁基吖啶酮(最大吸收波長為402nm)M堿性藍(lán)26N對甲氧基苯酚O二甘醇單丁基醚乙酸酯使用表1所示組成的感光性漿料的結(jié)果如表2所示。實施例1～9中，可以用能充分實用的感度進(jìn)行曝光，金屬層及黑色層的線寬及形狀均良好。實施例10中，必須有大量的曝光量，金屬層及黑色層的形狀均稍不良，但能形成圖案。實施例11～13中金屬層及黑色層的形狀稍不良，但能形成圖案。
得到的電磁波屏蔽板的評價結(jié)果如表2所示。


進(jìn)一步在實施例1～12制作的電磁波屏蔽板上粘合具有防反射功能、色補正功能及氖光切斷功能的功能膜(住友大阪水泥社制)，制作前面濾波器。根據(jù)畫面的霧度感評價視覺辨認(rèn)度，結(jié)果為良好。
(比較例1)采用凹版膠印法，在大小為970mm×580mm的聚酯膜上用含有1質(zhì)量％炭黑的銀漿料，形成間距為300μm、線寬為20μm的網(wǎng)狀圖案，在150℃下加熱。然后，在網(wǎng)狀銀漿料圖案上，采用電鍍形成3μm厚度的鍍銅層。由此，制作在聚酯膜上具有網(wǎng)狀圖案的電磁波屏蔽膜。
將得到的電磁波屏蔽膜粘合在玻璃基板上，其上，粘合具有防反射功能、色補正功能及氖光切斷功能的功能膜(住友大阪水泥社制)，制作前面濾波器。根據(jù)畫面的霧度感評價視覺辨認(rèn)度，結(jié)果為良好。但是由于必須有鍍敷工序，故需要額外的工序。
(比較例2)在大小為970mm×580mm的聚酯膜上層疊厚度為13μm的銅箔后，層疊干膜抗蝕劑。通過形成有間距為300μm、線寬為20μm的網(wǎng)狀開口部的光掩模，曝光干膜抗蝕劑。然后，經(jīng)顯影、蝕刻及剝離抗蝕劑的各工序，制作在聚酯膜上有網(wǎng)狀圖案的電磁波屏蔽膜。
將得到的電磁波屏蔽膜粘合在玻璃基板上，其上，粘合具有防反射功能、色補正功能及氖光切斷功能的功能膜(住友大阪水泥社制)，制作前面濾波器。根據(jù)畫面的霧度感評價視覺辨認(rèn)度，結(jié)果為霧度感較強、視覺辨認(rèn)度不良。
(比較例3)如表1所示地改變感光性軟磁性體漿料的組成，除此之外，與實施例1相同地操作，制作電磁波屏蔽板。燒成后，金屬層及黑色層從玻璃基板剝離。
(比較例4)如表1所示地改變感光性軟磁性體漿料的組成，除此之外，與實施例1相同地操作，制作電磁波屏蔽板和前面濾波器。根據(jù)畫面的霧度感評價視覺辨認(rèn)度，結(jié)果為霧度感較強、視覺辨認(rèn)度不良。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性本發(fā)明提供感光性漿料，通過使用本發(fā)明的感光性漿料，經(jīng)簡略的工序，可制造視覺辨認(rèn)度優(yōu)異的電磁波屏蔽板。
本發(fā)明的感光性漿料可用于顯示器的電磁波屏蔽板，除此之外，還可以用于無線式通話裝置的具有電磁波屏蔽或感應(yīng)部的配線基板的磁性層等中。
通過使用本發(fā)明的感光性漿料，具有提高生產(chǎn)率、實現(xiàn)低成本化、或形成的軟磁性體層難以從基板剝離、提高可靠性等優(yōu)點。
權(quán)利要求
1.一種感光性漿料，所述感光性漿料由無機(jī)粉末及感光性有機(jī)成分組成，其中，無機(jī)粉末至少含有軟磁性體粉末(A)及玻璃粉末(B)，軟磁性體粉末(A)及玻璃粉末(B)的質(zhì)量比在20/80～70/30的范圍內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的感光性漿料，其中，軟磁性體粉末為鐵合金粉末或鐵氧體粉末。
3.如權(quán)利要求2所述的感光性漿料，其中，鐵氧體粉末由用通式MFe2dO4表示的鐵氧體組成，M為選自Mn-Zn、Ni-Zn、Cu-Zn、Mg-Zn及Ni-Cu-Zn中的2價金屬。
4.如權(quán)利要求1～3中的任一項所述的感光性漿料，其中，軟磁性體粉末的中心粒徑在0.1～5μm的范圍內(nèi)，且軟磁性體粉末的最大粒徑為10μm以下。
5.如權(quán)利要求1～4中的任一項所述的感光性漿料，其中，玻璃粉末為非結(jié)晶性玻璃。
6.如權(quán)利要求1～5中的任一項所述的感光性漿料，其中，玻璃粉末中含有的玻璃是含有選自氧化鉍、氧化鋅、氧化鉛及氧化磷中的至少1種的玻璃。
7.如權(quán)利要求1～6中的任一項所述的感光性漿料，其中，玻璃粉末的中心粒徑在0.1～5μm的范圍內(nèi)，且玻璃粉末的最大粒徑在10μm以下。
8.如權(quán)利要求1～7中的任一項所述的感光性漿料，其中，感光性有機(jī)成分含有在365nm的波長下分子吸光系數(shù)為1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引發(fā)劑及/或增感劑。
9.如權(quán)利要求8所述的感光性漿料，其中，感光性有機(jī)成分還含有在超過400nm的波長區(qū)域內(nèi)具有最大吸收的化合物。
10.如權(quán)利要求9所述的感光性漿料，其中，感光性有機(jī)成分含有在超過400nm的波長區(qū)域內(nèi)具有最大吸收的化合物與二(烷基氨基)二苯酮或噻噸酮衍生物。
11.如權(quán)利要求1～10中的任一項所述的感光性漿料，其中，所述感光性有機(jī)成分含有紫外線吸收劑。
12.如權(quán)利要求1～11中的任一項所述的感光性漿料，其中，所述感光性有機(jī)成分含有聚合禁止劑。
13.一種顯示器面板用部件的制造方法，其中，所述制造方法包括在基板上涂布權(quán)利要求1～12中任一項所述的感光性漿料并干燥的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種感光性漿料，所述感光性漿料含有軟磁性體粉末、玻璃粉末及感光性有機(jī)成分，軟磁性體粉末(A)及玻璃粉末(B)的質(zhì)量比在20/80～70/30的范圍內(nèi)，利用該感光性漿料，經(jīng)簡單的工序，可制造視覺辨認(rèn)度優(yōu)異的顯示器面板用部件。
文檔編號H05K9/00GK1989454SQ20058002413
公開日2007年6月27日 申請日期2005年7月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月22日
發(fā)明者草野一孝, 藤原裕子, 井口雄一朗 申請人:東麗株式會社