專利名稱：雙滑道單晶爐測徑儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種雙滑道單晶爐測徑儀。
背景技術(shù)：
單晶爐測徑儀用于在單晶硅生長過程中測試硅棒的直 徑，以保證單晶硅按照要求的尺寸生長。現(xiàn)有的單晶爐測徑 儀是由底座、設(shè)在底座上的支架，與支架連接的托板和墊塊， 安裝在兩個墊塊之間的帶有鏡頭的電子標(biāo)尺構(gòu)成。由于電子 標(biāo)尺中的數(shù)顯表只在標(biāo)尺上滑動，為單滑道形式，而支架又 較高，造成電子標(biāo)尺滑動過程中不穩(wěn)定，長時間使用后標(biāo)尺 變形，影響測量精度。 發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是要解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題， 提供一種可增強(qiáng)標(biāo)尺的穩(wěn)定性，防止標(biāo)尺變形，提高測量精
度，且操作方便的的雙滑道單晶爐測徑儀。
本實用新型是這樣實現(xiàn)的它有一個底座和帶有鏡頭的 電子標(biāo)尺，其特殊之處是在底座上設(shè)有滑道，在底座上位 于滑道兩側(cè)設(shè)有墊塊，所述的電子標(biāo)尺通過連接架安裝在墊 塊上，在電子標(biāo)尺下表面設(shè)有滑塊，所述的滑塊位于滑道上。
本實用新型的優(yōu)點是通過設(shè)在底座上的滑道和設(shè)在電 子標(biāo)尺下表面的滑塊配合，使電子標(biāo)尺由懸空狀態(tài)變?yōu)橹苯?坐在底座上并實現(xiàn)雙滑道滑動，既便于操作，又增強(qiáng)了電子 標(biāo)尺的穩(wěn)定性，防止標(biāo)尺變形，從而提高測量精度。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖2是圖1的俯視圖3是圖1的A-A剖視圖。
具體實施方式

如圖所示，本實用新型有一個底座1，在底座1中部設(shè) 有鏡片9，在底座1前面設(shè)有頂緊螺絲10，在底座l上通過 螺釘設(shè)有滑道8，在底座1上位于滑道8兩側(cè)通過螺釘安裝 有墊塊2，在墊塊2上通過連接架3和壓條4安裝有電子標(biāo) 尺5，在電子標(biāo)尺5下表面安裝有鏡頭支架11，在鏡頭支架 11上安裝有變焦鏡頭6，在鏡頭支架11底面通過螺釘安裝 有滑塊7，所述的滑塊7位于滑道8上，并可在滑道8上滑 動。
權(quán)利要求1、一種雙滑道單晶爐測徑儀，包括底座和帶有鏡頭的電子標(biāo)尺，其特征是在底座上設(shè)有滑道，在底座上位于滑道兩側(cè)設(shè)有墊塊，所述的電子標(biāo)尺通過連接架安裝在墊塊上，在電子標(biāo)尺下表面設(shè)有滑塊，所述的滑塊位于滑道上。
專利摘要一種雙滑道單晶爐測徑儀，解決了電子標(biāo)尺滑動過程中不穩(wěn)定，長時間使用后標(biāo)尺變形，影響測量精度的問題。它有一個底座和帶有鏡頭的電子標(biāo)尺，其特殊之處是在底座上設(shè)有滑道，在底座上位于滑道兩側(cè)設(shè)有墊塊，所述的電子標(biāo)尺通過連接架安裝在墊塊上，在電子標(biāo)尺下表面設(shè)有滑塊，所述的滑塊位于滑道上。通過設(shè)在底座上的滑道和設(shè)在電子標(biāo)尺下表面的滑塊配合，使電子標(biāo)尺由懸空狀態(tài)變?yōu)橹苯幼诘鬃喜崿F(xiàn)雙滑道滑動，既便于操作，又增強(qiáng)了電子標(biāo)尺的穩(wěn)定性，防止標(biāo)尺變形，從而提高測量精度。
文檔編號C30B15/20GK201241195SQ200820218590
公開日2009年5月20日 申請日期2008年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月20日
發(fā)明者陳立民 申請人:錦州陽光能源有限公司