專利名稱：用于壓片機(jī)的材料供給裝置、壓片機(jī)以及用于壓片機(jī)的清潔方法
用于壓片機(jī)的材料供給裝置、壓片機(jī)以及用于壓片機(jī)的清潔方法技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的主題是壓片機(jī)，該壓片機(jī)具有如權(quán)利要求1的前序部分所述的特征。 具體地說，本發(fā)明涉及壓片機(jī)，其中，轉(zhuǎn)子的基質(zhì)盤設(shè)置在封閉外殼中，此外，噴嘴裝 置也設(shè)置在封閉外殼中，為清潔目的由該噴射裝置可將諸如水之類的清潔流體噴射到封 閉外殼的內(nèi)側(cè)。本發(fā)明還涉及用于壓片機(jī)的材料供給裝置，提供該材料供給裝置以將待 壓片的材料供給至形成在壓片機(jī)的基質(zhì)盤中的基質(zhì)。最后，本發(fā)明涉及用于清潔壓片機(jī) 的封閉外殼的方法，壓片機(jī)的基質(zhì)盤設(shè)置在該封閉外殼中。
背景技術(shù)：
從現(xiàn)有技術(shù)中，已知各種型號的壓片機(jī)?；旧?，普通的壓片機(jī)具有轉(zhuǎn)子單 元，該轉(zhuǎn)子單元總是由驅(qū)動(dòng)心軸來承載，且與該心軸一起繞垂直對準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)軸線D旋 轉(zhuǎn)。此外，這樣的轉(zhuǎn)子單元包括基質(zhì)盤，多個(gè)基質(zhì)或基質(zhì)支座形成在該基質(zhì)盤中。設(shè)有 基質(zhì)支座，以將單獨(dú)構(gòu)造的基質(zhì)保持在其中。通常的上部模具支座以及下部模具支座設(shè) 置在基質(zhì)盤的上方和下方，多個(gè)上部模具和下部模具設(shè)置在這些模具支座中，這些模具 可沿旋轉(zhuǎn)軸線D的方向移位，且通過它們的端部配合在基質(zhì)盤的基質(zhì)中。上部和下部模 具由凸輪在轉(zhuǎn)子單元的旋轉(zhuǎn)上致動(dòng)，該凸輪例如可與壓片機(jī)的框架機(jī)械地固定連接。然 而，這些凸輪還可構(gòu)造成盤，這些盤可旋轉(zhuǎn)地安裝在壓片機(jī)的框架上。
為了生產(chǎn)料片，通過材料供給裝置將粉狀材料供給至形成在基質(zhì)盤中的基質(zhì)， 然后，該材料由配合在基質(zhì)中的上部和下部模塊壓實(shí)。通過充分壓實(shí)粉狀材料，獲得料 片，然后料片由上部或下部模具的相應(yīng)的脫出運(yùn)動(dòng)而從基質(zhì)中脫出，且由合適的機(jī)械裝 置從壓片機(jī)中導(dǎo)出。
由于待壓片的材料不會(huì)100%處理至料片，且此外該材料部分地包含高效的、范 圍高達(dá)對于壓片機(jī)的操作者有害的醫(yī)療成分，吸入這些醫(yī)療成分會(huì)成為問題，因而，當(dāng) 待壓片的材料改變時(shí)，即批量改變時(shí)，須對壓片機(jī)進(jìn)行仔細(xì)清潔。為此，具體地說，應(yīng) 將存在于空氣中的、存在于壓片機(jī)的轉(zhuǎn)子上的以及存在于壓片機(jī)的周圍的粉狀材料結(jié)合 起來，從而該粉狀材料不再會(huì)由操作者所吸入。為此，從現(xiàn)有技術(shù)中已知具有封閉外殼 區(qū)域的壓片機(jī)，至少轉(zhuǎn)子的基質(zhì)盤設(shè)置在該封閉外殼中，而通常此外，除了相關(guān)聯(lián)的模 具以及上部和下部模具的致動(dòng)凸輪以外，上部和下部模具支座也設(shè)置在該封閉外殼中。 為了將未加工成料片的粉狀材料結(jié)合起來，將用于諸如水之類的清潔流體的噴射裝置設(shè) 置在壓片機(jī)的封閉外殼中。在批量變換情形中，在打開封閉外殼之前，噴射清潔流體， 該清潔流體沖洗位于空氣中的懸浮顆粒，且此外盡可能遠(yuǎn)地沖濕設(shè)置在封閉外殼的區(qū)域 中的表面，以將位于其中的粉狀材料殘余物結(jié)合起來。然后，結(jié)合在清潔流體中的粉狀 材料殘余物可不再到達(dá)空氣，現(xiàn)在可打開封閉外殼，例如由操作者進(jìn)行人工清潔。
通常，此種清潔方法需要大范圍拆解壓片機(jī)，這部分地需要顯著的停工時(shí)間， 產(chǎn)生相關(guān)費(fèi)用。因此，例如通過簡化清潔方法而對于在批量變換過程中的停工時(shí)間的任4何減小，直接帶來經(jīng)濟(jì)效益。如上所述，在普通的壓片機(jī)中，待壓片的材料通過材料供給裝置引導(dǎo)至基質(zhì)盤 中的基質(zhì)。通常，這樣的材料供給裝置將在上側(cè)的粉狀材料引導(dǎo)至形成在基質(zhì)盤中的基 質(zhì)。為此，供給開口形成在材料供給裝置中，該供給開口頻繁交疊基質(zhì)盤中的、彼此前 后設(shè)置的若干基質(zhì)，且材料供給裝置通常由一般的環(huán)繞密封件所環(huán)繞。該密封件將供給 開口環(huán)繞的空間區(qū)域相對于周圍進(jìn)行密封。常常在基質(zhì)盤的上側(cè)上方最小距離處，對于 該密封件進(jìn)行導(dǎo)向?；蛘?，還可使用滑動(dòng)密封件。然而，在兩種類型的構(gòu)造中，使材料 供給裝置和其中包含的密封件相對于轉(zhuǎn)子單元進(jìn)行高精度調(diào)整是必不可少的，從而避免 在基質(zhì)盤本身上、在密封件上或在材料供給裝置上產(chǎn)生過度磨損。此外，當(dāng)將材料磨耗 帶進(jìn)在壓片機(jī)上生產(chǎn)的料片中時(shí)，由于磨損而不可避免的材料磨耗是一個(gè)問題。為此， 在例如由于清潔目的而已拆解壓片機(jī)之后，由現(xiàn)有技術(shù)已知構(gòu)造所構(gòu)造的材料供給裝置 必需重新精確地對準(zhǔn)。在此，此種調(diào)整過程非常繁復(fù)且耗時(shí)。然而，在現(xiàn)有技術(shù)已知的 普通的壓片機(jī)中，材料供給裝置的拆解通常是不可避免的，這是由于否則的話，在清潔 過程中無法檢測位于材料供給裝置的區(qū)域中的、尤其是在內(nèi)側(cè)的供給開口中的以及與基 質(zhì)盤接觸的接觸區(qū)域中的粉狀材料殘余物。

發(fā)明內(nèi)容
在此確定的是，本發(fā)明具有以下目標(biāo)提供一種用于壓片機(jī)的材料供給裝置， 該材料供給裝置簡化壓片機(jī)在批量變換的情形中的清潔。此外，指示這樣一種壓片機(jī) 與現(xiàn)有技術(shù)已知的壓片機(jī)相比，簡化壓片機(jī)的清潔。最后，指示一種方法，該方法允許 簡化普通壓片機(jī)的清潔。通過權(quán)利要求1的用于壓片機(jī)的材料供給裝置、權(quán)利要求2的壓片機(jī)以及權(quán)利要 求19的用于清潔壓片機(jī)的方法來解決該問題。根據(jù)本發(fā)明的材料供給裝置為具有轉(zhuǎn)子的壓片機(jī)來提供，轉(zhuǎn)子包括基質(zhì)盤。設(shè) 有材料供給裝置以將待壓片的材料供給至形成在基質(zhì)盤中的基質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明，材料供 給裝置包括裝載件和供給件，其中，裝載件相對于轉(zhuǎn)子的基質(zhì)盤的位置能進(jìn)行機(jī)械地固 定。此外，供給件借助至少一個(gè)可變安裝件安裝在裝載件上，可變安裝件設(shè)置成較佳 地沿垂直方向，設(shè)定供給件相對于轉(zhuǎn)子的基質(zhì)盤的可變距離。下文將結(jié)合從屬權(quán)利要求所述的壓片機(jī)來描述本發(fā)明的材料供給裝置的又一些 較佳研制方案。然而這又一些研制方案還局限于用于普通壓片機(jī)的材料供給裝置，即本 發(fā)明的主題不具有普通壓片機(jī)的特征。 本發(fā)明的壓片機(jī)具有包括基質(zhì)盤的轉(zhuǎn)子。多個(gè)基質(zhì)設(shè)置在該基質(zhì)盤中，這些基 質(zhì)直接形成在該基質(zhì)盤中或可構(gòu)造成單獨(dú)的插件。此外，壓片機(jī)包括材料供給裝置，提 供該材料供給裝置以將待壓片的材料供給至形成在基質(zhì)盤中的基質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明，該材 料供給裝置包括裝載件和供給件。在此，較佳地在已使裝載件相對于轉(zhuǎn)子進(jìn)行調(diào)整之 后，能對于裝載件相對于壓片機(jī)的轉(zhuǎn)子的位置進(jìn)行機(jī)械地固定。另一方面，材料供給裝 置的供給件借助至少一個(gè)可變安裝件安裝在裝載件上，可變安裝件設(shè)置成設(shè)定安裝件相 對于轉(zhuǎn)子的可變距離。在此須研制此種可調(diào)整性，從而具體地說，當(dāng)本發(fā)明的壓片機(jī)的 發(fā)明停止時(shí)，可較佳地由操作者通過遠(yuǎn)程控制、至少沿垂直方向改變供給件離轉(zhuǎn)子的距離。具體地說，可借助至少一個(gè)可變安裝件，由供給件自基質(zhì)盤上側(cè)升起來實(shí)現(xiàn)此種距 離改變。由此，供給件和轉(zhuǎn)子之間的接觸區(qū)域，在此尤其是與基質(zhì)盤的接觸區(qū)域變得可 進(jìn)入，以進(jìn)行清潔。通常，至少一個(gè)可變安裝件可遠(yuǎn)程控制供給件的、一毫米直至若干 毫米范圍中的垂直運(yùn)動(dòng)。當(dāng)垂直運(yùn)動(dòng)實(shí)際上達(dá)到若干毫米時(shí)，則可尤其簡易地執(zhí)行轉(zhuǎn)子 和供給件的清潔，這是由于在此情形中，可將諸如清潔用布之類的合適的清潔工具簡易 地弓I入供給件和基質(zhì)盤之間的中間空間中。顯然易于借助噴射裝置來弓I入清潔流體。
在本發(fā)明的尤其較佳研制方案中，設(shè)置可變安裝件，以使供給件相對于轉(zhuǎn)子以 所限定的方式傾斜，具體地說，使供給件基本在與基質(zhì)盤接觸的接觸區(qū)域中升起。
供給件借助兩個(gè)可變安裝件以及固定安裝件安裝在裝載件上提供特定優(yōu)點(diǎn)，兩 個(gè)可變安裝件和固定安裝件設(shè)置成生成一個(gè)平面。具體地說，安裝件可設(shè)在裝載件上。 然后，將供給件放置到三個(gè)接觸點(diǎn)上，這三個(gè)接觸點(diǎn)由設(shè)置在裝載件上的三個(gè)安裝件形 成。尤其較佳的是，在此，供給件可在各個(gè)單個(gè)安裝件上進(jìn)行傾斜運(yùn)動(dòng)，從而通過可變 安裝件沿垂直方向的不同偏移，一方面供給件可升起，另一方面供給件可傾斜。然而， 如果不提供供給件在安裝件上的角度靈活性，則能以簡易方式實(shí)現(xiàn)至少是供給件沿垂直 方向的運(yùn)動(dòng)。為此，然后設(shè)有可變安裝件，這些可變安裝件沿相同方向偏移。
已證明尤其有利的是，當(dāng)至少一個(gè)可變安裝件包括氣動(dòng)致動(dòng)的提升缸體時(shí)，通 過例如借助壓縮空氣的壓力施加，可執(zhí)行向上引導(dǎo)的提升運(yùn)動(dòng)。然而，此外，當(dāng)然還可 使用液壓或機(jī)電致動(dòng)器。
在尤其較佳研制方案中，除了氣動(dòng)致動(dòng)的提升缸體以外，可變安裝件包括壓 簧，該壓簧產(chǎn)生與提升缸體的氣動(dòng)致動(dòng)運(yùn)動(dòng)相反的力，該力作用在提升缸體上。在此， 壓簧較佳的是壓縮彈簧，該壓縮彈簧的回復(fù)力基本獨(dú)立于其在至少是整個(gè)特定偏移范圍 中的壓縮。此種壓簧的一種示例是多峰波紋盤。
在尤其較佳研制方案中，供給件借助至少一個(gè)可變安裝件安裝在材料供給裝置 的裝載件上，從而在基質(zhì)盤的上側(cè)上產(chǎn)生對于供給件的總是相同的承載力，而與可變安 裝件的實(shí)際偏移無關(guān)。在一替代研制方案中，材料供給裝置構(gòu)造成當(dāng)將供給件放置在 裝載件上時(shí)，將供給件相對于轉(zhuǎn)子的距離，尤其是相對于基質(zhì)盤的距離自動(dòng)地設(shè)定至預(yù) 設(shè)值。
就材料供給裝置的供給件具有以下密封件以及由此具有滑動(dòng)密封件來說，第一 所述研制方案是尤其有利的在壓片機(jī)的操作過程中，該密封件與基質(zhì)盤的上側(cè)機(jī)械接 觸。尤其當(dāng)須避免供給件、尤其是設(shè)在供給件上的密封件與轉(zhuǎn)子的基質(zhì)盤之間的機(jī)械接 觸時(shí)，第二所述研制方案具有優(yōu)勢。為此，在壓片機(jī)的所有操作情況下，可保持供給 件、尤其是設(shè)在供給件中的密封件與基質(zhì)盤之間的最小距離。
尤其是當(dāng)在供給件上設(shè)有以下滑動(dòng)密封件時(shí)，第一所述研制方案具有優(yōu)勢該 密封件例如借助適當(dāng)構(gòu)造的彈簧預(yù)受壓力，抵靠于基質(zhì)盤的表面。為此，該密封件可具 有諸如壓簧之類的單獨(dú)構(gòu)造的固有性能。然而，或者，可采用密封件所用材料的彈簧效 果。因此，例如，金屬滑動(dòng)密封件可具有合適的彈性變形。
在本發(fā)明的壓片機(jī)的又一較佳研制方案中，設(shè)有調(diào)整裝置，該調(diào)整裝置使裝載 件能至少沿垂直方向設(shè)定位置。這樣的調(diào)整裝置可以例如是微調(diào)螺旋。具體地說，在此 可設(shè)有兩級的微調(diào)螺旋，在第一級，允許在毫米范圍中粗略設(shè)定位置。然后，第二級允許在毫米的一部分范圍中、較佳地在微米范圍中精細(xì)調(diào)整位置。在本發(fā)明的壓片機(jī)的又一較佳研制方案中，設(shè)有固定單元，借助該固定單元， 可將供給件機(jī)械地固定在裝載件上。具體地說，這樣的固定單元可以是一個(gè)或多個(gè)可 人工操作的固定螺栓，這些固定螺栓利用它們的軸配合到可變安裝件的提升缸體中。或 者，固定單元還可構(gòu)造成須人工操作的插入式封蓋。提供一種用于清潔具有轉(zhuǎn)子的壓片機(jī)的根據(jù)本發(fā)明的方法，該轉(zhuǎn)子包括其中設(shè) 有多個(gè)基質(zhì)的基質(zhì)盤。此外，壓片機(jī)包括材料供給裝置，提供該材料供給裝置以將待壓 片的材料供給至形成在基質(zhì)盤中的基質(zhì)。該方法包括下列步驟1、提供材料供給裝置，該 材料供給裝置包括裝載件和供給件，其中a)能對于裝載件相對于轉(zhuǎn)子的基質(zhì)盤的位置進(jìn)行機(jī)械地固定，以及b)借助至少一個(gè)可變安裝件將供給件安裝到裝載件上，以及2、借助可變安裝件，較佳地沿垂直方向增大供給件相對于轉(zhuǎn)子的基質(zhì)盤的距 罔。在本發(fā)明的又一較佳研制方案中，至少轉(zhuǎn)子的基質(zhì)盤、材料供給裝置的供給件 以及用于清潔流體的噴射裝置設(shè)置在封閉外殼中。在又一方法步驟3中，當(dāng)供給件處于 清潔狀態(tài)時(shí)(升起/傾斜)，借助噴射裝置在封閉外殼中噴射清潔流體。因此，本發(fā)明的方法尤其適合于應(yīng)用在本發(fā)明的壓片機(jī)上，或者應(yīng)用在使用本 發(fā)明的材料供給裝置的普通的壓片機(jī)上。


本發(fā)明的又一些優(yōu)點(diǎn)和特征將從從屬權(quán)利要求以及示例研制方案中變得顯而易 見，在下文中，借助附圖進(jìn)一步詳細(xì)描述這些示例實(shí)施例，附圖中圖1示出從側(cè)剖視圖來看，本發(fā)明的壓片機(jī)的示意視圖，圖2示出本發(fā)明的材料供給裝置在基質(zhì)盤上適當(dāng)位置的俯視圖，圖3示出本發(fā)明的材料供給裝置的立體圖，圖4示出從上側(cè)來看、圖3的材料供給裝置的裝載件的立體圖，圖5示出從下側(cè)來看、圖3的材料供給裝置的供給件的立體圖，圖6示出圖3的材料供給裝置的剖視圖，圖7示出處于操作位置的材料供給裝置的、圖7的放大剖切視圖，以及圖8示出處于清潔位置的材料供給裝置的、圖8的剖切視圖。
具體實(shí)施例方式可參照圖1的簡化剖視圖說明本發(fā)明的壓片機(jī)1。壓片機(jī)1具有轉(zhuǎn)子10，該轉(zhuǎn) 子包括心軸16，該心軸可旋轉(zhuǎn)地安裝在壓片機(jī)1的框架64中的軸承18中?？蚣?4可包 括例如管狀框架，該管狀框架賦予壓片機(jī)1所需的機(jī)械穩(wěn)定性。此外，轉(zhuǎn)子10包括基質(zhì) 盤2，多個(gè)基質(zhì)14以等距隔開的方式設(shè)置在該基質(zhì)盤2中。在此，雖然這些基質(zhì)14可直 接形成為在基質(zhì)盤12中的凹槽，然而它們也可構(gòu)造成單獨(dú)部件，這些單獨(dú)部件插入基質(zhì) 盤12(如圖所示)中的、以互補(bǔ)方式構(gòu)造的凹槽中?；|(zhì)盤12較佳地以單件形成，但還 可易于使用以多件形成的基質(zhì)盤。轉(zhuǎn)子10的心軸16借助電動(dòng)機(jī)11來驅(qū)動(dòng)。除了相關(guān)聯(lián)的致動(dòng)凸輪以外，另外設(shè)置在普通的壓片機(jī)的轉(zhuǎn)子10上的部件，例如上下模具導(dǎo)向件 以及安裝在其中的上部模具和下部模具，由于這些部件對于理解本發(fā)明無關(guān)，因而為了 簡化起見，在圖1中并不示出這些部件。
此外，在圖1中示意地示出材料供給裝置20，借助該材料供給裝置20，將通常 是粉狀的材料供給至基質(zhì)14 (形成在基質(zhì)盤12中)以進(jìn)行壓片。材料供給裝置20在此 包括示例實(shí)施例中所示的裝載件30，該裝載件可借助圖1中未示出的調(diào)整裝置32、相對 于轉(zhuǎn)子12的基質(zhì)盤14調(diào)整高度。裝載件30在上側(cè)上裝載供給件40，用于粉狀材料的供 給開口 44形成在該供給件40中。
在所示的示例實(shí)施例中，轉(zhuǎn)子10的基質(zhì)盤12和材料供給裝置20設(shè)置在封閉外 殼60中，該封閉外殼60整合在本發(fā)明的壓片機(jī)1的框架64中。在此，可將封閉理解成 意味著外殼60通過諸如窗或門之類的合適的封閉裝置來進(jìn)行密封，防止準(zhǔn)備由本發(fā)明的 壓片機(jī)壓片的粉狀材料泄漏。藉此，排除由待壓片的材料對于本發(fā)明的壓片機(jī)1的周圍 環(huán)境造成污染的可能。通常，例如為了維護(hù)和清潔目的，通過門(未示出)可進(jìn)入封閉 外殼60的內(nèi)部。
設(shè)置在封閉外殼60內(nèi)側(cè)的噴射裝置62還用于清潔目的。噴射裝置62包括多個(gè) 噴嘴，這些噴嘴用于在封閉外殼60的內(nèi)部，噴射諸如水之類的清潔流體。在此，噴射裝 置62的清潔噴嘴設(shè)置在封閉外殼60的內(nèi)部，從而實(shí)際上，封閉外殼60的整個(gè)內(nèi)部由清 潔流體的噴霧所拾取。
現(xiàn)在圖2示意地示出本發(fā)明的壓片機(jī)1的轉(zhuǎn)子10的基質(zhì)盤12的俯視圖?？汕?楚地看到多個(gè)等距設(shè)置的基質(zhì)14，在本示例實(shí)施例中將這些基質(zhì)實(shí)施成單獨(dú)構(gòu)造的基質(zhì) 14。還可見的是，材料供給裝置20的裝載件30鄰近基質(zhì)盤12設(shè)置。供給件40安裝在 裝載件30上，且部分地交疊基質(zhì)盤12。還可見供給開口 44，該供給開口形成在供給件 40中且與基質(zhì)盤12中的多個(gè)基質(zhì)14交疊。
圖3現(xiàn)在示出本發(fā)明的材料供給裝置20的立體圖，該供給裝置20包括裝載件30 以及支承件40，該裝載件30可垂直調(diào)整，而支承件40安裝在裝載件30的上側(cè)上。裝載 件30借助柱狀元件機(jī)械地連接于壓片機(jī)1的框架64，該柱狀元件具有與該柱狀元件成一 體的調(diào)整裝置32，所述調(diào)整裝置32使裝載件32能以微調(diào)螺旋的方式進(jìn)行垂直調(diào)整。具 體地說，裝載件30的相對于基質(zhì)盤12上側(cè)的垂直位置能借助調(diào)整裝置32調(diào)整。
材料供給裝置20的供給件40設(shè)置在裝載件30的上側(cè)上，供給件40借助呈絞盤 頭部螺栓形式的可人工操作的固定單元進(jìn)行固定。
待壓片的粉狀材料借助分份裝置70供給至供給開口 44，該供給開口形成在供給 件40中且在圖3中不可見，分份裝置70也設(shè)置在供給件40的上側(cè)上且由電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)。 分份裝置70則包括設(shè)置在上側(cè)上的供給饋送管72，來自上方的粉狀材料供給至該供給饋 送管72。此外，電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)的傳輸盤74在分份裝置70的內(nèi)側(cè)旋轉(zhuǎn)，該傳輸盤將來自供 給饋送管72的粉狀材料傳送至供給件40的供給開口 44。
圖4現(xiàn)在示出從上側(cè)來看、圖3的材料供給裝置20的裝載件30的立體圖。可 清楚看見用于設(shè)定垂直位置的、設(shè)置在下側(cè)的調(diào)整裝置32。此外還可見兩個(gè)安裝件50， 這兩個(gè)安裝件設(shè)置成與在裝載件30的上側(cè)中的、同基質(zhì)盤12接觸的接觸區(qū)域鄰接。安 裝件50構(gòu)造成提升缸體52，該提升缸體由壓縮空氣所致動(dòng)，且通過壓縮空氣供源58為該提升缸體供給壓縮空氣。此外，用于銷48的安裝點(diǎn)34設(shè)置在裝載件20的上側(cè)上，該銷 以互補(bǔ)的方式構(gòu)造在供給件40上。
圖5示出從下方來看、圖3的材料供給裝置20的供給件40的立體圖。可清楚 的看到供給開口 44，在上側(cè)，待壓片的粉狀材料由圖5中未示出的定位裝置70供給至該 供給開口 44。供給開口 44由環(huán)形密封件46所包圍，該環(huán)形密封件例如能對聚合材料進(jìn) 行密封。此外，供給件40具有設(shè)置在下側(cè)的三個(gè)銷48、49。在此，兩個(gè)第一銷48以與 凹槽53互補(bǔ)的方式來構(gòu)造，凹槽53在位于可變安裝件50的提升缸體52的頂部處的端部 中延伸。附加所設(shè)的第二銷49以與安裝點(diǎn)34互補(bǔ)的方式來構(gòu)造，該安裝點(diǎn)34構(gòu)造在裝 載件30中。當(dāng)將具有銷48、49的供給件40放置在安裝件50 (形成在裝載件30中)上 以及安裝點(diǎn)34上時(shí)，然后則形成本發(fā)明的材料供給裝置20。安裝點(diǎn)34相對于其三維位 置固定；另一方面，提升缸體52可執(zhí)行沿垂直方向的提升運(yùn)動(dòng)。第一銷48以及提升缸 體52中的互補(bǔ)凹槽53構(gòu)造成供給件40可在提升缸體52上進(jìn)行傾斜運(yùn)動(dòng)?；蛘撸€ 將第二銷49以及安裝點(diǎn)34的組合研制成供給件40可在裝載件30上進(jìn)行傾斜運(yùn)動(dòng)。 最后，此外，呈絞盤頭部螺栓的形式的固定單元42構(gòu)造在其中一個(gè)銷48上。對于絞盤 頭部螺栓進(jìn)行致動(dòng)，使銷48固定在提升缸體52中的互補(bǔ)凹槽53中，將該機(jī)械連接開發(fā) 成此外，供給件40仍可在裝載件30上進(jìn)行傾斜運(yùn)動(dòng)。然而，通過致動(dòng)絞盤頭部螺栓 42，供給件40機(jī)械地固定在裝載件30上。在無法從圖中示出的替代研制方案中，除了用于第二銷49的固定安裝點(diǎn)34以 夕卜，類似地在裝載件30上設(shè)有可變安裝件50。因此，三個(gè)安裝件50作為整體設(shè)在裝載 件30上。通過同時(shí)致動(dòng)所有的三個(gè)可變安裝件50，可使供給件40執(zhí)行純粹的垂直運(yùn)動(dòng)。 當(dāng)相應(yīng)地將安裝件50開發(fā)成，銷48、49可在提升缸體52的相關(guān)聯(lián)的凹槽53中進(jìn)行傾斜 運(yùn)動(dòng)時(shí)，則通過不同地致動(dòng)提升缸體52，類似地可使供給件40實(shí)現(xiàn)在裝載件30上的傾斜 運(yùn)動(dòng)。在此，較佳的是，供給件40實(shí)現(xiàn)在與基質(zhì)盤12鄰接的區(qū)域中進(jìn)行更加顯著的垂 直運(yùn)動(dòng)，從而供給件40在此自基質(zhì)盤12尤其顯著地升起。圖6示出圖3的材料供給裝置20的局部剖視圖，其中，裝載件30和供給件40 連結(jié)在一起，以形成為使用作準(zhǔn)備的功能單元?？汕宄厥境鼋g盤頭部螺栓42，該絞盤 頭部螺栓的端部構(gòu)造成銷48，該銷48配合到裝載件30的提升缸體52中的凹槽53中。 由A-A標(biāo)記的虛線標(biāo)示材料供給裝置20的供給件40和裝載件30之間的分割線。裝載 件30和供給件40能沿該線彼此分離。圖7示出圖6的剖切部分的放大視圖，從該視圖中可詳細(xì)示出安裝件50 (示出剖 面)的結(jié)構(gòu)。安裝件50包括提升缸體52，該提升缸體可沿垂直方向運(yùn)動(dòng)。壓簧54的預(yù) 應(yīng)力沿與其垂直運(yùn)動(dòng)方向相反的方向定向。在此，壓簧54構(gòu)造成多峰波紋盤，即呈波紋 形狀的波紋盤，在該多峰波紋盤中實(shí)現(xiàn)不同的波動(dòng)長度。這樣的多峰波紋盤具有以下優(yōu) 點(diǎn)通過作為壓簧來使用，該多峰波紋盤在整個(gè)一定的壓縮區(qū)域，產(chǎn)生基本恒定的回復(fù) 力。提升缸體52通過環(huán)形密封件55密封抵靠于位于下方的壓縮空氣管道56。如果 提升缸體由壓縮空氣作用，則提升缸體52抵抗壓簧54的回復(fù)力進(jìn)行垂直運(yùn)動(dòng)。所示安裝 件50的壓縮空氣管道56由通過壓縮空氣供源58的壓縮空氣作用，該壓縮空氣供源58未在圖7中示出，但可參見圖4:在裝載件30的上側(cè)，提升缸體由又一密封件57來密封， 以防止例如粉狀材料殘余物的滲入。
在上側(cè)上，提升缸體52形成凹槽53，絞盤頭部螺栓42的位于底部且構(gòu)造成銷 48的端部配合在該凹槽中，從而用作固定單元。供給件42借助該絞盤頭部螺栓42機(jī)械 地固定在裝載件30上。圖7示出在本發(fā)明的壓片機(jī)處于準(zhǔn)備好操作的狀態(tài)中時(shí)，圖3的 材料供給裝置20。在該狀態(tài)中，構(gòu)造成滑動(dòng)密封、且包圍供給件40中的供給開口 44的 密封件46位于基質(zhì)盤12(圖7中未示出)上，因此使供給開口 44相對于位于外部的區(qū)域 密封起來。
圖8 —方面示出處于清潔位置的、圖3的材料供給裝置，其中，兩個(gè)可變安裝件 50的壓縮空氣管道56利用壓縮空氣作用。因此，提升缸體52沿垂直方向偏移。因此， 供給件40與裝載件30發(fā)生分離，這通過圖8的虛線來指示且通過“d”來進(jìn)行標(biāo)記。
最后，應(yīng)該指出，此外當(dāng)本發(fā)明的壓片機(jī)處于準(zhǔn)備好操作的狀態(tài)時(shí)，壓縮空氣 在兩個(gè)安裝件50的提升缸體52上的作用可在技術(shù)上有意義，從而產(chǎn)生裝載件30和供給 件40之間的一定間隔dl。通過適當(dāng)選擇作用在提升缸體52上的所供給的壓縮空氣的壓 力，以及通過適當(dāng)選擇壓簧M的彈性常數(shù)，在此可預(yù)設(shè)該間隔dl。在此，較佳地選擇間 隔dl，從而滑動(dòng)密封件46對于基質(zhì)盤12的表面提供充足的密封，而不會(huì)使滑動(dòng)密封件 46發(fā)生過度的材料磨耗。
為了將材料供給裝置20的、在此特定研制方案中的供給件40變換至清潔狀態(tài)， 則將作用在安裝件50的提升缸體52上的壓力提高至這樣的程度提升缸體52克服壓簧 M的反作用力，且經(jīng)受它們的最大垂直偏移。在該狀態(tài)中，裝載件30和供給件40發(fā)生 最大間隔d2，如上文所述，該間隔d2可采取通常是0.5mm和5mm之間的值。
最后，應(yīng)指出如上文所述，密封件46可以是聚合物密封件。具體地說，通 過作為滑動(dòng)密封件來使用，該密封件可借助單獨(dú)構(gòu)造的壓簧(圖7和8中未示出)預(yù)受應(yīng) 力，抵靠基質(zhì)盤12的表面。
或者，滑動(dòng)密封件46還可構(gòu)造成金屬密封件，該金屬密封件可類似地借助單獨(dú) 構(gòu)造的壓簧、較佳地預(yù)受應(yīng)力，抵靠基質(zhì)盤12的表面?；蛘?，還可選擇金屬密封件46 的形狀，從而產(chǎn)生密封件46的固有彈性常數(shù)，從而可省去用于使密封件46預(yù)壓縮、以抵 靠基質(zhì)盤12的表面的單獨(dú)壓簧。另一方面，如果密封件46并不構(gòu)造成滑動(dòng)密封件，則 可完全省去諸如單獨(dú)構(gòu)造的壓簧之類的機(jī)械預(yù)加壓裝置。10
權(quán)利要求
1.一種用于具有轉(zhuǎn)子(10)的壓片機(jī)(1)的材料供給裝置(20)，所述轉(zhuǎn)子包括基質(zhì)盤 (12)，多個(gè)基質(zhì)(14)設(shè)在所述基質(zhì)盤(12)中，其中，設(shè)置所述材料供給裝置(20)以將 待壓片的材料供給至形成在所述基質(zhì)盤(12)中的所述基質(zhì)(14)，其特征在于，所述材料供給裝置(20)包括裝載件(30)和供給件(40)，其中，a.所述裝載件(30)相對于所述轉(zhuǎn)子(10)的所述基質(zhì)盤(12)的位置能機(jī)械地固定， 以及b.所述供給件(40)借助至少一個(gè)可變安裝件(50)安裝在所述裝載件(30)上，其中， 將所述可變安裝件(50)設(shè)置成設(shè)定所述供給件(40)相對于所述轉(zhuǎn)子(10)的所述基質(zhì)盤 (12)的可變距離。
2.—種壓片機(jī)(1)，所述壓片機(jī)具有轉(zhuǎn)子(10)和如權(quán)利要求1所述的材料供給裝置 (20)，所述轉(zhuǎn)子包括基質(zhì)盤(12)，多個(gè)基質(zhì)(14)設(shè)在所述基質(zhì)盤(12)中。
3.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，將所述可變安裝件(50)設(shè)置成使所 述供給件(40)相對于所述裝載件(10)傾斜。
4.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，將所述可變安裝件(50)設(shè)置成使所 述供給件(40)相對于所述轉(zhuǎn)子(10)的距離自動(dòng)地設(shè)定至預(yù)設(shè)值。
5.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)，其特征在于，設(shè)有密封外殼(60)，至少所述基質(zhì)盤 (12)、所述材料供給裝置(20)的所述供給件(40)以及清潔流體的噴射裝置設(shè)置在所述密 封外殼(60)中。
6.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，設(shè)有至少三個(gè)可變安裝件(50)，所 述至少三個(gè)可變安裝件生成一個(gè)平面。
7.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述可變安裝件(50)包括氣動(dòng)致動(dòng) 的提升缸體(52)。
8.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(20)，其特征在于，所述可變安裝件(50)包括壓簧 (54)。
9.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述壓簧(54)是波紋盤。
10.如權(quán)利要求7和8所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述壓簧(54)抵消所述提升 缸體(52)的氣動(dòng)致動(dòng)的運(yùn)動(dòng)。
11.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，設(shè)有調(diào)整裝置(32)，所述調(diào)整裝 置使所述裝載件(30)的位置能至少沿垂直方向設(shè)定。
12.如權(quán)利要求10所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述調(diào)整裝置(32)構(gòu)造成微調(diào)螺旋。
13.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，設(shè)有固定單元(42)，所述供給件 (40)可借助所述固定單元機(jī)械地固定在所述裝載件(30)上。
14.如權(quán)利要求2所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述供給件(40)具有用于所述待 壓片的材料的供給開口(44)，且至少部分地包圍所述供給開口(44)的密封件(46)設(shè)置在 所述供給件(40)和所述基質(zhì)盤(12)之間。
15.如權(quán)利要求13所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述密封件(46)構(gòu)造成所述 密封件(46)能利用所限定的預(yù)加壓力進(jìn)行作用，抵靠于所述基質(zhì)盤(12)的表面。
16.如權(quán)利要求14所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述密封件(46)由金屬材料或聚合物材料構(gòu)成。
17.如權(quán)利要求15所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述預(yù)加壓力借助所述密封件 (46)的彈性變形來產(chǎn)生。
18.如權(quán)利要求15所述的壓片機(jī)(1)，其特征在于，所述預(yù)加壓力借助單獨(dú)構(gòu)造的彈簧元件來產(chǎn)生。
19.一種用于清潔具有轉(zhuǎn)子(10)以及材料供給裝置(20)的壓片機(jī)(1)的方法，所 述轉(zhuǎn)子(10)包括其中設(shè)有多個(gè)基質(zhì)(14)的基質(zhì)盤(12)，其中，設(shè)置所述材料供給裝置 (20)，以將待壓片的材料供給至形成在所述基質(zhì)盤(12)中的基質(zhì)(14)，其中，至少所述 轉(zhuǎn)子(19)的所述基質(zhì)盤(12)、所述材料供給裝置(20)的所述供給件(40)以及用于清潔 流體的噴射裝置(62)設(shè)置在封閉外殼(60)中，其特征在于，所述方法包括以下步驟a.提供材料供給裝置(20)，所述材料供給裝置包括裝載件(30)和供給件(40)，其中i.所述裝載件(30)相對于所述轉(zhuǎn)子(10)的所述基質(zhì)盤(12)的位置能機(jī)械地固定，以及ii.借助至少一個(gè)可變安裝件(50)將所述供給件(40)安裝到所述裝載件(30)上，b.借助所述可變安裝件(50)，增大所述供給件(40)相對于所述轉(zhuǎn)子(10)的所述基質(zhì) 盤(12)的距離，以及C.借助所述噴射裝置(62)在所述封閉外殼(60)中噴射清潔流體。
全文摘要
本發(fā)明的主題是用于具有轉(zhuǎn)子(10)的壓片機(jī)(1)的材料供給裝置(20)，轉(zhuǎn)子包括基質(zhì)盤(12)，多個(gè)基質(zhì)(14)設(shè)在該基質(zhì)盤中。設(shè)有材料供給裝置(20)以將待壓片的材料供給至形成在基質(zhì)盤(12)中的基質(zhì)(14)。本發(fā)明的又一主題是包括根據(jù)本發(fā)明的材料供給裝置(20)的壓片機(jī)，以及用于清潔該壓片機(jī)的方法。
文檔編號B30B11/08GK102026800SQ200980114847
公開日2011年4月20日 申請日期2009年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月23日
發(fā)明者S·J·波拉德 申請人:歐伊斯塔曼內(nèi)斯蒂公司