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      全程等威力激光眩暈矩陣技術的制作方法

      文檔序號:68290閱讀:298來源:國知局
      專利名稱:全程等威力激光眩暈矩陣技術的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明涉及微機電、傳感器、自動控制、生物效能和光電控制等技術領域
      ,尤其涉及到一種全程等威力激光眩暈矩陣技術。
      背景技術
      目前,我國社會經(jīng)濟快速發(fā)展,社會治安情況總體較好,但個別地區(qū)治安任務仍然很艱巨。如新疆、西藏地區(qū)分裂分子組織的騷動、暴亂、游行、抗議、集會,帶黑社會性質(zhì)的破壞活動等。公安執(zhí)法部門擔負著維護社會穩(wěn)定,值勤、巡邏以及處理大規(guī)模騷亂和群體性事件的重要使命,為了滿足執(zhí)行此類任務的需要,目前部隊急需一種高效能、遠距離、大范圍的非致命拒止、抓捕和驅(qū)散技術。而目前使用的激光炫目技術,由于其自身條件技術的制約,已不能滿足大規(guī)模群體事件有效抓捕和驅(qū)散要求。因此結合以上情況,在新的社會需要下,發(fā)明一種將定向性好、光強高的不同頻率、光譜的多個激光個體的有序排列,組合成密集的矩陣布局全程等威力激光眩暈矩陣技術顯得尤為必要!

      發(fā)明內(nèi)容
      以及技術方案
      本發(fā)明在原理上突破了傳統(tǒng)意義上的激光炫目技術,把微機電、傳感器、自動控制、生物效能和光電控制等技術有效結合在一起。利用激光定向性好、光強高的特點,通過將不同頻率、光譜的一定數(shù)量的紅綠兩種激光個體的光斑大小調(diào)節(jié)至對人體無永久損害的安全范圍后,在一個平面上進行有序排列,組合成密集的矩陣布局,極大的提高了照射功率,從而提高照射強度和范圍。有效的提高了打擊效果。激光頻率和光譜的高速變換,強烈刺激被照射人員的視覺和前庭神經(jīng)系統(tǒng),導致其眩目的同時嚴重腦暈以致惡心嘔吐,該技術的運用可全面滿足公安執(zhí)法部門在值勤站崗中有效拒止、驅(qū)散大規(guī)模群體事件的需求。
      本發(fā)明的有益效果
      全程等威力激光眩暈矩陣技術在原理上不同于傳統(tǒng)意義上的激光炫目技術,它涵蓋了微機電、傳感器、自動控制、生物效能和光電控制等技術領域
      。該技術的運用極大的提高了激光照射功率,從而提高照射強度和范圍。不同頻率、光譜的紅綠兩種激光的有序混合排列組成的矩陣布局,有效的提高了眩暈效果。同時本著以人為本的思想理念,調(diào)節(jié)至安全大小范圍的激光光斑,避免了對人體的永久損傷。該技術的運用可全面滿足公安執(zhí)法部門在值勤站崗中有效拒止、驅(qū)散大規(guī)模群體事件的需求。


      本發(fā)明有I幅附圖。
      圖1全程等威力激光眩暈矩陣技術示意圖
      I紅色激光光源2綠色激光光源3激光連接板4矩陣殼體。
      權利要求
      1.一種全程等威力激光眩暈矩陣技術,其特征在于通過將不同頻率、光譜的一定數(shù)量的紅綠兩種激光個體的的光斑大小調(diào)節(jié)至對人體無永久損害的安全范圍后,在一個平面上進行有序排列,組合成密集的矩陣布局,極大的提高了照射功率,從而提高照射強度和范圍。有效的提聞了打擊效果。
      2.根據(jù)權利要求
      1所述的一種全程等威力激光眩暈矩陣技術,其特征在于利用激光定向性好、光強高的特點,將不同頻率、光譜的多個激光個體的的光斑大小調(diào)節(jié)至對人體無永久損害的安全范圍后進行有序排列,組合成密集的矩陣布局,通過光的顏色和頻率的變化達到眩目的的同時,使被照射人員嚴重腦暈、惡心以致嘔吐。極大提高了打擊范圍和效果,該技術的運用可全面滿足公安執(zhí)法部門在值勤站崗中有效拒止、驅(qū)散大規(guī)模群體事件的需求。
      專利摘要
      本發(fā)明涉及到微機電、傳感器、自動控制、生物效能和光電控制等技術領域
      ,為一種全程等威力激光眩暈矩陣技術。全程等威力激光眩暈矩陣技術通過將不同頻率、光譜的一定數(shù)量的紅綠兩種激光個體的光斑大小調(diào)節(jié)至對人體無永久損害的安全范圍后,在一個平面上進行有序排列,組合成密集的矩陣布局,極大的提高了照射功率,從而提高照射強度和范圍。有效的提高了打擊效果。激光頻率和光譜的高速變換,強烈刺激被照射人員的視覺和前庭神經(jīng)系統(tǒng),導致其眩目的同時嚴重腦暈以致惡心嘔吐,該技術的運用可全面滿足公安執(zhí)法部門在值勤站崗中有效拒止、處置大規(guī)模群體事件驅(qū)散的需求。
      文檔編號F41B15/00GKCN103047904SQ201110310503
      公開日2013年4月17日 申請日期2011年10月14日
      發(fā)明者王小兵 申請人:北京晶品特裝科技有限責任公司導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan
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