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      一種遮光仿麻高密布的制作方法

      文檔序號:8857383閱讀:210來源:國知局
      一種遮光仿麻高密布的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及窗簾面料,尤其是指一種遮光仿麻高密布。
      【背景技術(shù)】
      [0002]窗簾是人們生活中的必備品,它不但有遮蔽作用保護(hù)人們的隱私,還可以遮陽、遮光、遮熱。現(xiàn)今除了遮光的效果外也越來越多的兼具其他作用,比如美化、保溫的作用。隨著人民生活水平的提高,人們對窗簾的美觀性和功能性的要求越來越高,現(xiàn)有的窗簾功能大多單一。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種遮光性好、色彩鮮明的遮光仿麻高密布。
      [0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型所提供的技術(shù)方案為:一種遮光仿麻高密布,它包括有基布,基布采用經(jīng)密108根/cm、瑋密48根/cm平織成型,基布表面設(shè)有縱橫交叉編織的絨層,絨層由黑絨線和白絨線交錯形成;編織后的絨層表面形成方塊狀,基布背面設(shè)有圖案層,絨層表面設(shè)有珠光粉層。
      [0005]所述的絨層由25~30條黑絨線和28~35條白絨線交錯形成。
      [0006]本實(shí)用新型主要的特點(diǎn)是采用仿麻的方式編制,并且編制的密度高,使其有麻的手感,達(dá)到垂順的效果,并有效遮擋陽光,并且在紡織中加入了黑線進(jìn)行紡織,紡織出的面料有很好的遮光效果,且色彩鮮艷、立體感強(qiáng)。
      【附圖說明】
      [0007]圖1為本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0008]圖2為本實(shí)用新型的表面示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0009]下面結(jié)合所有附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明,本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例為:參見附圖1和附圖2,本實(shí)施例所述的遮光仿麻高密布包括有基布1,基布I采用經(jīng)密108根/cm、瑋密48根/cm平織成型,基布I表面設(shè)有縱橫交叉編織的絨層2,絨層2由黑絨線和白絨線交錯形成,編織后的絨層2表面形成方塊狀,基布I背面設(shè)有圖案層3,絨層2表面設(shè)有珠光粉層。本方案采用仿麻的方式編制,并且編制的密度高,使其有麻的手感,達(dá)到垂順的效果,并有效遮擋陽光,并且在紡織中加入了黑線進(jìn)行紡織,紡織出的面料有很好的遮光效果,且色彩鮮艷、立體感強(qiáng)。
      [0010]以上所述之實(shí)施例只為本實(shí)用新型之較佳實(shí)施例,并非以此限制本實(shí)用新型的實(shí)施范圍,故凡依本實(shí)用新型之形狀、原理所作的變化,均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種遮光仿麻高密布,其特征在于:它包括有基布(I ),基布(I)采用經(jīng)密108根/cm、瑋密48根/cm平織成型,基布(I)表面設(shè)有縱橫交叉編織的絨層(2),絨層(2)由黑絨線和白絨線交錯形成;編織后的絨層(2)表面形成方塊狀,基布(I)背面設(shè)有圖案層(3),絨層(2)表面設(shè)有珠光粉層。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種遮光仿麻高密布,其特征在于:絨層(2)由25~30條黑絨線和28~35條白絨線交錯形成。
      【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種遮光仿麻高密布,它包括有基布,基布采用經(jīng)密108根/cm、緯密48根/cm平織成型,基布表面設(shè)有縱橫交叉編織的絨層,絨層由黑絨線和白絨線交錯形成;編織后的絨層表面形成方塊狀,基布背面設(shè)有圖案層,絨層表面設(shè)有珠光粉層。本實(shí)用新型主要的特點(diǎn)是采用仿麻的方式編制,并且編制的密度高,使其有麻的手感,達(dá)到垂順的效果,并有效遮擋陽光,并且在紡織中加入了黑線進(jìn)行紡織,紡織出的面料有很好的遮光效果,且色彩鮮艷、立體感強(qiáng)。
      【IPC分類】B32B33-00, B32B5-24
      【公開號】CN204566815
      【申請?zhí)枴緾N201520063130
      【發(fā)明人】何國鑫
      【申請人】浙江搏贏紡織有限公司
      【公開日】2015年8月19日
      【申請日】2015年1月29日
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