国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      碲鎘汞材料的表面清洗方法

      文檔序號(hào):9889809閱讀:523來源:國知局
      碲鎘汞材料的表面清洗方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及紅外碲鎘汞器件制造技術(shù),具體指碲鎘汞材料的表面清洗方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]半導(dǎo)體清洗技術(shù)的主要目的是:在對(duì)襯底不產(chǎn)生損傷或退化性改變的條件下,從半導(dǎo)體表面去除微粒或化學(xué)沾污。半導(dǎo)體材料表面的微?;蚧瘜W(xué)沾污會(huì)對(duì)半導(dǎo)體器件的性能造成不利影響,包括降低少數(shù)載流子壽命,形成缺陷,增加表面漏電流,降低薄膜附著力等等。常規(guī)碲鎘汞清洗技術(shù)是將碲鎘汞材料依次在MOS級(jí)三氯甲烷、MOS級(jí)乙醚、MOS級(jí)丙酮、MOS級(jí)乙醇和溴-甲醇溶液中處理,該技術(shù)存在三個(gè)主要問題:一、對(duì)離子沾污清洗效果一般。常規(guī)清洗技術(shù)處理的碲鎘汞表面平帶電壓大致在-9V左右,表面固定電荷密度為112Cm一2量級(jí),由此導(dǎo)致器件性能降低。二、易引入新污染。新污染主要來自于金屬鑷子和容器。三、工藝效果不穩(wěn)定。工藝效果的不穩(wěn)定主要是因?yàn)槌R?guī)清洗技術(shù)采用人工操作。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]為了解決常規(guī)碲鎘汞清洗技術(shù)存在的問題,本發(fā)明提供了一種新的碲鎘汞表面清洗方法。
      [0004]本發(fā)明采用了如下方所述的清洗步驟:
      [0005]I)在室溫條件下,將碲鎘汞材料浸入MOS級(jí)三氯乙烯溶液,進(jìn)行功率40?100W、頻率750?950KHz的兆聲清洗,清洗時(shí)間為3?lOmin。
      [0006]2)將碲鎘汞材料浸入冰點(diǎn)的溴和乙醇混合液中,溴與乙醇體積比為1: (5?20),腐蝕時(shí)間為60?120s。
      [0007]3)在室溫條件下,將碲鎘汞材料浸入清洗液a進(jìn)行兆聲清洗,清洗液a是氫氧化銨和雙氧水的混合液,其體積比為:NH4OH: H2O2: H2O = (I?1): 1: 120,兆聲功率為40?10W,兆聲頻率為750?950KHz,清洗時(shí)間為3?15min。
      [0008]4)在室溫條件下,將碲鎘汞材料浸入清洗液b進(jìn)行兆聲清洗,清洗液b是鹽酸和雙氧水的混合液,其體積比為:HCl: H2O2: H2O = 1:1: (5?15),兆聲功率為40?10W,兆聲頻率為750?950KHz,清洗時(shí)間為10?20min。
      [0009]5)對(duì)碲鎘汞材料進(jìn)行氮?dú)飧稍铩?br>[0010]本發(fā)明具有以下的優(yōu)點(diǎn):
      [0011]1.清洗效果穩(wěn)定。
      [0012]2.新污染引入少。
      [0013]3.對(duì)各種碲鎘汞表面沾污能有效去除,特別是離子沾污。
      【附圖說明】
      [0014]圖1為碲鎘汞表面清洗技術(shù)的流程圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0015]下面將結(jié)合附圖1對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步說明:
      [0016]實(shí)施例1:
      [0017]首先,第一步處理是在室溫條件下將碲鎘汞浸入MOS級(jí)三氯乙烯中兆聲清洗。兆聲功率為40W,兆聲頻率為750KHz,清洗時(shí)間為3min。在第一步完成后,需要迅速進(jìn)行第二步處理,即溴-乙醇溶液腐蝕。將碲鎘汞浸入冰點(diǎn)的溴和乙醇混合液中,溴和乙醇體積比為1: 5,腐蝕時(shí)間為60s。然后,需要進(jìn)行第三步處理,即清洗液a的兆聲清洗。在室溫條件下,把碲鎘汞浸入清洗液a中進(jìn)行兆聲清洗,清洗液a是氫氧化銨和雙氧水的混合液,其體積比為:冊40!1:!1202:1120=1:1:120,兆聲功率為40¥,兆聲頻率為75010^,清洗時(shí)間為3111丨11。最后,在室溫條件下,將碲鎘汞浸入清洗液b中進(jìn)行兆聲清洗,清洗液b是鹽酸和雙氧水的混合液,其體積比為:此1:!1202:!120 = 1:1:5,兆聲功率為401,兆聲頻率為7501(取,清洗時(shí)間為101^11。
      [0018]實(shí)施例2:
      [0019]首先,第一步處理是在室溫條件下將碲鎘汞浸入MOS級(jí)三氯乙烯中兆聲清洗。兆聲功率為100W,兆聲頻率為950KHZ,清洗時(shí)間為lOmin。在第一步完成后,需要迅速進(jìn)行第二步處理,即溴-乙醇溶液腐蝕。將碲鎘汞浸入冰點(diǎn)的溴和乙醇混合液中,溴和乙醇體積比為1:20,腐蝕時(shí)間為120s。然后,需要進(jìn)行第三步處理,即清洗液a的兆聲清洗。在室溫條件下,把碲鎘汞浸入清洗液a中進(jìn)行兆聲清洗,清洗液a是氫氧化銨和雙氧水的混合液,其體積比為:MMH = H2O2:H20= 10:1:120,兆聲功率為100W,兆聲頻率為950KHz,清洗時(shí)間為15min。最后,在室溫條件下,將碲鎘汞浸入清洗液b中進(jìn)行兆聲清洗,清洗液b是鹽酸和雙氧水的混合液,其體積比為:HC1: H2O2: H2O = 1: 1: 15,兆聲功率為10W,兆聲頻率為9 5OKHz,清洗時(shí)間為20mino
      [0020]實(shí)施例3:
      [0021]首先,第一步處理是在室溫條件下將碲鎘汞浸入MOS級(jí)三氯乙烯中兆聲清洗。兆聲功率為60W,兆聲頻率為850KHz,清洗時(shí)間為6min。在第一步完成后,需要迅速進(jìn)行第二步處理,即溴-乙醇溶液腐蝕。將碲鎘汞浸入冰點(diǎn)的溴和乙醇混合液中,溴和乙醇體積比為1:10,腐蝕時(shí)間為80s。然后,需要進(jìn)行第三步處理,即清洗液a的兆聲清洗。在室溫條件下,把碲鎘汞浸入清洗液a中進(jìn)行兆聲清洗,清洗液a是氫氧化銨和雙氧水的混合液,其體積比為:順40!1:!1202:1120 = 5:1:120,兆聲功率為80¥,兆聲頻率為8501(取,清洗時(shí)間為10111丨11。最后,在室溫條件下,將碲鎘汞浸入清洗液b中進(jìn)行兆聲清洗,清洗液b是鹽酸和雙氧水的混合液,其體積比為:HCl:H2O2:H2O = 1: 1:10,兆聲功率為80W,兆聲頻率為850KHz,清洗時(shí)間為15min。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種碲鎘汞材料的表面清洗方法,其特征在于清洗方法步驟如下: 1)在室溫條件下,將碲鎘汞材料浸入MOS級(jí)三氯乙烯溶液,進(jìn)行功率40?100W、頻率750?950KHz的兆聲清洗,清洗時(shí)間為3?1min; 2)將碲鎘汞材料浸入冰點(diǎn)的溴和乙醇混合液中,溴與乙醇體積比為1:(5?20),腐蝕時(shí)間為60?120s; 3)在室溫條件下,將碲鎘汞材料浸入清洗液a進(jìn)行兆聲清洗,所述的清洗液a是氫氧化銨和雙氧水的混合液,其體積比為:NH4OH: H2O2: H2O = (I?1): 1: 120,兆聲功率為40?100W,兆聲頻率為750?950KHz,清洗時(shí)間為3?15min; 4)在室溫條件下,將碲鎘汞材料浸入清洗液b進(jìn)行兆聲清洗,所述的清洗液b是鹽酸和雙氧水的混合液,其體積比為:HCl: H2O2: H2O = 1:1: (5?15),兆聲功率為40?10W,兆聲頻率為750?950KHz,清洗時(shí)間為10?20min; 5)對(duì)碲鎘汞材料進(jìn)行氮?dú)飧稍铩?br>【專利摘要】本發(fā)明公開了一種碲鎘汞材料的表面清洗方法,其包括對(duì)清洗液的選擇和清洗步驟。針對(duì)碲鎘汞表面存在的沾污,本發(fā)明選用MOS級(jí)三氯乙烯、溴-乙醇、清洗液a和清洗液b對(duì)碲鎘汞表面進(jìn)行清洗處理。另外,合理的清洗步驟能獲得較好的清洗效果。首先,本發(fā)明對(duì)碲鎘汞表面進(jìn)行三氯乙烯的兆聲清洗,目的是去除表面有機(jī)物。然后,對(duì)碲鎘汞表面進(jìn)行溴-乙醇腐蝕,目的是去除表面損傷和部分沾污。最后,先后使用清洗液a和清洗液b對(duì)碲鎘汞表面進(jìn)行兆聲清洗,目的是去除表面離子沾污。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是:對(duì)離子沾污的清洗效果顯著,清洗效果穩(wěn)定,引入新污染少。
      【IPC分類】H01L21/02
      【公開號(hào)】CN105655237
      【申請?zhí)枴?br>【發(fā)明人】蘭添翼, 趙水平, 劉詩嘉, 王妮麗, 徐國慶, 朱龍?jiān)?
      【申請人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所
      【公開日】2016年6月8日
      【申請日】2016年1月15日
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
      1