技術(shù)編號(hào)：10049554
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利說明(一)本實(shí)用新型屬于低溫磁控濺射鍍膜，可用于光學(xué)，電學(xué)和機(jī)械等領(lǐng)域的塑料件真空鍍膜技術(shù)。(二)技術(shù)背景塑料件真空鍍膜時(shí)，由于真空鍍膜層的形成實(shí)際上是汽化的金屬物質(zhì)以氣態(tài)原子或原子團(tuán)方式沉積在塑料表面，沉積速率不高，膜層很薄，厚度僅在數(shù)十至幾百納米左右，不足以覆蓋塑料基體表面的粗糙度和其他一些缺陷，耐磨性也不好。若要提高耐磨性，必須增加金屬或陶瓷膜層厚度，形成致密無缺陷的表面，然而目前的真空鍍膜技術(shù)還難以實(shí)現(xiàn)，而且也不經(jīng)濟(jì)，因此在實(shí)際使用中，經(jīng)常摩擦...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。