技術(shù)編號(hào):10093490
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及譜域干涉(Spectral interferometry)技術(shù),尤其涉及一種基于譜域干涉儀的折射率和厚度同步測(cè)量系統(tǒng)。背景技術(shù)折射率是表征材料光學(xué)特性的重要參量,對(duì)于光學(xué)設(shè)計(jì)、光波傳播等科研和工業(yè)領(lǐng)域都有著廣泛的影響。折射率與材料本身的微觀結(jié)構(gòu)相關(guān),并隨外界參量如溫度、電磁場(chǎng)、壓力等的變化而變化,從而產(chǎn)生一系列的光學(xué)現(xiàn)象,如光的色散效應(yīng)、克爾效應(yīng)、法拉第效應(yīng)、光彈效應(yīng)等。因此精確測(cè)量材料的折射率以及折射率隨外界參量變化的函數(shù)關(guān)系具有重要意義。...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。