技術(shù)編號(hào):10463545
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。在光學(xué)試驗(yàn)中,光學(xué)平臺(tái)是極其精密的重要試驗(yàn)設(shè)備,它需要具有高度的抗振性能和形狀穩(wěn)定性能,它是由光學(xué)平臺(tái)和支撐裝置結(jié)合而成,光學(xué)平臺(tái)置于具有隔振系統(tǒng)的支撐裝置之上,以減少外界振動(dòng)對(duì)試驗(yàn)產(chǎn)生的影響,同時(shí)也保持光學(xué)平臺(tái)上表面的高度水平,光學(xué)試驗(yàn)元件通過(guò)螺釘固定在光學(xué)平臺(tái)上表面上形成光路系統(tǒng)。光學(xué)平臺(tái)本身的形狀的穩(wěn)定是實(shí)現(xiàn)光學(xué)試驗(yàn)成敗的重要環(huán)節(jié),它受到其本身的重力和試驗(yàn)元件重力影響以及環(huán)境溫度的影響產(chǎn)生形變,直接干擾光學(xué)試驗(yàn)的結(jié)果,因此,需要是光學(xué)平臺(tái)具有較高的結(jié)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。