技術編號:10476025
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。以往,在例如用于制造半導體元件的光刻工序中,主要使用步進重復方式的縮小投影曝光裝置(所謂的步進機)、或者步進掃描方式的掃描型投影曝光裝置(所謂的掃描步進機(也稱為掃描機))等逐次移動型的投影曝光裝置。在這種投影曝光裝置中,設有能夠在二維平面內移動的晶片載臺,通過固定在該晶片載臺上的晶片保持器,以真空吸附或靜電吸附等保持晶片。作為晶片保持器而存在各種類型,近年來,比較多地使用頂銷夾頭(pinchuck)式的晶片保持器。另外,在晶片載臺上,設有用于將晶片交付到...
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