技術編號：10536745
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。隨著半導體工藝的發(fā)展，且隨著特質線寬的縮小，工藝復雜程度的提高，束流的均勻性和穩(wěn)定性對于離子注入系統(tǒng)愈發(fā)重要，已成為器件成敗與否的重要關鍵。在低能寬帶離子注入機引出束流能量很低、束流很大時，由于空間電荷效應的影響，離子束發(fā)散嚴重，導致束流水平均勻性調節(jié)更加困難，因此如何設計恰當離子光學系統(tǒng)及寬帶束均勻性調節(jié)裝置，同時開發(fā)相應的自動調節(jié)均勻性算法，以保證離子束流均勻性的調節(jié)是寬束離子注入機設備成功的關鍵。寬帶束離子注入機水平均勻性調節(jié)系統(tǒng)涉及很多磁極的調節(jié)，...
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