技術(shù)編號：10598154
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 已知，化學(xué)結(jié)構(gòu)中包含金剛烷的（甲基)丙烯酸酯化合物具有高透明性、耐熱性，能 夠用于光學(xué)材料、防反射涂料、光半導(dǎo)體反射材料、粘接劑、光致抗蝕劑等(專利文獻(xiàn)1~3)。 其中，尤其廣泛用于光致抗蝕劑用途(專利文獻(xiàn)4~8)。 在近年來的光刻工藝中正向微細(xì)化發(fā)展，ArF準(zhǔn)分子激光光刻正在向浸液曝光、進(jìn) 而向雙重圖案化曝光持續(xù)改進(jìn)。另外，對作為次世代光刻技術(shù)而受到注目的利用極端紫外 線(EUV)的光刻、電子束的直接描繪也持續(xù)進(jìn)行著各種開發(fā)。 用于微細(xì)化的光刻工藝的開...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。