技術(shù)編號(hào)：10645763
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。上世紀(jì)80年代開始，磁控濺射技術(shù)得到迅猛發(fā)展，其應(yīng)用領(lǐng)域得到了極大的推廣， 現(xiàn)在磁控鍍膜技術(shù)在鍍膜領(lǐng)域有著舉足輕重的地位，在工業(yè)生產(chǎn)和科學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著極大的作用，在TP及顯示行業(yè)，立式連續(xù)磁控濺射鍍膜作為TP sensor加工的上游顯得尤為重要?，F(xiàn)有技術(shù)如附圖1所示，圖中編號(hào)1-4依次為進(jìn)口室、一級(jí)轉(zhuǎn)換室、二級(jí)轉(zhuǎn)換室、鍍膜前變速室，編號(hào)5-19為工藝室，編號(hào)20-23依次為鍍膜后變速室、一級(jí)轉(zhuǎn)換室、二級(jí)轉(zhuǎn)換室、出口室，MPmolecular pump，即分子...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。